Spin coating. Jiří Frydrych. Tato prezentace je spolufinancována Evropským sociálním fondem a státním rozpočtem České republiky.
|
|
- Helena Králová
- před 7 lety
- Počet zobrazení:
Transkript
1 Spin coating Jiří Frydrych Tato prezentace je spolufinancována Evropským sociálním fondem a státním rozpočtem České republiky.
2 Obsah prezentace Obecný úvod do problematiky nanášení tenkých filmů metodou spin coating Aplikovatelnost spin coatingu Fáze depozičního procesu Výhody a omezení metody Spinner Spin 150 Depozice hematitových fotoelektrod
3 Spin coating Metoda nanášení tenkých filmů (nm-µm) z těkavých roztoků či suspenzí na rovinné substráty. Na vodorovně umístěný substrát je naneseno určité množství kapaliny, která se vlivem centrifugace rovnoměrně rozprostře po celé jeho ploše, přičemž přebytek kapaliny odtéká přes okraje substrátu. Tenké filmy jsou tenké materiálové vrstvy nanesené na substrát, jejichž tloušťka se pohybuje od zlomků nanometrů u monovrstev do několika mikrometrů. Jednoduché vrstvy i multivrstvy.
4 Aplikovatelnost Laboratorní i průmyslové využití: Fotolitografie (čištění, leptání, sušení, nanášení fotorezistu). Optika (absorpční a antireflexní vrstvy). Elektronika (vodivé a polovodivé vrstvy, LCD a OLED displeje). Solární energie (fotovoltaické i fotokatalytické vrstvy). Záznamová média (CD,DVD, BD). Zušlechťování povrchů (antikorozní, samočistící, antibakteriální, biokompatibilní a chemicky i mechanicky odolné vrstvy).
5 Fáze spin coatingu Nanesení kapaliny Urychlení substrátu (odtok přebytku kapaliny) Vícestupňová rotace (zrovnoměrnění vrstvy, vysoušení) Dosoušení na ploténce Kalcinace
6 Faktory ovlivňující depozici Vliv materiálu (viskozita a koncentrace prekurzoru v rozpouštědle, smáčivost, těkavost, obsah pevných částic). Vliv prostředí (teplota, vlhkost, atmosféra, odvod par, turbulence). Stabilita podmínek.
7 Metody nanášení kapaliny na substrát Statická / dynamická: Nakápnutí. Sprejování. Ponoření (dip-spin coating): Manuální / poloautomatické / automatické dávkování.
8 Vliv dynamiky depozice Úhlová rychlost a zrychlení. Doba rotace.
9 Vliv rychlosti odvodu par Odchod plynů ovlivňuje výslednou podobu filmu jak depozice, tak i během dosoušení a kalcinace Skinefekt:
10 Nejběžnější defekty filmů Bubliny: Bubliny obsažené v kapalině. Vadný hrot dávkovacího zařízení. Čmouhy (komety, paprsky): Nerozpuštěné částice. Prostoje mezi nanášením a rotací. Příliš velká rychlost. Víry: Rychlé odpařování rozpouštědla. Kapalina je nanášena excentricky. Vysoké zrychlení a rychlost otáčení. Krátká doba rotace. Středový kruh: Prohnutí substrátu (vakuový držák). Nepokrytá místa: Malý objem nanášené kapaliny. Nízké zrychlení. Dírky: Bubliny v kapalině. Nečistoty v kapalině a na substrátu.
11 Klady a zápory + Průmyslově i laboratorně adoptovaná metoda. + Nízká technologická náročnost. - Nanášení omezeno na rovinné středově symetrické substráty - S rostoucí velikostí substrátu klesá homogenita tloušťky filmu
12 Min. / max. průměr substrátu: 10 mm / 160 mm. Vakuový držák substrátu s adaptérem. Uzavřená NPP hlava. PVC vložky. Integrovaný N2 difuzér. Přesnost rychlosti: ±0,1 ot/min. Paměť na 20 uživatelem definovaných programů s následujícími možnostmi: Počet kroků v jednom programu: 99. Doba trvání jednoho kroku: (1 999) s. Rychlost: ( ) ot/min. Zrychlení: (1 7500) ot/(min.s). Programovatelné spínání 2 reléových kontaktů.
13 Tandemový fotokatalytický článek
14 Příprava hematitových fotoelektrod metodou spin coating z prekurzoru FeCl 3 Prekurzor Fe: FeCl3 6H2O Prekurzor Sn: Bezvodý SnO2 Míra dopace Sn:Fe: 0:100 až 20:100 Rozpouštědlo: THF Substrát: Kalcinace: Muflová pec; RT-650 C; 1,5 C/min Objem deponované kapaliny: 150 μl 1. krok: 1000 RPM, 30 s, 2000 RPM/s 2. krok: 4500 RPM, 180 s, 2000 RPM/s TEC 15 FTO (F:SnO2); mm
15 SEM EDX AFM
16 GAXRD CEMS Vzorek (míra dopace Sn:Fe) SEXTET DUBLET FWHM [mm/s] Bhf [mm/s] EQ [mm/s] δ [mm/s] RA [%] FWHM [mm/s] 0:100 0,27 51,1-0,23 0,37 100,0-0,0 8:100 0,34 50,6-0,24 0,38 100,0-0,0 16:100 0,34 50,4-0,20 0,36 73,7 0,42 Vzorek (míra dopace Sn:Fe) FWHM [º] Průměrná velikost koherentních domén [nm] Reziduální pnutí (micro strain) [%] Standard 0, :100 0, ,033 8:100 0, ,025 16:100 0, ,085 EQ [mm/s] 0,90 RA [%] 26,3
17 Měření fotokatalytické účinnosti
18 Výstupy Ověřená technologie (12/2010): A-Z Elektro (4/2010): Technologie výroby nanostrukturovaných fotokatalyticky aktivních hematitových filmů metodou spin coating z prekurzoru FeCl3. Nové postupy depozice nanokrystalických hematitových vrstev pro solární štěpení vody. Přihláška se žádostí o udělení patentu a o zápis užitného vzoru (3/2011). Chemistry of Materials (asi 4/2011): Easy realizable low-cost method for fabrication of efficient hematite photoelectrodes: Benefit of tin doping. Fond partnerství Program Švýcarsko-české spolupráce: 5. cyklus (žádosti do , hodnocení do ). Sivula-Grätzel (-Benvenuti-Sandu?). 170tis.-4,3 mil. Kč, doba řešení 18 měsíců.
19 Otázky & komentáře Děkuji za pozornost.
Nanokrystalické tenké filmy oxidu železitého pro solární štěpení vody
Nanokrystalické tenké filmy oxidu železitého pro solární štěpení vody J. Frydrych, L. Machala, M. Mašláň, J. Pechoušek, M. Heřmánek, I. Medřík, R. Procházka, D. Jančík, R. Zbořil, J. Tuček, J. Filip a
VíceCo je litografie? - technologický proces sloužící pro vytváření jemných struktur (obzvláště mikrostruktur a nanostruktur)
Co je litografie? - technologický proces sloužící pro vytváření jemných struktur (obzvláště mikrostruktur a nanostruktur) -přenesení dané struktury na povrch strukturovaného substrátu Princip - interakce
VíceTento dokument je na internetu na adrese: http://ufmt.vscht.cz (Elektronické pomůcky) Celý návod bude k dispozici ve vytištěné formě v laboratoři
Tento dokument je na internetu na adrese: http://ufmt.vscht.cz (Elektronické pomůcky) Celý návod bude k dispozici ve vytištěné formě v laboratoři, VŠCHT Praha Spin Coating Návod k laboratorní práci Spin
VíceVakuová technika. Výroba tenkých vrstev vakuové naprašování
VYSOKÉ UČENÍ TECHNICKÉ V BRNĚ FAKULTA ELEKTROTECHNIKY A KOMUNIKAČNÍCH TECHNOLOGIÍ Vakuová technika Výroba tenkých vrstev vakuové naprašování Tomáš Kahánek ID: 106518 Datum: 17.11.2010 Výroba tenkých vrstev
VíceVyužití technologie Ink-jet printing pro přípravu mikro a nanostruktur II.
Ústav fyziky a měřicí techniky Vysoká škola chemicko-technologická v Praze Využití technologie Ink-jet printing pro přípravu mikro a nanostruktur II. Výrobci, specializované technologie a aplikace Obsah
VícePříprava vrstev metodou sol - gel
VYSOKÁ ŠKOLA CHEMICKO-TECHNOLOGICKÁ Ústav skla a keramiky Příprava vrstev metodou sol - gel Základní pojmy Sol - koloidní suspenze, ve které jsou homogenně dispergované pevné částice s koloidními rozměry
VíceTechnické specifikace přístrojů pro část B zadávací dokumentace veřejné zakázky Laboratorní přístroje II pro projekt UniCRE
Příloha č. 2 Technické specifikace přístrojů pro část B zadávací dokumentace veřejné zakázky Laboratorní přístroje II pro projekt UniCRE Laboratorní muflové pece Muflová pec, 1ks Identifikace: LP-EF1 Použití:
VíceTenká vrstva - aplikace
Poznámka: tyto materiály slouží pouze pro opakování STT žáků SPŠ Na Třebešíně, Praha 10; s platností do r. 2016 v návaznosti na platnost norem. Zákaz šíření a modifikace těchto materiálů. Děkuji Ing. D.
VíceNano a mikrotechnologie v chemickém inženýrství. Hi-tech VYSOKÁ ŠKOLA CHEMICKO-TECHNOLOGICKÁ V PRAZE ÚSTAV CHEMICKÉHO INŽENÝRSTVÍ
Nano a mikrotechnologie v chemickém inženýrství Hi-tech VYSOKÁ ŠKOLA CHEMICKO-TECHNOLOGICKÁ V PRAZE ÚSTAV CHEMICKÉHO INŽENÝRSTVÍ Hi-tech Nano a mikro technologie v chemickém inženýrství umožňují: Samočisticí
Více1. Řešitelský kolektiv: VŠCHT Praha: Prof. Dr. Ing. Josef Krýsa Ing. Jiří Zita, PhD Ing. Martin Zlámal
Příloha - Závěrečná zpráva - Centralizovaný projekt č. C40: Laboratoř pro přípravu a testování samočisticích vlastností tenkých nanočásticových vrstev Program na podporu vzájemné spolupráce vysokých škol
VíceTechnické specifikace přístrojů pro část A zadávací dokumentace veřejné zakázky Laboratorní přístroje II - opakované pro projekt UniCRE
Příloha č. 1 Technické specifikace přístrojů pro část A zadávací dokumentace veřejné zakázky Laboratorní přístroje II - opakované pro projekt UniCRE Laboratorní muflové pece Muflová pec, 1ks Identifikace:
VíceZákladní typy článků:
Základní typy článků: Články z krystalického Si c on ta c t a ntire fle c tio n c o a tin g Tenkovrstvé články N -ty p e P -ty p e Materiály a technologie pro fotovoltaické články Nové materiály Gratzel,
VíceKrystalinita. Krystalinita. Kanálová struktura. Částicová fáze
Krystalinita Kanálová struktura 45 15 Krystalinita Částicová fáze 46 15 Fotokatalýza Oxidace NO, acetaldehydu Degradace kyseliny olejové Degradace 4-chlórfenolu Proč tyto reakce? ISO standardy pro testování
VíceMUKOADHEZIVNÍ ORÁLNÍ FILMY
Návod na cvičení pro skupinu č. 1 MUKOADHEZIVNÍ ORÁLNÍ FILMY Cílem praktické části cvičení je příprava a hodnocení dvou druhů MOF: MOF-A: 4 % sodná sůl karboxymethylcelulosy (NaCMC), 3 % glycerol, ad 100
VíceTechnologie CMOS. Je to velmi malý svět. Technologie CMOS Lokální oxidace. Vytváření izolačních příkopů. Vytváření izolačních příkopů
Je to velmi malý svět Technologie CMOS Více než 2 000 000 tranzistorů v 45nm technologii může být integrováno na plochu tečky za větou. From The Oregonian, April 07, 2008 Jiří Jakovenko Struktury integrovaných
VícePlazmová depozice tenkých vrstev oxidu zinečnatého
Plazmová depozice tenkých vrstev oxidu zinečnatého Bariérový pochodňový výboj za atmosférického tlaku Štěpán Kment Doc. Dr. Ing. Petr Klusoň Mgr. Zdeněk Hubička Ph.D. Obsah prezentace Úvod do problematiky
VíceVÍTÁM VÁS NA PŘEDNÁŠCE Z PŘEDMĚTU TCT
VÍTÁM VÁS NA PŘEDNÁŠCE Z PŘEDMĚTU TCT opakování Jeden směr křížem Cros - cros náhodně náhodně náhodně NT ze staplových vláken vlákna pojená pod tryskou Suchá technologie Mokrá technologie vlákna Metody
VíceTřífázové trubkové reaktory se zkrápěným ložem katalyzátoru. Předmět: Vícefázové reaktory Jméno: Veronika Sedláková
Třífázové trubkové reaktory se zkrápěným ložem katalyzátoru Předmět: Vícefázové reaktory Jméno: Veronika Sedláková 3-fázové reakce Autoklávy (diskontinuální) Trubkové reaktory (kontinuální) Probublávané
VíceUhlíkové struktury vázající ionty těžkých kovů
Uhlíkové struktury vázající ionty těžkých kovů 7. června/june 2013 9:30 h 17:30 h Laboratoř metalomiky a nanotechnologií, Mendelova univerzita v Brně a Středoevropský technologický institut Budova D, Zemědělská
VíceNÁSTROJ NEFUNGUJE, KDO ZA TO MŮŽE?
NÁSTROJ NEFUNGUJE, KDO ZA TO MŮŽE? Příspěvek je ve sborníku na str. 67-72, přednáška na www.ateam.zcu.cz Antonín Kříž 3/37 4/37 Čas jsou peníze Systém tenká vrstva-substrát Vrstva Rozhraní Substrát Deponované
VíceChemické metody plynná fáze
Chemické metody plynná fáze Chemické reakce prekurzorů lze aktivovat i UV zářením PHCVD. Foton aktivuje molekuly nebo atomy, které pak vytvářejí volné radikály nesoucí hodně energie > ty pak rozbijí velké
VíceTechnologie a vlastnosti tenkých vrstev, tenkovrstvé senzory
Vysoká škola chemicko-technologická v Praze Technologie a vlastnosti tenkých vrstev, tenkovrstvé senzory Technologie CVD, PVD, PECVD, MOVPE, MBE, coating technologie (spin-, spray-, dip-) Ondřej Ekrt Vymezení
VíceTECHNOLOGICKÉ PROCESY PŘI VÝROBĚ POLOVODIČOVÝCH PRVKŮ I. APLIKACE LITOGRAFIE
TECHNOLOGICKÉ PROCESY PŘI VÝROBĚ POLOVODIČOVÝCH PRVKŮ I. APLIKACE LITOGRAFIE Úvod Litografické technologie jsou požívány při výrobě integrovaných obvodů (IO). Výroba IO začíná definováním jeho funkce a
VíceFotokatalytická oxidace acetonu
Fotokatalytická oxidace acetonu Hana Žabová 5. ročník Doc. Ing. Bohumír Dvořák, CSc Osnova 1. ÚVOD 2. CÍL PRÁCE 3. FOTOKATALYTICKÁ OXIDACE Mechanismus Katalyzátor Nosič-typy Aparatura 4. VÝSLEDKY 5. ZÁVĚR
VíceREAKTIVNÍ MAGNETRONOVÉ NAPRAŠOV. Jan VALTER HVM Plasma s.r.o. www.hvm.cz
REAKTIVNÍ MAGNETRONOVÉ NAPRAŠOV OVÁNÍ Jan VALTER SCHEMA REAKTIVNÍHO NAPRAŠOV OVÁNÍ zdroj výboje katoda odprašovaný terč plasma inertní napouštění plynů reaktivní zdroj předpětí p o v l a k o v a n é s
VíceVAKUOVÁ TECHNIKA VYSOKÉ UČENÍ TECHNICKÉ V BRNĚ. Semestrální projekt FAKULTA ELEKTROTECHNIKY A KOMUNIKAČNÍCH TECHNOLOGIÍ VYSOKÉ UČENÍ TECHNICKÉ V BRNĚ
VYSOKÉ UČENÍ TECHNICKÉ V BRNĚ FAKULTA ELEKTROTECHNIKY A KOMUNIKAČNÍCH TECHNOLOGIÍ VYSOKÉ UČENÍ TECHNICKÉ V BRNĚ VAKUOVÁ TECHNIKA Semestrální projekt Téma: Aplikace vakuového napařovaní v optice Vypracoval:
VíceMikro a nanotribologie materiály, výroba a pohon MEMS
Tribologie Mikro a nanotribologie materiály, výroba a pohon MEMS vypracoval: Tomáš Píza Obsah - Co je to MEMS - Materiály pro MEMS - Výroba MEMS - Pohon MEMS Co to je MEMS - zkratka z anglických slov Micro-Electro-Mechanical-Systems
VíceNanolitografie a nanometrologie
Nanolitografie a nanometrologie 1 Nanolitografie 2 Litografie svazkem 3 Softlitografie 4 Skenovací nanolitografie Nanolitografie Poznámky k tvorbě nanostruktur tvorba užitečných nanostruktur vyžaduje spojení
VíceCEPLANT Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
CEPLANT Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy Operační program Výzkum a Vývoj pro Inovace prioritní osa 2.1 Regionální VaV centra Reg.č. CZ.1.05/2.1.00/03.0086
VíceStanovení sedimentační stability a distribuce velikosti částic na přístroji LUMisizer
Návody pro laboratorní cvičení z technologie mléka 1/6 Stanovení sedimentační stability a distribuce velikosti částic na přístroji LUMisizer Popis zařízení LUMisizer je temperovaná odstředivka, která umožňuje
VíceFotovoltaický článek. Struktura na které se při ozáření generuje napětí. K popisu funkce se používá náhradní schéma
Fotovoltaický článek Struktura na které se při ozáření generuje napětí K popisu funkce se používá náhradní schéma V-A charakteristika fotovoltaických článků R s I Paralelní odpor R p Sériový odpor R S
VíceLasery v mikroelektrotechnice. Soviš Jan Aplikovaná fyzika
Lasery v mikroelektrotechnice Soviš Jan Aplikovaná fyzika Obsah Úvod Laserové: žíhání rýhování (orýsování) dolaďování depozice tenkých vrstev dopování příměsí Úvod Vysoká hustota výkonu laseru změna struktury
Víceurychlit sedimentaci pevných částic v hustota, viskozita
Centrifugace Literatura Centrifugace Důvodem použití centrifug je nutnost urychlit sedimentaci pevných částic v kapalném prostředí. Nasedimentacimávliv 1. vlastnost látky: velikost, tvar, hustota 2. vlastnost
VíceNetkané textilie. Materiály 2
Materiály 2 1 Pojiva pro výrobu netkaných textilií Pojivo je jednou ze dvou základních složek pojených textilií. Forma pojiva a jeho vlastnosti předurčují technologii a podmínky procesu pojení způsob rozmístění
VícePOPIS NOVÝCH STRUKTURNÍCH FÁZÍ A JEJICH VLIV NA VLASTNOSTI CÍNOVÉ KOMPOZICE STANIT
POPIS NOVÝCH STRUKTURNÍCH FÁZÍ A JEJICH VLIV NA VLASTNOSTI CÍNOVÉ KOMPOZICE STANIT Antonín Kříž Univerzitní 22, 306 14 Plzeň, e-mail: kriz@kmm.zcu.cz Příspěvek vznikl ve spolupráci s firmou GTW TECHNIK
VíceCOMPARISON PROPERTIES AND BEHAVIOUR OF SYSTEM WITH THIN FILMS PREPARED BY DIFFERENT TECHNOLOGIES
POROVNÁNÍ VLASTNOSTÍ A CHOVÁNÍ SYSTÉMŮ S TENKÝMI VRSTVAMI Z RŮZNÝCH TECHNOLOGICKÝCH PROCESŮ COMPARISON PROPERTIES AND BEHAVIOUR OF SYSTEM WITH THIN FILMS PREPARED BY DIFFERENT TECHNOLOGIES Ivo Štěpánek
Více12. SUŠENÍ. Obr. 12.1 Kapilární elevace
12. SUŠENÍ Při sušení odstraňujeme z tuhého u zadrženou kapalinu, většinou vodu. Odstranění kapaliny z tuhé fáze může být realizováno mechanicky (filtrací, lisováním, odstředěním), fyzikálně-chemicky (adsorpcí
VíceZákladní typy článků:
Základní typy článků: Články z krystalického Si c on ta c t a ntire fle c tio n c o a tin g Tenkovrstvé články N -ty p e P -ty p e Materiály a technologie pro fotovoltaické články Nové materiály Gratzel,
VíceSkenovací tunelová mikroskopie a mikroskopie atomárních sil
Skenovací tunelová mikroskopie a mikroskopie atomárních sil M. Vůjtek Tento projekt je spolufinancován Evropským sociálním fondem a státním rozpočtem České republiky v rámci projektu Vzdělávání výzkumných
VíceSEZNAMTE SE S FIRMOU PUREON. Čištění stroj. součástí a výr. zařízení Recyklace drahých kovů Rafinace drahých kovů.
SEZNAMTE SE S FIRMOU PUREON Čištění stroj. součástí a výr. zařízení Recyklace drahých kovů Rafinace drahých kovů February 4, 2013 AGENDA Úvod Služby v průmyslových odvětvích Příklady služeb Výrobní možnosti
VíceMetoda sol-gel verze 2013
Metoda sol-gel verze 2013 Historie nejstarší příprava silikagelu 1939 patent na výrobu antireflexních vrstev na fotografické čočky 60. léta studium vrstev SiO 2 a TiO 2 70. léta výroba plochých skel s
VíceTECHNOLOGICKÉ PROCESY PŘI VÝROBĚ POLOVODIČOVÝCH PRVKŮ II.
TECHNOLOGICKÉ PROCESY PŘI VÝROBĚ POLOVODIČOVÝCH PRVKŮ II. 1. OXIDACE KŘEMÍKU Oxid křemíku SiO2 se během technologického procesu užívá k vytváření: a) Maskovacích vrstev b) Izolačních vrstev (izolují prvky
VíceTechnické specifikace přístrojů pro část A zadávací dokumentace veřejné zakázky Laboratorní sušárny, pece a vývěvy pro projekt UniCRE
Příloha č. 1 Technické specifikace přístrojů pro část A zadávací dokumentace veřejné zakázky Laboratorní sušárny, pece a vývěvy pro projekt UniCRE Sušárny Identifikace: LS-EF1 Použití: Rozehřívání a sušení
VíceFiltrace 18.9.2008 1
Výpočtový ý seminář z Procesního inženýrství podzim 2008 Filtrace 18.9.2008 1 Tématické okruhy principy a instrumentace bilance filtru kalolis filtrace za konstantní rychlosti filtrace za konstantního
VíceElektricky vodivý iglidur F. Produktová řada Elektricky vodivý Vysoká pevnost v tlaku Dobrá tepelná odolnost Vysoká hodnota pv Dobrá chemická odolnost
Elektricky vodivý Produktová řada Elektricky vodivý Vysoká pevnost v tlaku Dobrá tepelná odolnost Vysoká hodnota pv Dobrá chemická odolnost 59 Elektricky vodivý. Materiál je extrémní tuhý a tvrdý, kromě
Více1.1.1 Hodnocení plechů s povlaky [13, 23]
1.1.1 Hodnocení plechů s povlaky [13, 23] Hodnocení povlakovaných plechů musí být komplexní a k určování vlastností základního materiálu přistupuje ještě hodnocení vlastností povlaku v závislosti na jeho
VícePLOCHÉ SLUNEČNÍ KOLEKTORY REGULUS
PLOCHÉ SLUNEČNÍ KOLEKTORY REGULUS Ploché sluneční kolektory se vyznačují velkou plochou zasklení a velkým absorbérem. Jejich výkon je při plném slunečním záření velký. Využívají většinu sluneční energie,
VícePlazmatické metody pro úpravu povrchů
Plazmatické metody pro úpravu povrchů Aleš Kolouch Technická Univerzita v Liberci Studentská 2 461 17 Liberec 1 Obsah 1. Plazma 2. Plazmové stříkání 3. Plazmové leptání 4. PVD 5. PECVD 6. Druhy reaktorů
VíceTechnický list Prášková nátěrová hmota
Technický list Prášková nátěrová hmota BU Powder Coatings Popis produktu je práškový základní nátěr (primer) obsahující zinek určený ke zvýšené ochraně měkké oceli před korozí. je epoxy-polyesterový primer,
VíceA1 - Automatický programovatelný metalografický lis
Zařízení umožňuje a splňuje následující požadované parametry 1 : A1 - Automatický programovatelný metalografický lis A. Součástí dodávky jsou cylindry pro výrobu vzorků průměru 30 mm a 40 mm. B. Zařízení
VíceVY_32_INOVACE_ENI_3.ME_18_Technologie polovodičových součástek. Střední odborná škola a Střední odborné učiliště, Dubno Ing.
Číslo projektu Číslo materiálu CZ.1.07/1.5.00/34.0581 VY_32_INOVACE_ENI_3.ME_18_Technologie polovodičových součástek Název školy Střední odborná škola a Střední odborné učiliště, Dubno Autor Ing. Miroslav
Víceiglidur UW500 Pro horké tekutiny iglidur UW500 Pro použití pod vodou při vysokých teplotách Pro rychlé a konstantní pohyby
Pro horké tekutiny iglidur Pro použití pod vodou při vysokých teplotách Pro rychlé a konstantní pohyby 341 iglidur Pro horké tekutiny. Kluzná pouzdra iglidur byla vyvinuta pro aplikace pod vodou při teplotách
VíceAPLIKAČNÍ TECHNOLOGIE
APLIKAČNÍ TECHNOLOGIE nanášení pájecích past, lepidel, tavidel aj. sítotisk šablonový tisk dispenze pin transfer. Zařízení ruční poloautomatická automatická in line nebo off line PLATÍ ZÁSADA: dobře natisknuto
VícePevné lékové formy. Vlastnosti pevných látek. Charakterizace pevných látek ke zlepšení vlastností je vhodné využít materiálové inženýrství
Pevné lékové formy Vlastnosti pevných látek stabilita Vlastnosti léčiva rozpustnost krystalinita ke zlepšení vlastností je vhodné využít materiálové inženýrství Charakterizace pevných látek difraktometrie
VíceChemické metody přípravy tenkých vrstev
Chemické metody přípravy tenkých vrstev verze 2013 Povrchové filmy monomolekulární Langmuirovy filmy PAL (povrchově aktivní látky) na polární kapalině (vodě), 0,205 nm 2 na 1 molekulu, tloušťka dána délkou
VíceGlass temperature history
Glass Glass temperature history Crystallization and nucleation Nucleation on temperature Crystallization on temperature New Applications of Glass Anorganické nanomateriály se skelnou matricí Martin Míka
VíceVícefázové reaktory. MÍCHÁNÍ ve vsádkových reaktorech
Vícefázové reaktory MÍCHÁNÍ ve vsádkových reaktorech Úvod vsádkový reaktor s mícháním nejběžnější typ zařízení velké rozmezí velikostí aparátů malotonážní desítky litrů (léčiva, chemické speciality, )
VíceHodnoticí standard. Smaltér (kód: H) Odborná způsobilost. Platnost standardu. Skupina oborů: Strojírenství a strojírenská výroba (kód: 23)
Smaltér (kód: 23-067-H) Autorizující orgán: Ministerstvo průmyslu a obchodu Skupina oborů: Strojírenství a strojírenská výroba (kód: 23) Týká se povolání: Zušlechťovač kovů Kvalifikační úroveň NSK - EQF:
Více4. Vytváření. 2. Vytváření tažením z tvárného (plastického) těsta z těsta % vlhkost. Tlak průměrně 0,5-3,5 MPa. Šnekový lis.
4. Vytváření - převedení polydisperzního systému výrobní směsi v kompaktní systém konkrétních geometrických rozměrů (= výlisek). - změna tvaru a změna vzájemné polohy částic působením vnějších sil. 1.
VíceVLIV VYBRANÝCH PARAMETRŮ TECHNOLOGICKÉHO PROCESU NA VLASTNOSTI A CHOVÁNÍ SYSTÉMŮ TENKÁ VRSTVA SUBSTRÁT
VLIV VYBRANÝCH PARAMETRŮ TECHNOLOGICKÉHO PROCESU NA VLASTNOSTI A CHOVÁNÍ SYSTÉMŮ TENKÁ VRSTVA SUBSTRÁT THE INFLUENCES OF SELECTED PARAMETERS OF TECHNOLOGICAL PROCESS ON PROPERTIES AND BEHAVIOUR OF SYSTEMS
VíceZMENY POVRCHOVÝCH MECHANICKÝCH VLASTNOSTÍ SYSTÉMU S TENKÝMI VRSTVAMI PO KOMBINOVANÉM NAMÁHÁNÍ. Roman Reindl, Ivo Štepánek
ZMENY POVRCHOVÝCH MECHANICKÝCH VLASTNOSTÍ SYSTÉMU S TENKÝMI VRSTVAMI PO KOMBINOVANÉM NAMÁHÁNÍ Roman Reindl, Ivo Štepánek Západoceská univerzita v Plzni, Univerzitní 22, 306 14 Plzen, CR, ivo.stepanek@volny.cz
Vícepříloha C zadávací dokumentace pro podlimitní veřejnou zakázku Laboratorní přístroje pro LF MU TECHNICKÉ PODMÍNKY (technická specifikace)
příloha C zadávací dokumentace pro podlimitní veřejnou zakázku Laboratorní přístroje pro LF MU TECHNICKÉ PODMÍNKY (technická specifikace) Část 1 Biologické inkubátory CO2 8 ks - vnitřní objem 170-190 litrů
VíceTEPLOTNÍ ODOLNOST PVD VRSTEV VŮČI LASEROVÉMU POVRCHOVÉMU OHŘEVU
TEPLOTNÍ ODOLNOST PVD VRSTEV VŮČI LASEROVÉMU POVRCHOVÉMU OHŘEVU Beneš, P. 1 Sosnová, M. 1 Kříž, A. 1 Vrstvy a Povlaky 2007 Solaň Martan, M. 2 Chmelíčková, H. 3 1- Katedra materiálu a strojírenské metalurgie-
VícePro vysoké rychlosti pod vodou
Pro vysoké rychlosti pod vodou iglidur Produktová řada Pro aplikace pod vodou Pro rychlý a konstantní pohyb Dlouhá životnost HENNLICH s.r.o. Tel. 416 711 338 Fax 416 711 999 lin-tech@hennlich.cz www.hennlich.cz
VíceVyužití plazmových metod ve strojírenství. Metody depozice povlaků a tenkých vrstev
Využití plazmových metod ve strojírenství Metody depozice povlaků a tenkých vrstev Metody depozice povlaků Využití plazmatu pro depozice (nanášení) povlaků a tenkých vrstev je moderní a stále častěji aplikovaná
VíceRozložený pohled. Bezpečnostní spojení Chrání motor před poškozením. Kompaktní konstrukce Umožňuje rychlou výměnu čerpadla a motoru
Sudová čerpadla Rozložený pohled Bezpečnostní spojení Chrání motor před poškozením HD-E1-V HD-E2-V HD-A1 HD-A2 HD-A6 Kompaktní konstrukce Umožňuje rychlou výměnu čerpadla a motoru Vysoce kvalitní ložiskový
VíceMAGNETICKÉ NANOČÁSTICE
MAGNETICKÉ NANOČÁSTICE Jana Chomoucká Investice do rozvoje vzdělávání Obsah Úvod Vlastnosti MNPs Využití MNPs Metody přípravy MNPs na bázi oxidů železa Co je to nanotechologie? Obor zabývající se tvorbou
VíceAnalýza PIN-on-DISC. Ing. Jiří Hájek Dr. Ing. Antonín Kříž ZÁPADOČESKÁ UNIVERZITA V PLZNI
Analýza PIN-on-DISC Ing. Jiří Hájek Dr. Ing. Antonín Kříž ZÁPADOČESKÁ UNIVERZITA V PLZNI 1/18 TRIBOLOGICKÝ PROCES Tribological process Factors that influence the process: loading, loading type, movement
VíceInovativní výrobky a environmentální technologie (reg. č. CZ.1.05/3.1.00/ ) ENVITECH
Inovativní výrobky a environmentální technologie (reg. č. CZ.1.05/3.1.00/14.0306) ENVITECH Zpráva o řešení IA 01 Využití přírodních organicko-anorganických plniv v polymerních systémech Vedoucí aktivity:
VíceNÁSTROJ NEFUNGUJE, KDO ZA TO MŮŽE?
NÁSTROJ NEFUNGUJE, KDO ZA TO MŮŽE? Vstupní přednáška pro problematiku: Nástrojové oceli Slinuté karbidy Depozice tenkých vrstev Předmět SMA Doc.Dr.Ing. Antonín Kříž 3/37 Čas jsou peníze 4/37 Systém tenká
VíceVypalovací program 15 minut při 180 C (teplota objektu) 10 minut při 200 C
Informace uváděné v tomto technickém listu jsou všeobecné pro řadu APP 120. Určité produkty v řadě se mohou různit od všeobecného. Pro tyto výrobky jsou k dispozici individuální technické listy výrobku.
VíceMíchání a homogenizace směsí Míchání je hydrodynamický proces, při kterém je různými způsoby vyvoláván vzájemný pohyb částic míchaného materiálu.
Míchání a homogenizace směsí Míchání je hydrodynamický proces, při kterém je různými způsoby vyvoláván vzájemný pohyb částic míchaného materiálu. Účelem mícháním je dosáhnout dokonalé, co nejrovnoměrnější
VíceProduktová řada Elektricky vodivý Vysoká pevnost v tlaku Dobrá tepelná odolnost Vysoká hodnota pv Dobrá chemická odolnost
Elektricky vodivý iglidur Produktová řada Elektricky vodivý Vysoká pevnost v tlaku Dobrá tepelná odolnost Vysoká hodnota pv Dobrá chemická odolnost HENNLICH s.r.o. Tel. 416 711 338 ax 416 711 999 lin-tech@hennlich.cz
VíceTECHNICKÁ SPECIFIKACE Vybavení genetické laboratoře pro projekt EXTEMIT-K
TECHNICKÁ SPECIFIKACE Vybavení genetické laboratoře pro projekt EXTEMIT-K část D OBSAH Ultrazvuková lázeň... 2 Mikrovlnná trouba... 3 Mrazák... 4 Lednice... 5 Lednice s mrazákem I... 6 Lednice s mrazákem
VíceHODNOCENÍ POVRCHOVÝCH ZMEN MECHANICKÝCH VLASTNOSTÍ PO ELEKTROCHEMICKÝCH ZKOUŠKÁCH. Klára Jacková, Ivo Štepánek
HODNOCENÍ POVRCHOVÝCH ZMEN MECHANICKÝCH VLASTNOSTÍ PO ELEKTROCHEMICKÝCH ZKOUŠKÁCH Klára Jacková, Ivo Štepánek Západoceská univerzita v Plzni, Univerzitní 22, 306 14 Plzen, CR, ivo.stepanek@volny.cz Abstrakt
VíceTenké vrstvy pro lékařství 1. Laserové vrstvy ( metody přípravy vrstev, laser, princip metody pulzní laserové depozice PLD, růst vrstev, )
Tenké vrstvy pro lékařství 1. Laserové vrstvy ( metody přípravy vrstev, laser, princip metody pulzní laserové depozice PLD, růst vrstev, ) 2. Vybrané vrstvy a aplikace - gradientní vrstvy, nanokrystalické
VícePřehled metod depozice a povrchových
Kapitola 5 Přehled metod depozice a povrchových úprav Tabulka 5.1: První část přehledu technologií pro depozici tenkých vrstev. Klasifikované podle použitého procesu (napařování, MBE, máčení, CVD (chemical
VíceVulmkoriz-Pur OIL. Vulmkoriz-Pur OIL je jednosložková, vzduchem vytvrzovaná polyuretanová antikorozní nátěrová hmota
Technický list Datum vydání 04/2014 Vulmkoriz-Pur OIL ROPOVODY, PLYNOVODY Popis výrobku: Vulmkoriz-Pur OIL je jednosložková, vzduchem vytvrzovaná polyuretanová antikorozní nátěrová hmota pigmentovaná zinkofosfátem.
VíceINTERAKCE IONTŮ S POVRCHY II.
Úvod do fyziky tenkých vrstev a povrchů INTERAKCE IONTŮ S POVRCHY II. Metody IBA (Ion Beam Analysis): pružný rozptyl nabitých částic (RBS), detekce odražených atomů (ERDA), metoda PIXE, Spektroskopie rozptýlených
VíceMikrosenzory a mikroelektromechanické systémy. Odporové senzory
Mikrosenzory a mikroelektromechanické systémy Odporové senzory Obecné vlastnosti odporových senzorů Odporové senzory kontaktové Měřící potenciometry Odporové tenzometry Odporové senzory teploty Odporové
Více3. FILTRACE. Obecný princip filtrace. Náčrt. vstup. suspenze. filtrační koláč. výstup
3. FILTRACE Filtrace je jednou ze základních technologických operací, je to jedna ze základních jednotkových operací. Touto operací se oddělují pevné částice od tekutiny ( směs tekutiny a pevných částic
VíceODŮVODNĚNÍ VEŘEJNÉ ZAKÁZKY
ODŮVODNĚNÍ VEŘEJNÉ ZAKÁZKY s názvem PULSNÍ LASEROVÁ DEPOZICE CEITEC MU vyhotovené podle 156 zákona č. 137/2006 Sb., o veřejných zakázkách, v platném znění (dále jen Zákon o VZ) 1. ODŮVODNĚNÍ ÚČELNOSTI
VíceVLIV PŘÍPRAVY POVRCHU A NEHOMOGENIT TLOUŠŤKY VRSTEV NA CHOVÁNÍ TENKOVRSTVÝCH SYSTÉMŮ
VLIV PŘÍPRAVY POVRCHU A NEHOMOGENIT TLOUŠŤKY VRSTEV NA CHOVÁNÍ TENKOVRSTVÝCH SYSTÉMŮ INFLUENCE OF PREPARING SURFACE AND INHOMOGENEITY OF THICKNESS FILMS ON BEHAVIOUR THIN FILMS SYSTEMS Abstrakt Ivo ŠTĚPÁNEK
VícePřednáška 3. Napařování : princip, rovnovážný tlak par, rychlost vypařování.
Přednáška 3 Napařování : princip, rovnovážný tlak par, rychlost vypařování. Realizace vypařovadel, směrovost vypařování, vypařování sloučenin a slitin, Vypařování elektronovým svazkem a MBE Napařování
VíceMOLYDUVAL Speciální maziva
MOLYDUVAL Speciální maziva MOLYDUVAL Tutela antikorozní prostředky 1 Všeobecně k ochraně proti korozi... 2 2 Příčiny vzniku koroze... 2 3 MOLYDUVAL antikorozní prostředky... 3 3.3 s olejovým filmem...
VícePlanitop Rasa & Ripara R4
Planitop Rasa & Ripara R RYCHLETVRDNOUCÍ CEMENTOVÁ MALTA TŘÍDY R NA OPRAVY A VYHLAZOVÁNÍ BETONOVÝCH POVRCHŮ výrobek na vyhlazení a opravu betonových povrchů Pouze Nanášení Planitop Rasa & Ripara R zednickou
VíceObrábění slitiny AlSi1Mg0,5Mn nástroji s progresivními tenkými vrstvami
Obrábění slitiny AlSi1Mg0,5Mn nástroji s progresivními tenkými vrstvami Antonín Kříž, Miroslav Zetek, Jan Matějka, Josef Formánek, Martina Sosnová, Jiří Hájek, Milan Vnouček Příspěvek vznikl na základě
VíceNízká cena při vysokých množstvích
Nízká cena při vysokých množstvích iglidur Vhodné i pro statické zatížení Bezúdržbový provoz Cenově výhodné Odolný vůči nečistotám Odolnost proti vibracím 225 iglidur Nízká cena při vysokých množstvích.
VíceTECHNOLOGICKÉ PROCESY PŘI VÝROBĚ POLOVODIČOVÝCH PRVKŮ III.
TECHNOLOGICKÉ PROCESY PŘI VÝROBĚ POLOVODIČOVÝCH PRVKŮ III. NANÁŠENÍ VRSTEV V mikroelektronice se nanáší tzv. tlusté a tenké vrstvy. a) Tlusté vrstvy: Používají se v hybridních integrovaných obvodech. Nanáší
VícePro vysoká zatížení iglidur Q
Pro vysoká zatížení Produktová řada Vynikající odolnost proti opotřebení, zejména pro extrémní zatížení Doporučeno pro extrémní pv hodnoty Dobrý koeficient tření Necitlivé na znečištění 541 Pro vysoká
VíceTECHNICKÁ SPECIFIKACE Vybavení genetické laboratoře pro projekt EXTEMIT-K
TECHNICKÁ SPECIFIKACE Vybavení genetické laboratoře pro projekt EXTEMIT-K část C OBSAH Termostabilní inkubační box... 2 Vodní lázeň s kontrolou teploty... 3 Biohazard box... 4 Inkubátor buněčných kultur...
VíceNANOTECHNOLOGIE VE VÝUCE NA ČVUT FEL NANOTECHNOLOGY IN EDUCATION AT CTU FEE
NANOTECHNOLOGIE VE VÝUCE NA ČVUT FEL NANOTECHNOLOGY IN EDUCATION AT CTU FEE Ivana Pilarčíková, Josef Sedláček, Jan Lipták, Václav Bouda ČVUT-FEL, Technická 2, 166 27 Praha 6, ČR, pilarcik@fel.cvut.cz Abstrakt
VíceTECHNICKÁ SPECIFIKACE Laboratorní vybavení pro laboratoře projektu EXTEMIT- K část A
TECHNICKÁ SPECIFIKACE Laboratorní vybavení pro laboratoře projektu EXTEMIT- K část A OBSAH Ultrazvuková lázeň I... 2 Ultrazvuková lázeň II... 3 Mikrovlnná trouba... 4 Mrazicí box... 5 Lednice... 6 Lednice
VícePROTOKOL O PROVEDENÍ ZRYCHLENÉHO MTP TESTU
strana 1/ celkem 12 1. ÚVOD 1. Záměr Nástřiky u nádobí jsou náchylné k opotřebení a poškození poškrábáním a proříznutím kovovým náčiním. Odolnost vůči tomuto druhu poškození se obvykle měří pomocí tzv.
VíceOTEVÍRÁME CENTRUM PRO INOVACE V OBORU
OTEVÍRÁME CENTRUM PRO INOVACE V OBORU NANOMATERIÁLŮ A NANOTECHNOLOGIÍ Ústav fyzikální chemie J. Heyrovského AV ČR, v.v.i. Projekt Centrum pro inovace v oboru nanomateriálů a nanotechnologií s číslem CZ
VíceOtázky pro samotestování. Téma1 Sluneční záření
Otázky pro samotestování Téma1 Sluneční záření 1) Jaká je vzdálenost Země od Slunce? a. 1 AU b. 6378 km c. 1,496 x 10 11 m (±1,7%) 2) Jaké množství záření dopadá přibližně na povrch atmosféry? a. 1,60210-19
VícePotenciostat. Potenciostat. stav 03.2009 E/04
Všeobecně V moderních vodárnách, bazénech a koupalištích je třeba garantovat kvalitu vody pomocí automatických měřicích a regulačních zařízení. Měřicí panel PM 01 slouží ke zjišťování parametrů volného
VíceCYKLICKÁ VRYPOVÁ ZKOUŠKA PRO HODNOCENÍ VÝVOJE PORUŠENÍ A V APROXIMACI ZKOUŠKY OPOTŘEBENÍ. Markéta Podlahová, Ivo Štěpánek, Martin Hrdý
CYKLICKÁ VRYPOVÁ ZKOUŠKA PRO HODNOCENÍ VÝVOJE PORUŠENÍ A V APROXIMACI ZKOUŠKY OPOTŘEBENÍ. Markéta Podlahová, Ivo Štěpánek, Martin Hrdý Západočeská univerzita v Plzni, Univerzitní 22, 306 14 Plzeň, ČR,
VíceFotovoltaické systémy
Fotovoltaické systémy Prof. Ing. Vitězslav Benda, CSc ČVUT Praha, Fakulta elektrotechnická katedra elektrotechnologie 1000 W/m 2 Na zemský povrch dopadá část záření pod úhlem ϕ 1 6 MWh/m 2 W ( ϕ) = W0
Více