Nanogrant KAN ( )

Podobné dokumenty
Plazmatické metody pro úpravu povrchů

KAN ( ) Nanostruktury na bázi uhlíku a polymerů pro využití v bioelektronice a medicíně

galvanicky chemicky plazmatem ve vakuu Vrstvy ve vakuu MBE Vakuová fyzika 2 1 / 39

Anotace přednášek LŠVT 2015 Česká vakuová společnost. Téma: Plazmové technologie a procesy. Hotel Racek, Úštěk, 1 4. června 2015

Vzdělávání výzkumných pracovníků v Regionálním centru pokročilých technologií a materiálů reg. č.: CZ.1.07/2.3.00/

NANOSTRUKTURY NA BÁZI UHLÍKU A POLYMERU PRO VYUŽITÍ V BIOELEKTRONICE A V MEDICÍNE

Plazmová depozice tenkých vrstev oxidu zinečnatého

Nanotechnologie a Nanomateriály na PřF UJEP Pavla Čapková

Vytváření tenkých speciálních vrstev metodou plazmochemické depozice z plynné fáze

PRINCIPY ZAŘÍZENÍ PRO FYZIKÁLNÍ TECHNOLOGIE (FSI-TPZ-A)

Metody depozice povlaků - CVD

Přehled metod depozice a povrchových

Uhlíkové struktury vázající ionty těžkých kovů

Vakuové metody přípravy tenkých vrstev

Iradiace tenké vrstvy ionty

Plazmové metody Materiály a technologie přípravy M. Čada

Vybrané technologie povrchových úprav. Metody vytváření tenkých vrstev Doc. Ing. Karel Daďourek 2008

Využití plazmových metod ve strojírenství. Metody depozice povlaků a tenkých vrstev

Základy obsluhy plazmatických reaktorů, seznámení s laboratorní technikou

Tenké vrstvy pro lékařství 1. Laserové vrstvy ( metody přípravy vrstev, laser, princip metody pulzní laserové depozice PLD, růst vrstev, )

DOUTNAVÝ VÝBOJ. Další technologie využívající doutnavý výboj

NANOSTRUKTURY NA BÁZI UHLÍKU A POLYMERU PRO VYUŽITÍ V BIOELEKTRONICE A V MEDICÍNE

ODŮVODNĚNÍ VEŘEJNÉ ZAKÁZKY

Experimentální laboratoře (beamlines) ve Středoevropské synchrotronové laboratoři (CESLAB)

Nabídkový list spolupráce 2014

Nahlédnutí pod pokličku vývoje SHM: Magnetronové naprašování. Počítačová simulace procesu

V001 Dokončení a kalibrace experimentálních zařízení v laboratoři urychlovače Tandetron

VYSOKÉ UČENÍ TECHNICKÉ V BRNĚ Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií Ústav mikroelektroniky

Adresa místa konání: Na Slovance 2, Praha 8 Cukrovarnická 10, Praha 6

REAKTIVNÍ MAGNETRONOVÉ NAPRAŠOV. Jan VALTER HVM Plasma s.r.o.

Oddělení fyziky vrstev a povrchů makromolekulárních struktur

Využití plazmochemické redukce pro konzervaci archeologických nálezů

Plazma v technologiích

Jiří Oswald. Fyzikální ústav AV ČR v.v.i.

Zobrazování s využitím prostorového modulátoru světla

Co je litografie? - technologický proces sloužící pro vytváření jemných struktur (obzvláště mikrostruktur a nanostruktur)

T E CH N I C K Á D O K U M E N T A C E

PROJEKT CENTRUM PRO INOVACE V OBORU

Depozice uhlíkových nanotrubek metodou PECVD a jejich analýza

DODATEČNÉ INFORMACE Č. 2

Pavel Matějka

Tenká vrstva - aplikace

Typy interakcí. Obsah přednášky

Využití fotonických služeb e-infrastruktury pro přenos ultrastabilních optických frekvencí

Metody charakterizace

Laserové technologie

INTERAKCE IONTŮ S POVRCHY II.

Materiálový výzkum na ústavu anorganické chemie. Ondřej Jankovský

DIG. Digestoř laboratorní. 1200/1500/1800/2100 x 930 x 2500 mm. Rozměry: šířka x hloubka x výška. Popis: DKN

Plynové lasery pro průmyslové využití

Fotonické sítě jako médium pro distribuci stabilních signálů z optických normálů frekvence a času

FYZIKA VE FIRMĚ HVM PLASMA

: REVITALIZACE PROSTOR ÚSTAVU 423, OBJ.B AREÁL MENDELU, ZEMĚDĚLSKÁ 1, BRNO

Měření a automatizace

V rámci rekonstrukce bytového jádra nedojde ke změně dispozičního řešení bytové jednotky a nebude zasahováno do nosných konstrukcí objektu.

TENKOVRSTVÁ TECHNOLOGIE HYDROGENOVANÉHO KŘEMÍKU PRO FOTOVOLTAICKÉ APLIKACE. oddělení tenkých vrstev F Y Z I K Á L N Í Ú S T A V A V Č R P R A H A

1. Řešitelský kolektiv: VŠCHT Praha: Prof. Dr. Ing. Josef Krýsa Ing. Jiří Zita, PhD Ing. Martin Zlámal

Instalace. Instalace

Zápis z 38. jednání Rady ÚJF AV ČR, v. v. i. dne

TECHNICKÁ DATA. montáž: 4-6 hodin demontáž: 3-5 hodiny obsazení: 2-4 osoby

D Zařízení silnoproudé a slaboproudé elektrotechniky. Měřítko: Formát: P. kopií: Č. kopie: Archivní číslo: Revize:

Návod pro Laboratoř oboru Výroba léčiv

13. Spektroskopie základní pojmy

Základní charakteristika výzkumné činnosti Ústavu fyzikální chemie

Vysoké frekvence a mikrovlny

STAVEBNÍ ÚPRAVA OBJEKTU S PRODEJNOU POTRAVIN, parc. č ŽADATEL: OÚ Voznice Voznice Dobříš ZPRACOVATEL DOKUMENTACE :

V Rmax 3500 V T = 125 o C I. no protons

Modulace a šum signálu

Návrh stínění a témata k řešení

Adresa místa konání: Na Slovance 2, Praha 8 Cukrovarnická 10, Praha 6

Elektronová Mikroskopie SEM

Sledování procesu kompostování metodou EIS Projekt - Nová technologie kompostování, projekt č. CZ /0.0/0.0/15_019/004646

Výzkum slitin titanu - od letadel po implantáty

Studentská 1402/ Liberec 1 tel.: cxi.tul.cz. Technologická zařízení

Základní typy článků:

Nanokrystalické tenké filmy oxidu železitého pro solární štěpení vody

Zdroje optického záření

Univerzita Tomáše Bati ve Zlíně Fakulta technologická. Ing. Ondřej Hudeček Ing. Tomáš Sedláček, PhD.

CENTRUM PRO INOVACE V OBORU

Laboratoř pro přípravu a charakterizaci polovodičových struktur na bázi nitridů LABONIT, registrační číslo projektu CZ.2.16/3.1.

Lasery v mikroelektrotechnice. Soviš Jan Aplikovaná fyzika

Centrum výzkumu a využití obnovitelných zdrojů energie (CVVOZE) Regionální výzkumné centrum

SPOLUPRÁCE WESTINGHOUSE S ČVUT A FZÚ AV ČR

T-BOX OBLAST INSTALACE. TABULKA PRO VÝBĚR CENTRÁLNÍ JEDNOTKY T-Box PŘÍNOSY A VLASTNOSTI OBYTNÉ PROSTORY. IP stupeň ochrany

2 ano ne ano ne

METODY CHARAKTERIZACE POLOVODIVÝCH TERMOELEKTRICKÝCH MATERIÁLŮ

Tenké vrstvy GaN dopované přechodnými kovy

Techniky prvkové povrchové analýzy elemental analysis

Diamantu podobné uhlíkové vrstvy pro pokrytí kloubních náhrad

Centrum urychlovačů a jaderných analytických metod (CANAM)

OTEVÍRÁME CENTRUM PRO INOVACE V OBORU

Seznam řešených projektů včetně informací o délce trvání projektu, objemu a poskytovateli finančních prostředků

Dílčí cíle projektu a jejich plnění v roce 2006 (ÚJF AV ČR - laboratoř Tandetronu)

Blue-light LED, modrá

ZADAVATEL: Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. Sídlem: Na Slovance 2, Praha 8 doc. Jan Řídký, DrSc., ředitel IČ:

Obecný popis rodinného domu EDC

Nové NIKON centrum excelence pro super-rezoluční mikroskopii v Ústavu molekulární genetiky Akademie věd ČR

TECHNOLOGICKÉ PROCESY PŘI VÝROBĚ POLOVODIČOVÝCH PRVKŮ III.

ZÁPADOČESKÁ UNIVERZITA V PLZNI FAKULTA ELEKTROTECHNICKÁ

Transkript:

Nanogrant KAN400480701 (2007 2011) Nanostruktury na bázi uhlíku a polymerů pro využití v bioelektronice a medicíně Ústav jaderné fyziky AV ČR, Mgr. Jiří Vacík, CSc., koordinátor projektu ( Výroční seminář - FGÚ AV ČR, 12. 02. 2010 ) FZÚ AV ČR, v.v.i. Na Slovance 2 182 21 Praha 8 Spoluřešitelský tým Fyzikálního ústavu AV ČR (podle projektové dokumentace) F.Fendrych, M.Nesládek, J.Musil, M.Crhán, M.Vaněč ěček, Š.Potocký Pracovní skupina materiálů pro nanosystémy a biorozhraní (MNB) F.Fendrych, M.Nesládek, J.Musil, M.Crhán, A.Taylor, L.Peksa, I.Kratochvílová, PhD studenti: J.Vlček, V.Řezáčová, A.Kovalenko Diplomanti: V.Petrák, J.Krucký

Nanogrant KAN400480701 ČASOVÝ POSTUP ŘEŠENÍ ( úkoly projektu pro Fyzikální ústav AV ČR ) : 2007: B3: Optimalizace plazmatu a plazmo-chemických procesů (PECVD) k dosažení růstu vrstev NCD definované orientace a velikosti zrn, povrchové hrubosti a vhodné elektronické kvality (sp3 vázaný, nízká hustota stavu; v zakázaném pásu). 2008 B3: Optimalizace uspořádání mikrovlnných PECVD systému k ověření principu depozice NCD (scalability) na velké plochy. Tato otázka je podstatná pro budoucí možné prumyslové využití. NCD vrstvy budou dále použity k povrchovým modifikacím s použitím iontové mikrosondy (unikátního zařízení, které bude v roce 2007 instalováno v ÚJF AV ČR v Reži). 2009 B3: Charakterizace strukturních (Raman, XRD, neutronová difrakce), elektrických, optických (transmise, reflexe, fototermální deflekce) a elektrochemických vlastností vrstev NCD včetne vrstev NCD s povrchovými modifikacemi (iontovým mikrosvazkem). Použití modifikovaných (strukturovaných) povrchu; substrát; ke studiu adheze a růstu buněk, jejich dobu života (survival rate) a studium biokompatibility modifikovaných diamantových povrchů.

Nanogrant KAN400480701 ČASOVÝ POSTUP ŘEŠENÍ ( úkoly projektu pro Fyzikální ústav AV ČR ) : 2010 B3: Konstrukce jednoduchých bioelektronických součástek jako např. aktivní nanoelektrody či polní tranzistory typu ISFET, založené na modifikaci vlastností povrchového kanálu nízkoenergetickou iontovou implantací. Vývoj a ověření této metody, charakterizace součástek a demonstrace přenosu elektrických signálů mezi polovodičovou součástkou a živou buněčnou tkání v přímém kontaktu. 2011 B3: Konstrukce jednoduchých bioelektronických součástek jako např. aktivní nanoelektrody či polní tranzistory typu ISFET, založené na modifikaci vlastností povrchového kanálu nízkoenergetickou iontovou implantací. Vývoj a ověření této metody, charakterizace součástek a demonstrace přenosu elektrických signálů mezi polovodičovou součástkou a živou buněčnou tkání v přímém kontaktu. ZDUVODNĚNÍ FINANČNÍCH NÁKLADU FZÚ AV ČR 1. INVESTIČNÍ NÁKLADY. Pro první rok rešení projektu (2007) plánujeme zakoupení komplexu elektronického mikrovlnného generátoru pro ECR plazma. Tato investice je nezbytná pro generování mikrovlnného výboje v režimu elektronové cyklotronové rezonance (ECR), který (v atmosfére metan CH4 + argon Ar) umožní depozice (ultra- )nanokrystalických diamantových vrstev s velikostí zrn cca 5-15 nm. Vhodné zarízení bude urceno na základe výberového rízení z ruzných nabídek. Jako vhodné konkrétní zarízení se nyní jeví komplex mikrovlnného generátoru nemecké firmy ROTH GmbH pracující na frekvenci 2,45 GHz s výkonem 3,5 kw, jehož soucasná cena (bez DPH) ciní více než 35.000,-EUR. Odpisová skupina 1-27, SKP 33.2, celková doba odpisu 3 roky, od AV CR se nárokuje úcelová podpora 100 % celkové ceny s DPH, tj. celkem investice 1,3 miliónu Kc.

pracovní plyny chladič Návrh instalací v laboratoři FZÚ 026 voda- -vzduch Klimatizace, chladicí výkon 6,5 kw, mírný přetlak, pokojová teplota +- 3 C Odtah plynů z digestoře, 300 m3 / hod Odtah plynů od vývěv, ventilátor 100 m3 / hod, provoz přerušovaný v cca 1 hod intervalech Stlačený vzduch, čistý, rozvod FZÚ Slovanka PVD3 CVD1 Stlačený dusík N2 a Ar, z lahví, na profukování Rozvod pracovních plynů - H2, CH4, TMB, Ar, N2 Přípojka vodovodní vody, odtok stačí tlakový (oliva) Chladič voda-vzduch chladicí výkon 20 kw, teploměr vody prac. stůl Přítok a odtok sekundárního chladicího okruhu ukončený ventilem a průtokoměrem 380 V, 3-fázové přípojky, celkový výkon max. 30 kw CVD2 220 V / 16 A, panely zásuvek s vypínačem posuvné dveře 2-křídlé vstupní komora digestoř flow box Rozvodná deska, centrální vypínače, pojistky Připojení počítačové sítě, optické kabely, internet Umyvadlo rohové nebo obdélníkové protipožární dveře, šířka 110 cm Osvětlení laboratoře a vstupní komory, stropní desky CVD1, CVD2, PVD3... technologické aparatury Verze 3.7.2008, FZÚ, F.Fendrych, mobil 739 776 660

Přřestavba suterénní laboratořře 026 ve FZÚ AV ČR ( včetně instalačního zázemí pro novou aparaturu )

Lineární antény (MW aplikátory)

Větvené distributory výstupu signálu z MW generátoru do antén Only this branch will be built and used at first Rectangular waveguide from magnetron Coaxial power distributor Open coaxial MW power distributor with top halp removed

Pulzní MW plazma (1) Argon Plasma 1.7 mbar 10 kw pulses Duty 20% Various pulse frequencies: Light from plasma Microwave Pulse (f/r) On: 10 ms Off: 40 ms 20 Hz (markers 1->, 2->, 3-> designate individual base lines of signal = 0 value) On: 5 ms Off: 20 ms 40 Hz

Pulzní MW plazma (2) On: 2.5 ms Off: 10 ms 80 Hz On: 1.25 ms Off: 5 ms 160 Hz On: 0.1 ms Off: 0.4 ms 2,000 Hz On: 0.025 ms Off: 0.1 ms 10,000 Hz

MW PE CVD systém s lineárními anténami (zkonstruovaný ve FZÚ AV ČR)

MW výboj v komoře aparatury při velkoplošné depozici

Mikroskopie atomárních sil (AFM) deponovaných NCD vrstev

Ramanova spektroskopie Raman spectroscopy (488nm) - corrected data Sample: L09010-E optická mikroskopie 1.40E+05 1.20E+05 1.00E+05 L09010-E Pos B L09010-E Pos C L09010-E Pos D L09010-E Pos E L09010-E Pos F L09010-E Pos G L09010-E Pos H L09010-E Pos I L09010-E Pos J L09010-E Pos K Centre A B Intensity (counts) 8.00E+04 6.00E+04 Midway C 4.00E+04 Edge 2.00E+04 D 0.00E+00 1100 1200 1300 1400 1500 1600 1700 Wavenumber (cm-1)

Nanogrant KAN400480701