Technické podmínky "SUSEN - Zařízení pro TEM laboratoř"

Transkript

1 Číslo Technické a funkční vlastnosti Technické podmínky "SUSEN - Zařízení pro TEM laboratoř" 1. Kupující v zadávacím řízení poptal dodávku zařízení vyhovujícího následujícím technickým požadavkům: Předmětem zakázky "Zařízení pro TEM laboratoř" je: Transmisní elektronový mikroskop (TEM) určený primárně pro charakterizaci materiálů ozářených neutrony. TEM s všestranným využitím v materiálovém výzkumu umožňující studium struktury, krystalografie a chemického složení až v subnanometrické úrovni (tzv. HR-(S)TEM). Elektronový zdroj FEG, maximální urychlovací napětí 200 kv nebo 300 kv. Práce v různých módech TEM např. Selected Area Diffraction (SAED), Nano-Beam Electron Diffraction (NBED), Convergent Beam Electron Diffraction (CBED). Skenovací jednotka STEM a detektory pro STEM: High Angle Annular Dark Field (HAADF), Angular Dark Field (ADF) a Bright Field (BF). Analytické spektroskopy pro Energy Dispersive X-ray (EDX) a Electron Energy Loss Spectroscope (EELS). Energiový filtr pro Energy Filtering TEM (EFTEM). Digitální kamery pro záznam obrazu a difrakce. Držáky TEM vzorků vhodné pro analýzy chemického složení (vč. tzv. Low-Background Double Tilt Holder (LBDT)), krystalografie a pro 3D tomografii. SW vybavení pro komplexní analýzy (kalibrovaný záznam obrazu/difrakce, zpracování obrazu, měření, hodnocení spekter EDX a EELS, EFTEM mapování, 3D tomografie ad.). Součástí dodávky TEM jsou i periferní technologická zařízení nezbytná pro provoz TEM (uzavřený chladící okruh, UPS, kompresor, rotační pumpa ad.). Součástí zakázky je kromě mikroskopu TEM také: Plasma cleaner, Vakuová stanice pro TEM držáky, Elektrolytická leštička pro výrobu tenkých TEM fólií, Stereomikroskop, Aktivní systém kompenzace elektromagnetického pole, Trojnohý držák pro přesné ztenčování TEM vzorků. Požadovaná hodnota či vlastnost Zařízení pro TEM laboratoř - stručný popis částí zařízení a1 Transmisní elektronový mikroskop TEM a2 Elektronový zdroj mikroskopu je typu FEG a3 Nejvyšší (standardní) urychlovací napětí mikroskopu je alespoň 200 kv nebo vyšší a4 Z vnějšku tubusu mikroskopu musí být možné bezpečně připevnit olověný ochranný kryt o tloušťce alespoň 0,5 cm v oblasti komory vzorku a čelní části tubusu, který musí chránit obsluhu TEM (především hlavu a horní část těla) vůči radioaktivnímu záření gama ze studovaných vzorků a5 Samostatný zvedací mechanismus vhodný pro servis dodaného mikroskopu a6 Motorizované optické clony mikroskopu a7 Náhradní sada všech optických clon mikroskopu TEM a8 Plně eucentrický goniometr v 5 osách a9 Antikontaminační LN2 past chránící oblast vzorek proti kontaminaci a10 Jednonáklonový držák a11 Dvounáklonový analytický držák, beriliový s nízkým pozadím (tj. LBDT) a12 Držák TEM vzorků pro 3D tomografii a13 Plně digitalizovaná a integrovaná STEM jednotka pro skenování elektronovým svazkem a14 STEM detektor HAADF (instalován v pozici "wide-angle", tj. nad stínítkem)

2 a15 STEM detektor ADF (instalován v pozici "bottom-mounted", tj. pod stínítkem) a16 STEM detektor BF (instalován v pozici "bottom-mounted", tj. pod stínítkem) a17 Detektor EDS, technologie SDD, bezokénkový a18 První digitální kamera instalovaná v pozici "wide-angle", tj. nad stínítkem a19 Druhá digitální kamera instalovaná v pozici "bottom-mounted", tj. pod stínítkem a20 Energiový filtr pro EFTEM a spektrometr EELS v "post-column" uspořádání a21 SW pro 3D tomografii a22 Standardizované vzorky pro kalibraci zvětšení obrazu a difrakce a pro ověření rozlišení mikroskopu a23 Fluorescenční stínítko a24 Počítače mikroskopu a jeho příslušenství pro ukládání, zpracování a analýzu dat a25 Barevná (CMYK) inkoustová tiskárna (formát A4) a26 UPS (zajištění alespoň 30 minut autonomie za plného chodu mikroskopu) a27 Uzavřený chladící okruh TEM a28 Kompresor a29 Rotační vakuové vývěvy a30 Aktivní kompenzace elektromagnetického pole a31 Plasma cleaner a32 Vakuová stanice pro TEM držáky a33 Stereomikroskop a34 Trojnohý držák pro přesné ztenčování TEM vzorků a35 Elektrolytická leštička pro výrobu tenkých TEM fólií Elektronový zdroj mikroskopu b1 FEG katoda optimalizovaná pro vysoký a stabilní proud elektronů fokusovaných do velmi úzkého svazku b2 Nejvyšší možné (standardní) urychlovací napětí mikroskopu Alespoň 200 kv či vyšší b3 Nejnižší možné urychlovací napětí mikroskopu Alespoň 80 kv čí nižší b4 Dodaný mikroskop musí být továrně seřízený a zkalibrovaný na nejvyšší (standardní) urychlovací napětí a na nejnižší možné urychlovací napětí a minimálně na jedno urychlovací napětí mezi nejvyšším a nejnižším, na kterém se Prodávající a Kupující dohodnou během realizace b5 Dodaný mikroskop (vč. detektoru EDS, energiového filtru a detektoru EELS) musí být seřízený pro všechna továrně nastavená urychlovací napětí b6 Musí být možné obnovit dodavatelem nastavená seřízení mikroskopu pro všechna továrně nastavená urychlovací napětí, tj. tato seřízení jsou uložena v paměti mikroskopou v tzv. "inženýrském" módu Rozlišení mikroskopu c1 Bodové rozlišení, které umožňuje dodané zařízení mikroskopu nm c2 Liniové / mřížkové rozlišení nm c3 Rozlišení mikroskopu ve STEM módu 0.2 nm Zvětšení mikroskopu při 200 kv d1 Minimální zvětšení - TEM 50x d2 Maximální zvětšení - TEM x d3 Maximální zvětšení - STEM x

3 Požadované pracovní módy a vlastnosti optiky mikroskopu e1 Mikroskop musí umožnit ukládání a načítání uživatelských nastavení optiky mikroskopu e2 Zobrazení elektronové difrakce e3 SAED e4 CBED a Kikuchiho zobrazení difrakce e5 NBED, minimální průměr svazku 0.5 nm e6 Pozorování ve světlém i v tmavém poli e7 Mikroskop musí umožit volbu konvergentního úhlu elektronového svazku pro specifické analýzy (např. EDS, CBED, NBED) e8 Mikroskop musí umožit změnu intenzity svazku (tzv. funkce "spot size") pro dosažení optimálního proudu elektronů ve svazku při specifických analýzách (např. EDS) e9 Modul pro precesi elektronové difrakce (nejvyšší precesní úhel 2, rotace svazku 5 Hz), který musí umožnit mapování krystalografie vzorku ve STEM e10 Dodané zařízení mikroskopu umožňuje pro ultra vysoké rozlišení ( 0,20 nm) vysoké náklony TEM držáku (alespoň ± 80 v ose X s 3 mm TEM vzorky) Požadavky na konstrukci mikroskopu, vakuová soustava f1 Z vnějšku tubusu mikroskopu musí být možné bezpečně připevnit olověný ochranný kryt o tloušťce alespoň 0,5 cm v oblasti komory vzorku a čelní části tubusu, který musí chránit obsluhu TEM (především hlavu a horní část těla) vůči radioaktivnímu záření gama ze studovaných vzorků f2 Součástí dodávky mikroskopu je samostatný zvedací mechanismus vhodný pro servis (rozebírání tubusu apod.) dodaného mikroskopu f3 Úroveň vakua v komoře vzorku musí být 1x10-5 Pa f4 Úroveň vakua v oblasti elektronového děla musí být 5x10-7 Pa f5 Garance zachování autonomie a funkčnosti vakuového systému TEM v případě výpadku operačního systému řídícího počítače mikroskopu Clony optického systému mikroskopu g1 Pohyblivé clony mikroskopu musí být motorizovány a dálkově ovladány (tj. výměna a centrování clon) pomocí SW rozhraní řídícího počítače g2 Clony dodaného mikroskopu musí umožnit plnohodnotné analýzy ve všech požadovaných pracovních módech vč.: STEM, EDS, CBED, NBED, HR-S/TEM, SAED g3 V dodávce je jedna náhradní sada všech optických clon mikroskopu TEM Kalibrační vzorky h1 Dodání kalibračních vzorků pro kalibraci zvětšení obrazu mikroskopu h2 Dodání kalibračních vzorků pro kalibraci zvětšení difrakce mikroskopu h3 Dodání vzorků pro ověření bodového a liniového rozlišení mikroskopu Projekční komora (fluorescenční stínítko) i1 Mikroskop má sklopné fluoroscenční stínítko dostupné pro operátora i2 Stavitelné stínítko primárního difrakčního svazku / ukazovátko i3 Stereomikroskop (binokulár) pro sledování stínítka Goniometr a komora vzorku

4 j1 Plně eucentrický goniometr v 5 osách (tj. lineární posuvy X, Y a Z a úhlové náklony v osách X a Y) j2 Kontrola pohybu vzorku pomocí SW řídícího počítače mikroskopu j3 Mikroskop musí mít nainstalovanou antikontaminační LN2 past chránící oblast vzorku proti kontaminaci j4 Piezoelektrický posuv a piezoelektrická kontrola při pohybu vzorkem j5 Goniometr s funkčním odnímatelným krytem zkonstruovaným proti přenosu akustických vibrací na TEM držák v mikroskopu j6 Vakuový systém komory vzorku musí umožnit zasunutí držáku se vzorkem v čase kratším než 10 minut Držáky TEM vzorků k1 Dodané držáky TEM vzorků musí spolu s dodaným mikroskopem zaručit následující operace: k2 Upnutí TEM fólie s průměrem 3 mm k3 Náklon v jedné ose (X) se standardním TEM vzorkem ( 3 mm) Alespoň +/- 30 k4 Náklon ve dvou osách (X, Y) současně se standardním TEM vzorkem ( 3 mm) Alespoň +/- 30 k5 Náklon v jedné ose (X) alespoň jednoho TEM držáku vhodného pro tomografii (např. s použitím speciálního zakončení držáku) se standardním TEM vzorkem ( 3 mm) Alespoň +/- 60 k6 Analýza chemického složení při nízkém spektru pozadí (tj. LBDT) k7 Musí být dodány alespoň tyto držáky vč. příslušenství: k8 Všechny dodané držáky musí být plně kompatibilní s dodaným mikroskopem k9 Jednonáklonový držák k10 Dvounáklonový analytický držák, berylliový s nízkým pozadím (tj. LBDT) k11 Tomografický držák nebo speciální zakončení držáku, který musí umožňovat vysoký náklon v ose X se standardním TEM vzorkem ( 3 mm) k12 Berylliový mezikroužek pro fixování velmi tenkých TEM fólií v dodaných TEM držácích (pokud to vyžaduje upínací systém dodaných držáků) STEM jednotka l1 Mikroskop musí být vybavený plně digitalizovanou integrovanou STEM jednotkou pro skenování vzorku elektronovým svazkem l2 STEM jednotka musí umožnit akvizici signálů alsespoň z detektorů pro STEM (tj. BF, ADF, HAADF), z EDS detektoru a z energiového filtru l3 Simultánní načítání několika signálů, včetně signálu detektorů EDS a EELS l4 Minimální průměr elektronového svazku ve STEM módu 0.5 nm l5 Mikroskop musí umožnit rotaci STEM obrazu v průběhu pozorování o libovolný celý úhel STEM detektory m1 Všechny STEM detektory musí být v pracovní pozici na ose elektronového svazku m2 STEM detektor HAADF (musí být nainstalován v pozici "wide-angle", tj. nad stínítkem) m3 STEM detektor ADF (musí být nainstalován v pozici "bottom-mounted", tj. pod stínítkem) m4 STEM detektor BF (musí být nainstalován v pozici "bottom-mounted", tj. pod stínítkem) m5 Posuv detektorů HAADF, ADF a BF do pracovní pozice a zpět musí být motorizovaný m6 STEM detektory musí umožnit simultální akvizici obrazu STEM a spekter z detektoru EDS

5 m7 STEM detektory musí umožnit simultální akvizici obrazu STEM a spekter z detektoru EELS m8 EDS detektor STEM detektory musí umožnit simultální akvizici obrazu STEM a spekter z detektorů EDS a EELS n1 SDD technologie detektoru n2 Bezokénkové provedení detektoru n3 Velikost aktivní plochy detektoru EDS Alespoň 80 mm 2 či větší n4 Detektor EDS s automatickou mechanickou ochranou před poškozením při ztrátě požadovaného vakua v mikroskopu n5 Detektor EDS s automatickou mechanickou ochranou před poškozením při vysokém toku elektronů n6 Rozlišení detektoru na Mn Kα Alespoň 136 ev n7 Rozlišení detektoru na C Kα Alespoň 60 ev n8 Zaručená citlivost pro chemické prvky s atomovým číslem Z Z 5 (Bor) n9 Pohyb detektoru EDS musí být plně motorizovaný a musí být dálkově ovládaný pomocí PC (pokud je konstrukce detektoru pohyblivá) n10 Chlazení všech částí detektoru EDS musí být bez LN2 n11 Automatická kompenzace driftu vzorku při dlouhých časech EDS analýzy n12 Automatické odečtení pozadí spektra n13 Automatická identifikace peaků spektra n14 Dekonvoluce překryvu peaků n15 Vytváření reportů/protokolů n16 Export protokolů a dat do produktů MS Office n17 Multiuživatelský systém SW EDS detektoru n18 Bodové kvalitativní a kvantitativní analýzy chemického složení n19 Liniové kvalitativní a kvantitativní analýzy chemického složení n20 Možnost nastavení počtu a rozteče bodů na čáře při liniové analýze n21 Kvalitativní a kvantitativní mapování chemického složení n22 Mapovaní fází n23 Alespoň 5 off-line licencí SW pro samostatně stojící počítače ke kompletnímu hodnocení dat EDS Kamery pro záznam obrazu a videa o1 Všechny kamery a jejich SW musí být zkalibrovány pro všechny zobrazovací a analytické módy mikroskopu o2 Minimální rozlišení kamer musí být alespoň 4 miliony pixelů o3 Minimální rozsah digitalizace obrazu kamer musí být alespoň 14 bitů či více o4 Zasouvání kamer do pracovní polohy a zpět musí být motorizované a dálkově ovládáné pomocí SW mikroskopu o5 Senzor kamer musí být při zasunutí do pracovní pozice na ose elektronového svazku o6 Všechny instalované kamery musí být konstrukčně a geometricky kompatibilní s dodaným mikroskopem a jeho součástmi o7 Všechny kamery pro snímání obrazu a videa tvořeného elektrony musí být od jednoho výrobce a pracovat na jednotném SW

6 o8 Všechny kamery pro snímání obrazu a videa musí být plně kompatibilní s HW a SW instalovaného energiového filtru o9 Formát uložení obrazu dodaných kamer musí být alespoň ve formátu TIFF a JPEG o10 Alespoň jedna kamera musí umožnit ostření obrazu pomocí Fourierovy transformace o11 Alespoň jedna kamera musí být nainstalována nad stínítkem, tj. v pozici "wide-angle" o12 o13 o14 Alespoň jedna kamera musí mít zvýšenou odolnost vůči působení intenzivního elektronového svazku. Tj. zejména při použití nejvyššího urychlovacího napětí mikroskopu a při působení primárního elektronového svazku jednosvazkových difrakcí apod. Kamera odolná vůči působení intenzivního elektronového svazku musí umožnit zobrazení difrakce bez dodatečných pruhových artefaktů - tato kamera má tzv. "anti-blooming" systém Alespoň jedna kamera musí mít velké zorné pole umožňující snímání podstatné části obrazu stínítka, resp. snímání plnohodnotného obrazu i v malých zvětšeních (tj. bez nutnosti dalšího významného snížení zvětšení mikroskopu vedoucího ke snížení kvality obrazu při snímání oblasti zájmu) o15 Alespoň jedna kamera musí být nainstalována pod stínítkem, tj. v pozici "bottom-mounted" o16 Alespoň jedna kamera musí být optimalizovaná pro vysoká rozlišení a zvětšení mikroskopu o17 o18 o19 Minimální rozsah digitalizace obrazu kamery optimalizované pro vysoká rozlišení a zvětšení musí být alespoň 16 bitů či více Alespoň jedna kamera musí mít rychlou odezvu (dle TV standardů) umožňující pozorování a záznam živých obrazů např. při rychlém posuvu vzorkem či při in-situ experimentech při malých i velkých zvětšeních Alespoň jedna kamera musí mít snímkovou frekvenci záznamu videa alespoň 24 fps (frames per second) nebo vyšší o20 Všechny kamery a jejich SW musí umožnit záznam a zpracování videa z in-situ experimentů SW pro záznam a zpracování obrazu a videa p1 Kamery a jejich SW musí uživateli umožnit optimalizovat expozici v průběhu snímání obrazu p2 SW musí umožňovat tyto operace při obrazové analýze: - vložení kalibrovaného měřítka do pořízeného obrazu či videa vzhledem k použitému zvětšení mikroskopu - měření rozměrů (horizontálně, vertikálně a v libovolném úhlu), - měření úhlů, - kalibrované měření mezirovinných krystalografických vzdáleností v reciprokém prostoru, - měření rozložení intenzity jasu (alespoň na určené linii přes oblast zájmu), - FFT pro seřízení astigmatismu a pro zpracování obrazu p3 SW musí umožňovat alespoň tyto grafické úpravy obrazu: - nastavení vhodného jasu a kontrastu pořízených obrazů p4 SW musí umožňovat záznam in-situ videa z dodaných kamer

7 p5 Alespoň 5 off-line licencí každého dodaného SW pro zpracování a analýzu obrazu a videa pro samostatně stojící počítače SW pro pořízení a zpracování 3D tomografie TEM vzorků q1 SW pro získávání sérií obrazů elektronové tomografie při postupném naklápění TEM vzorku o velké úhly q2 SW pro 3D tomografickou rekonstrukci vzorku z pořízených sérií obrazů q3 SW pro 3D renderování tomografického obrazu q4 Dodaný SW pro 3D tomografii TEM vzorků musí umožnit 3D tomografii pomocí STEM detektoru HAADF q5 Všechen dodaný SW pro 3D tomografii musí být nainstalován a nakonfigurován na příslušném počítači mikroskopu TEM q6 Všechen dodaný SW pro 3D tomografii musí být vzájemně kompatibilní a musí být vhodný pro výzkum kovových materiálů pomocí TEM Energiový filtr pro EFTEM a EELS r1 Energiový filtr dodaného mikroskopu musí umožnit analýzu lehkých chemických prvků, izotopické analýzy, filtraci TEM obrazu a difrakce či přesné měření tlouštěk vzorků. Pro dosažení kvalitních výsledků musí filtr splňovat rychlou akvizici EELS spekter, možnost získávat EELS spektra z high- a low- core loss oblasti současně, paralelně analyzovat EELS a EDS spektra. r2 V dodaném mikroskopu musí být nainstalován energiový filtr s požadovanými vlastnostmi, kterým musí odpovídat i dodaný a nainstalovaný SW energiového filtru r3 Energiový filtr musí být seřízen na všechna továrně nastavená urychlovací napětí mikroskopu r4 Filtr je plně kompatibilní s kamerou mikroskopu instalovanou pod stínítkem r5 Filtr musí umožnit energiově filtrované (EFTEM) obrazy TEM vzorků r6 Filtr musí umožnit energiově filtrované (EFTEM) zobrazení elektronové difrakce r7 Filtr musí umožnit EFTEM měření, mapování a profilování tlouštěk TEM vzorků r8 Filtr musí umožnit zaznamenávat spektra EELS ve STEM módu s využitím HAADF i ADF detektoru r9 Filtr musí umožnit zaznamenávat EELS spektra v rozsahu alespoň 2000 ev r10 Minimální rychlost akvizice EELS spekter filtrem musí být alespoň 1000 spekter/s r11 CCD kamera filtru musí být synchronizována se systémem STEM jednotky tak, aby byl mikroskop schopný ve STEM módu získávat EELS spektra s rychlou akvizicí (alespoň 1000 pixelů/s) r12 Systém EELS spektroskopu musí umožnit simultální akvizici dvou různých oblastí EELS spektra (např. "high core-loss" a "low core-loss") r13 Systém EELS spektroskopu musí umožnit vysokorychlostní kompenzaci spekter alespoň do 2000 ev umožňující simultální akvizici dvou různých oblastí EELS spektra r14 Mikroskop musí umožnit simultální akvizici signálu detektorů STEM, EDS a EELS (obou high core-loss a low core-loss spekter současně) r15 Filtr musí umožnit mapování, liniové a bodové analýzy chemického složení pomocí EELS spekter r17 Filtr musí umožnit akvizici signálu více chemických prvků současně a akvizici víceprvkových map analyzované oblasti

8 r16 r18 r19 r20 r21 r22 Mikroskop musí umožnit získání EELS spekter z vybraných bodů analyzované oblasti (tj. z mapy chemického složení této oblasti) s pomocí obrazu pořízeného STEM detektorem SW filtru musí umožnit akvizici a analýzu EDS spektra prostřednictvím systému nainstalovaného EDS detektoru SW filtru musí umožnit ukládat nastavení proběhlých experimentů a používat je při dalších měřeních pro co nejlepší reprodukovatelnost výsledků Filtr musí mít automatickou kompenzaci driftu vzorku při dlouhých časech akvizice EELS spekter Dodání plnohodnotného atlasu EELS spekter keramických, kovových, polymerových a polovodičových materiálů na CD-ROM, alespoň 2 licence, a v knižní podobě, alespoň 2 kusy - nemusí být ekvivalentní s verzí na CD-ROM Počítač filtru: SW a HW musí pracovat v 64-bit architektuře, operační paměť RAM počítače filtru je alespoň 32 GB r23 Alespoň 1 off-line licence SW pro samostatně stojící počítač pro analýzu EELS spekter Počítače mikroskopu a jeho příslušenství s1 Dodané počítače pro mikroskop TEM musí umožnit akvizici a zpracování dat z analytických systémů mikroskopu vč. detektorů EDS a EELS s2 Na všech dodaných počítačích musí být nainstalován operační systém MS Windows, který je optimální pro dodaný mikroskop TEM. Systém MS Windows musí být kompatibilní s používaným systémem Zadavatele, tj. Windows verze 7 s3 Mikroskop a všechen dodaný SW musí být kompatibilní s HW a operačním systémem dodaných počítačů s4 Operační systém a architektura SW a HW všech dodaných systémů mikroskopu TEM je 64-bit. Dodané počítače všech systémů mikroskopu TEM mají operační paměť RAM alespoň 32 GB s5 HW počítačů: s6 Výkon procesoru dodaných počítačů - podle hodnocení v PassMark - CPU Mark Alespoň 8000 či více s7 1. pevný disk pro operační systém: SSD Alespoň 500 GB či více s8 2. pevný disk pro ukládání dat: HDD, SATA III, alespoň 7200 ot./minutu Alespoň 2 TB či více s9 3. pevný disk pro ukládání dat: HDD, SATA III, alespoň 7200 ot./minutu Alespoň 2 TB či více s10 Pevné disky 2. a 3. musí umožnit tzv. zrcadlení (mirroring) svazku pro dosažení vysoké bezpečnosti archivace dat s11 Velikost operační paměti RAM dodaných počítačů Alespoň 4 GB či více s12 DVD mechanika s vypalovačkou CD/DVD, alespoň 16x DVD+/-RW s13 Ovládací rozhraní TEM: s14 Pro posun vzorku ve všech hlavních režimech měření musí být k dispozici m.j. trackball s15 Místní síť: s16 Počítače mikroskopu TEM musí umožnit dálkovou diagnostiku servisním střediskem s17 Dodaný mikroskop je možné dálkově ovládat z přilehlého počítačového centra na stejné chodbě pavilónu. Ovládání mikroskopu a jeho analytických systémů je zprostředkováno obdobným rozhraním jako v laboratoři TEM s využitím adekvátního SW.

9 s18 Monitory: s19 Alespoň 3 samostatné LCD monitory pro mikroskop TEM (např. pro řídící SW mikroskopu, pro promítání obrazu kamer a pro analýzy EDS a EELS) s20 Monitory musí být vyrobeny technologií IPS s21 Úhlopříčka dodaných monitorů Alespoň 24 palců či více s22 Minimální rozlišení monitorů pix či lepší s23 Monitory lze vertikálně otočit o 90 (tj. ze ší řky na výšku) s24 Tiskárna: s25 Barevná (CMYK) inkoustová tiskárna (formát A4) pro tisk pořízených dat v laboratoři TEM s26 Kabinet(y) pro příslušenství mikroskopu: s27 Úložné kabinety pro skladování všech samostatně stojících ovládacích jednotek mikroskopu a jeho příslušenství (např. elektronika EDS, EELS, EFTEM, kamery, STEM apod.) Periferní technologická zařízení nezbytná pro provoz TEM t1 Periferní zařízení budou umístěna v místosti č Technická místnost TEM, případně v místosti č Laboratoř TEM t2 UPS t3 Minimální výdrž UPS při výpadku proudu a při chodu mikroskopu na plný výkon (tj. všeho příslušenství mikroskopu a všech periferních zařízení mikroskopu (vč. chladícího okruhu)) Alespoň 30 minut či více t4 Garance zachování autonomie a funkčnosti vakuového systému TEM v případě výpadku operačního systému řídícího počítače mikroskopu t5 UPS musí napájet také uzavřený chladící okruh mikroskopu TEM t6 Uzavřený chladící okruh mikroskopu TEM t7 Kompresor t8 Rotační vakuové vývěvy t9 Rotační vývěvy a kompresor nesmí při svém chodu ovlivňovat mikroskop vibracemi Aktivní kompenzace elektromagnetického pole u1 Toto zařízení musí umožnit kompenzaci vnějšího elektromagnetického pole, které může působit na dodaný mikroskop od okolních zařízení či technologií a významně degradovat analytické schopnosti dodaného mikroskopu u2 Systém aktivní kompenzace musí být vhodný pro dodaný mikroskop s instalovaným energiovým filtrem u3 Systém aktivní kompenzace musí rušit DC i AC složku elektromagnetického pole u4 Frekvenční rozsah kompenzace musí být alespoň do 1 khz či více u5 Systém aktivní kompenzace musí pracovat alespoň s 6 Helmholtzovými cívkami u6 Systém aktivní kompenzace musí podporovat 2 senzory elektromagnetického pole u7 Systém aktivní kompenzace musí být dodán s 2 senzory elektromagnetického pole u8 Systém aktivní kompenzace musí měřit elektromagnetické pole v osách X, Y, Z u9 Systém aktivní kompenzace musí rušit elektromagnetické pole v osách X, Y, Z Plasma cleaner v1 Plasma cleaner musí umožnit čištění vzorků a TEM držáků od povrchové organické kontaminace

10 v2 Plasma cleaner musí být nainstalován v místnosti přípravny vzorků pro TEM a SEM v3 Plasma cleaner musí čistit vzorky alespoň směsí tvořenou plyny O 2, Ar v4 Plasma cleaner musí umožnit čištění TEM držáků s upevněnou tenkou fólií v5 Plasma cleaner musí být kompatibilní s TEM držáky dodaného mikroskopu v6 Plasma cleaner musí mít port vhodný pro čištění vzorků pro SEM v7 Plasma cleaner musí být dodán s příslušenstvím nezbytným pro čištění SEM vzorků (tj. vhodný držák vzorků apod.) Vakuová stanice pro TEM držáky w1 Vakuová stanice musí umožnit dlouhodobé uchování citlivých částí TEM držáků a uskladnění TEM vzorků ve vakuu, tj. v čistém a suchém prostředí, které chrání držáky a vzorky vůči vzdušné kontaminaci w2 Vakuová stanice musí umožnit uchování držáků a vzorků pod vakuem alespoň 1x10-4 Pa w3 Vakuová stanice a její příslušenství bude instalované v laboratoři TEM w4 Vakuová stanice musí být kompatibilní s TEM držáky dodaného mikroskopu w5 V dodávce musí být alespoň 2 schránky k vakuovému uskladnění TEM vzorků w6 Schránky k vakuovému uskladnění TEM vzorků musí být kompatibilní s dodanou stanicí w7 Počet portů pro uskladnění TEM držáků Alespoň 2 či více w8 Počet portů pro uskladnění TEM vzorků Alespoň 2 či více Stereomikroskop x1 Stereomikroskop musí umožnit přesné manuální zakládání TEM vzorků do TEM držáků a k digitální dokumentaci TEM vzorků. x2 Toto zařízení bude instalované v laboratoři TEM x3 Optický systém stereomikroskopu: x4 Okuláry stereomikroskopu musí být nezávisle zaostřitelné pro korekci vad zraku alespoň ± 3 dioptrie či vyšší x5 Okuláry musí být skloněny směrem k operátorovi vůči ose objektivu alespoň o 20 x6 Požadované užitečné zvětšení stereomikroskopu maximální 50x x7 Konstrukce stereomikroskopu: x8 Stereomikroskop musí být zkonstruovaný tak, aby umožnil zakládání vzorku do dodaných TEM držáků za současného sledování místa zakládání vzorku okuláry stereomikriskopu operátorem x9 Stereomikroskop má port pro zasunutí CCD kamery x10 Světelný zdroj stereomikroskopu: x11 Součástí dodávky stereomikroskopu musí být světelný zdroj x12 Dodaný světelný zdroj musí umožnit změnu intenzity osvětlení x13 Součástí světelného zdroje musí být dva flexibilní světlovody umožňující variabilní boční osvětlení vzorku x14 CCD kamera stereomikroskopu: x15 Stereomikroskop musí být dodaný s kompatibilní CCD kamerou umožňující fotodokumentaci vzorků x16 Minimální rozlišení dodané CCD kamery musí být 4 Mpix x17 Dodaná CCD kamera musí umožňovat barevný záznam obrazu x18 Dodaná CCD kamera musí mít USB port alespoň 2.0 pro přímé spojení s PC

11 x19 Dodaná CCD kamera musí mít port pro paměťové médium x20 Dodaná CCD kamera musí umožňovat záznam do formátu alespoň JPG a TIFF x21 CCD kamera musí být dodána spolu se SW k jejímu ovládání a pro záznam obrazu Trojnohý držák pro přesné ztenčování TEM vzorků y1 y2 Toto zařízení musí umožnit lapování rovinných či příčných TEM vzorků na tloušťky cca 20 µm (např. před použitím FIB techniky "H-bar") Zařízení musí mít 3 mikrometrické šrouby, které musí umožnit přesné nastavení držáku pro lapování vzorků Elektrolytická leštička pro výrobu tenkých TEM fólií z1 Toto zařízení musí umožnit elektrolytické ztenčování tenkých fólií, kdy vzniká uprostřed vzorku díra s okrajem transparentním pro elektrony urychlených v mikroskopu TEM na napětí 200 kv či nižší z2 Toto zařízení bude instalované v přípravně vzorků TEM a SEM z3 Zařízení musí umožnit leštění TEM disků o průměru 3 mm z4 Zařízení musí umožnit leštění TEM disků o průměru 1 mm z5 V dodávce musí být držák pro elektrolýzu TEM disků o průměru 3 mm jsou součástí dodávky, 2 kusy z6 V dodávce musí být držák pro elektrolýzu TEM disků o průměru 1 mm jsou součástí dodávky, 2 kusy z7 Zařízení musí mít dvě souosé a protichůdně směrované trysky pro oboustranné leštění vzorku z8 Zařízení musí umožňovat regulaci průtoku elektrolytu tryskami pro optimalizaci podmínek elektrolýzy z9 Zařízení musí mít funkci citlivé detekce okamžiku perforace fólie umožňující okamžité a automatické zastavení elektrolýzy v okamžiku perforace fólie z10 Zařízení musí mít signalizaci okamžiku perforace fólie světelným nebo zvukovým signálem z11 Zařízení musí umožňovat vypnutí funkce automatického zastavení elektrolýzy v okamžiku perforace fólie z12 Řídící a monitorovací jednotka zařízení elektrolytické leštičky z13 Zařízení musí mít digitální displeje monitorující parametry elektrolýzy pro možnost přesného nastavení a kontrolu podmínek elektrolýzy z14 Zařízení musí umožňovat nastavení parametrů elektrolýzy, jmenovitě alespoň napětí a intenzitu průtoku elektrolytu tryskami z15 Zařízení musí mít tlačítko ON/OFF pro centrální vypnutí elektrolytického leštění 2. Prodávající ke splnění závazků ze Smlouvy Kupujícímu dodá, nainstaluje, otestuje (včetně podání průkazu dosažení parametrů jednotlivých zařízení) a uvede do provozu minimálně následující zařízení: Typové označení přístroje:

12 Číslo Technické a funkční vlastnosti Požadovaná hodnota či vlastnost Garantovaná hodnota Zařízení pro TEM laboratoř - stručný popis částí zařízení a1 Transmisní elektronový mikroskop TEM a2 Elektronový zdroj mikroskopu je typu FEG a3 Nejvyšší (standardní) urychlovací napětí mikroskopu je alespoň 200 kv nebo vyšší a4 Z vnějšku tubusu mikroskopu musí být možné bezpečně připevnit olověný ochranný kryt o tloušťce alespoň 0,5 cm v oblasti komory vzorku a čelní části tubusu, který musí chránit obsluhu TEM (především hlavu a horní část těla) vůči radioaktivnímu záření gama ze studovaných vzorků a5 Samostatný zvedací mechanismus vhodný pro servis dodaného mikroskopu a6 Motorizované optické clony mikroskopu a7 Náhradní sada všech optických clon mikroskopu TEM a8 Plně eucentrický goniometr v 5 osách a9 Antikontaminační LN2 past chránící oblast vzorek proti kontaminaci a10 Jednonáklonový držák a11 Dvounáklonový analytický držák, beriliový s nízkým pozadím (tj. LBDT) a12 Držák TEM vzorků pro 3D tomografii a13 Plně digitalizovaná a integrovaná STEM jednotka pro skenování elektronovým svazkem a14 STEM detektor HAADF (instalován v pozici "wide-angle", tj. nad stínítkem) a15 STEM detektor ADF (instalován v pozici "bottom-mounted", tj. pod stínítkem) a16 STEM detektor BF (instalován v pozici "bottom-mounted", tj. pod stínítkem) a17 Detektor EDS, technologie SDD, bezokénkový a18 První digitální kamera instalovaná v pozici "wide-angle", tj. nad stínítkem a19 Druhá digitální kamera instalovaná v pozici "bottom-mounted", tj. pod stínítkem a20 Energiový filtr pro EFTEM a spektrometr EELS v "post-column" uspořádání a21 SW pro 3D tomografii a22 Standardizované vzorky pro kalibraci zvětšení obrazu a difrakce a pro ověření rozlišení mikroskopu a23 Fluorescenční stínítko a24 Počítače mikroskopu a jeho příslušenství pro ukládání, zpracování a analýzu dat a25 Barevná (CMYK) inkoustová tiskárna (formát A4) a26 UPS (zajištění alespoň 30 minut autonomie za plného chodu mikroskopu) a27 Uzavřený chladící okruh TEM a28 Kompresor a29 Rotační vakuové vývěvy a30 Aktivní kompenzace elektromagnetického pole a31 Plasma cleaner a32 Vakuová stanice pro TEM držáky a33 Stereomikroskop

13 a34 Trojnohý držák pro přesné ztenčování TEM vzorků a35 Elektrolytická leštička pro výrobu tenkých TEM fólií Elektronový zdroj mikroskopu b1 FEG katoda optimalizovaná pro vysoký a stabilní proud elektronů fokusovaných do velmi úzkého svazku b2 Nejvyšší možné (standardní) urychlovací napětí mikroskopu Alespoň 200 kv či vyšší vyplní uchazeč b3 Nejnižší možné urychlovací napětí mikroskopu Alespoň 80 kv čí nižší vyplní uchazeč b4 Dodaný mikroskop musí být továrně seřízený a zkalibrovaný na nejvyšší (standardní) urychlovací napětí a na nejnižší možné urychlovací napětí a minimálně na jedno urychlovací napětí mezi nejvyšším a nejnižším, na kterém se Prodávající a Kupující dohodnou během realizace b5 Dodaný mikroskop (vč. detektoru EDS, energiového filtru a detektoru EELS) musí být seřízený pro všechna továrně nastavená urychlovací napětí b6 Musí být možné obnovit dodavatelem nastavená seřízení mikroskopu pro všechna továrně nastavená urychlovací napětí, tj. tato seřízení jsou uložena v paměti mikroskopou v tzv. "inženýrském" módu Rozlišení mikroskopu c1 Bodové rozlišení, které umožňuje dodané zařízení mikroskopu nm vyplní uchazeč c2 Liniové / mřížkové rozlišení nm vyplní uchazeč c3 Rozlišení mikroskopu ve STEM módu 0.2 nm vyplní uchazeč Zvětšení mikroskopu při 200 kv d1 Minimální zvětšení - TEM 50x vyplní uchazeč d2 Maximální zvětšení - TEM x vyplní uchazeč d3 Maximální zvětšení - STEM x vyplní uchazeč Požadované pracovní módy a vlastnosti optiky mikroskopu e1 Mikroskop musí umožnit ukládání a načítání uživatelských nastavení optiky mikroskopu e2 Zobrazení elektronové difrakce e3 SAED e4 CBED a Kikuchiho zobrazení difrakce e5 NBED, minimální průměr svazku 0.5 nm e6 Pozorování ve světlém i v tmavém poli e7 Mikroskop musí umožit volbu konvergentního úhlu elektronového svazku pro specifické analýzy (např. EDS, CBED, NBED) e8 Mikroskop musí umožit změnu intenzity svazku (tzv. funkce "spot size") pro dosažení optimálního proudu elektronů ve svazku při specifických analýzách (např. EDS) e9 Modul pro precesi elektronové difrakce (nejvyšší precesní úhel 2, rotace svazku 5 Hz), Hodnotící parametr vyplní uchazeč e10 který musí umožnit mapování krystalografie vzorku ve STEM Dodané zařízení mikroskopu umožňuje pro ultra vysoké rozlišení ( 0,20 nm) vysoké náklony TEM držáku (alespoň ± 80 v ose X s 3 mm TEM vzorky) Požadavky na konstrukci mikroskopu, vakuová soustava ( / Ne) Hodnotící parametr vyplní uchazeč ( / Ne)

14 f1 Z vnějšku tubusu mikroskopu musí být možné bezpečně připevnit olověný ochranný kryt o tloušťce alespoň 0,5 cm v oblasti komory vzorku a čelní části tubusu, který musí chránit obsluhu TEM (především hlavu a horní část těla) vůči radioaktivnímu záření gama ze studovaných vzorků f2 Součástí dodávky mikroskopu je samostatný zvedací mechanismus vhodný pro servis (rozebírání tubusu apod.) dodaného mikroskopu f3 Úroveň vakua v komoře vzorku musí být 1x10-5 Pa vyplní uchazeč f4 Úroveň vakua v oblasti elektronového děla musí být 5x10-7 Pa vyplní uchazeč f5 Garance zachování autonomie a funkčnosti vakuového systému TEM v případě výpadku operačního systému řídícího počítače mikroskopu Clony optického systému mikroskopu Hodnotící parametr vyplní uchazeč ( / Ne) g1 Pohyblivé clony mikroskopu musí být motorizovány a dálkově ovladány (tj. výměna a centrování clon) pomocí SW rozhraní řídícího počítače g2 Clony dodaného mikroskopu musí umožnit plnohodnotné analýzy ve všech požadovaných pracovních módech vč.: STEM, EDS, CBED, NBED, HR-S/TEM, SAED g3 V dodávce je jedna náhradní sada všech optických clon mikroskopu TEM Kalibrační vzorky h1 Dodání kalibračních vzorků pro kalibraci zvětšení obrazu mikroskopu h2 Dodání kalibračních vzorků pro kalibraci zvětšení difrakce mikroskopu h3 Dodání vzorků pro ověření bodového a liniového rozlišení mikroskopu Projekční komora (fluorescenční stínítko) i1 Mikroskop má sklopné fluoroscenční stínítko dostupné pro operátora i2 Stavitelné stínítko primárního difrakčního svazku / ukazovátko i3 Stereomikroskop (binokulár) pro sledování stínítka Goniometr a komora vzorku j1 Plně eucentrický goniometr v 5 osách (tj. lineární posuvy X, Y a Z a úhlové náklony v osách X a Y) j2 Kontrola pohybu vzorku pomocí SW řídícího počítače mikroskopu j3 Mikroskop musí mít nainstalovanou antikontaminační LN2 past chránící oblast vzorku proti kontaminaci j4 Piezoelektrický posuv a piezoelektrická kontrola při pohybu vzorkem Hodnotící parametr vyplní uchazeč ( / Ne) j5 Goniometr s funkčním odnímatelným krytem zkonstruovaným proti přenosu akustických Hodnotící parametr vyplní uchazeč vibrací na TEM držák v mikroskopu ( / Ne) j6 Vakuový systém komory vzorku musí umožnit zasunutí držáku se vzorkem v čase kratším než 10 minut Držáky TEM vzorků k1 Dodané držáky TEM vzorků musí spolu s dodaným mikroskopem zaručit následující operace: k2 Upnutí TEM fólie s průměrem 3 mm k3 Náklon v jedné ose (X) se standardním TEM vzorkem ( 3 mm) Alespoň +/- 30 vyplní uchazeč k4 Náklon ve dvou osách (X, Y) současně se standardním TEM vzorkem ( 3 mm) Alespoň +/- 30 vyplní uchazeč k5 Náklon v jedné ose (X) alespoň jednoho TEM držáku vhodného pro tomografii (např. s použitím speciálního zakončení držáku) se standardním TEM vzorkem ( 3 mm) Alespoň +/- 60 vyplní uchazeč

15 k6 Analýza chemického složení při nízkém spektru pozadí (tj. LBDT) k7 Musí být dodány alespoň tyto držáky vč. příslušenství: k8 Všechny dodané držáky musí být plně kompatibilní s dodaným mikroskopem k9 Jednonáklonový držák k10 Dvounáklonový analytický držák, berylliový s nízkým pozadím (tj. LBDT) k11 Tomografický držák nebo speciální zakončení držáku, který musí umožňovat vysoký náklon v ose X se standardním TEM vzorkem ( 3 mm) k12 Berylliový mezikroužek pro fixování velmi tenkých TEM fólií v dodaných TEM držácích (pokud to vyžaduje upínací systém dodaných držáků) STEM jednotka l1 Mikroskop musí být vybavený plně digitalizovanou integrovanou STEM jednotkou pro skenování vzorku elektronovým svazkem l2 STEM jednotka musí umožnit akvizici signálů alsespoň z detektorů pro STEM (tj. BF, ADF, HAADF), z EDS detektoru a z energiového filtru l3 Simultánní načítání několika signálů, včetně signálu detektorů EDS a EELS l4 Minimální průměr elektronového svazku ve STEM módu 0.5 nm Hodnotící parametr vyplní uchazeč l5 Mikroskop musí umožnit rotaci STEM obrazu v průběhu pozorování o libovolný celý úhel STEM detektory m1 Všechny STEM detektory musí být v pracovní pozici na ose elektronového svazku m2 STEM detektor HAADF (musí být nainstalován v pozici "wide-angle", tj. nad stínítkem) m3 STEM detektor ADF (musí být nainstalován v pozici "bottom-mounted", tj. pod stínítkem) m4 STEM detektor BF (musí být nainstalován v pozici "bottom-mounted", tj. pod stínítkem) m5 Posuv detektorů HAADF, ADF a BF do pracovní pozice a zpět musí být motorizovaný m6 STEM detektory musí umožnit simultální akvizici obrazu STEM a spekter z detektoru EDS m7 STEM detektory musí umožnit simultální akvizici obrazu STEM a spekter z detektoru EELS m8 EDS detektor STEM detektory musí umožnit simultální akvizici obrazu STEM a spekter z detektorů EDS a EELS n1 SDD technologie detektoru n2 Bezokénkové provedení detektoru n3 Velikost aktivní plochy detektoru EDS Alespoň 80 mm 2 či větší Hodnotící parametr vyplní uchazeč n4 Detektor EDS s automatickou mechanickou ochranou před poškozením při ztrátě Hodnotící parametr vyplní uchazeč požadovaného vakua v mikroskopu ( / Ne) n5 Detektor EDS s automatickou mechanickou ochranou před poškozením při vysokém toku elektronů n6 Rozlišení detektoru na Mn Kα Alespoň 136 ev vyplní uchazeč n7 Rozlišení detektoru na C Kα Alespoň 60 ev vyplní uchazeč n8 Zaručená citlivost pro chemické prvky s atomovým číslem Z Z 5 (Bor) vyplní uchazeč n9 Pohyb detektoru EDS musí být plně motorizovaný a musí být dálkově ovládaný pomocí PC (pokud je konstrukce detektoru pohyblivá)

16 n10 Chlazení všech částí detektoru EDS musí být bez LN2 n11 Automatická kompenzace driftu vzorku při dlouhých časech EDS analýzy n12 Automatické odečtení pozadí spektra n13 Automatická identifikace peaků spektra n14 Dekonvoluce překryvu peaků n15 Vytváření reportů/protokolů n16 Export protokolů a dat do produktů MS Office n17 Multiuživatelský systém SW EDS detektoru n18 Bodové kvalitativní a kvantitativní analýzy chemického složení n19 Liniové kvalitativní a kvantitativní analýzy chemického složení n20 Možnost nastavení počtu a rozteče bodů na čáře při liniové analýze n21 Kvalitativní a kvantitativní mapování chemického složení n22 Mapovaní fází n23 Alespoň 5 off-line licencí SW pro samostatně stojící počítače ke kompletnímu hodnocení dat EDS Kamery pro záznam obrazu a videa o1 Všechny kamery a jejich SW musí být zkalibrovány pro všechny zobrazovací a analytické módy mikroskopu o2 Minimální rozlišení kamer musí být alespoň 4 miliony pixelů o3 Minimální rozsah digitalizace obrazu kamer musí být alespoň 14 bitů či více o4 Zasouvání kamer do pracovní polohy a zpět musí být motorizované a dálkově ovládáné pomocí SW mikroskopu o5 Senzor kamer musí být při zasunutí do pracovní pozice na ose elektronového svazku o6 Všechny instalované kamery musí být konstrukčně a geometricky kompatibilní s dodaným mikroskopem a jeho součástmi o7 Všechny kamery pro snímání obrazu a videa tvořeného elektrony musí být od jednoho výrobce a pracovat na jednotném SW o8 Všechny kamery pro snímání obrazu a videa musí být plně kompatibilní s HW a SW instalovaného energiového filtru o9 Formát uložení obrazu dodaných kamer musí být alespoň ve formátu TIFF a JPEG o10 Alespoň jedna kamera musí umožnit ostření obrazu pomocí Fourierovy transformace o11 Alespoň jedna kamera musí být nainstalována nad stínítkem, tj. v pozici "wide-angle" o12 o13 o14 Alespoň jedna kamera musí mít zvýšenou odolnost vůči působení intenzivního elektronového svazku. Tj. zejména při použití nejvyššího urychlovacího napětí mikroskopu a při působení primárního elektronového svazku jednosvazkových difrakcí apod. Kamera odolná vůči působení intenzivního elektronového svazku musí umožnit zobrazení difrakce bez dodatečných pruhových artefaktů - tato kamera má tzv. "anti-blooming" systém Alespoň jedna kamera musí mít velké zorné pole umožňující snímání podstatné části obrazu stínítka, resp. snímání plnohodnotného obrazu i v malých zvětšeních (tj. bez nutnosti dalšího významného snížení zvětšení mikroskopu vedoucího ke snížení kvality obrazu při snímání oblasti zájmu) o15 Alespoň jedna kamera musí být nainstalována pod stínítkem, tj. v pozici "bottom-mounted"

17 o16 Alespoň jedna kamera musí být optimalizovaná pro vysoká rozlišení a zvětšení mikroskopu o17 o18 o19 Minimální rozsah digitalizace obrazu kamery optimalizované pro vysoká rozlišení a zvětšení musí být alespoň 16 bitů či více Alespoň jedna kamera musí mít rychlou odezvu (dle TV standardů) umožňující pozorování a záznam živých obrazů např. při rychlém posuvu vzorkem či při in-situ experimentech při malých i velkých zvětšeních Alespoň jedna kamera musí mít snímkovou frekvenci záznamu videa alespoň 24 fps (frames per second) nebo vyšší o20 Všechny kamery a jejich SW musí umožnit záznam a zpracování videa z in-situ experimentů SW pro záznam a zpracování obrazu a videa p1 Kamery a jejich SW musí uživateli umožnit optimalizovat expozici v průběhu snímání obrazu p2 SW musí umožňovat tyto operace při obrazové analýze: - vložení kalibrovaného měřítka do pořízeného obrazu či videa vzhledem k použitému zvětšení mikroskopu - měření rozměrů (horizontálně, vertikálně a v libovolném úhlu), - měření úhlů, - kalibrované měření mezirovinných krystalografických vzdáleností v reciprokém prostoru, - měření rozložení intenzity jasu (alespoň na určené linii přes oblast zájmu), - FFT pro seřízení astigmatismu a pro zpracování obrazu p3 SW musí umožňovat alespoň tyto grafické úpravy obrazu: - nastavení vhodného jasu a kontrastu pořízených obrazů p4 SW musí umožňovat záznam in-situ videa z dodaných kamer p5 Alespoň 5 off-line licencí každého dodaného SW pro zpracování a analýzu obrazu a videa pro samostatně stojící počítače SW pro pořízení a zpracování 3D tomografie TEM vzorků q1 SW pro získávání sérií obrazů elektronové tomografie při postupném naklápění TEM vzorku o velké úhly q2 SW pro 3D tomografickou rekonstrukci vzorku z pořízených sérií obrazů q3 SW pro 3D renderování tomografického obrazu q4 Dodaný SW pro 3D tomografii TEM vzorků musí umožnit 3D tomografii pomocí STEM detektoru HAADF q5 Všechen dodaný SW pro 3D tomografii musí být nainstalován a nakonfigurován na příslušném počítači mikroskopu TEM q6 Všechen dodaný SW pro 3D tomografii musí být vzájemně kompatibilní a musí být vhodný pro výzkum kovových materiálů pomocí TEM Energiový filtr pro EFTEM a EELS r1 Energiový filtr dodaného mikroskopu musí umožnit analýzu lehkých chemických prvků, izotopické analýzy, filtraci TEM obrazu a difrakce či přesné měření tlouštěk vzorků. Pro dosažení kvalitních výsledků musí filtr splňovat rychlou akvizici EELS spekter, možnost získávat EELS spektra z high- a low- core loss oblasti současně, paralelně analyzovat EELS a EDS spektra.

18 r2 V dodaném mikroskopu musí být nainstalován energiový filtr s požadovanými vlastnostmi, kterým musí odpovídat i dodaný a nainstalovaný SW energiového filtru r3 Energiový filtr musí být seřízen na všechna továrně nastavená urychlovací napětí mikroskopu r4 Filtr je plně kompatibilní s kamerou mikroskopu instalovanou pod stínítkem r5 Filtr musí umožnit energiově filtrované (EFTEM) obrazy TEM vzorků r6 Filtr musí umožnit energiově filtrované (EFTEM) zobrazení elektronové difrakce r7 Filtr musí umožnit EFTEM měření, mapování a profilování tlouštěk TEM vzorků r8 Filtr musí umožnit zaznamenávat spektra EELS ve STEM módu s využitím HAADF i ADF detektoru r9 Filtr musí umožnit zaznamenávat EELS spektra v rozsahu alespoň 2000 ev r10 Minimální rychlost akvizice EELS spekter filtrem musí být alespoň 1000 spekter/s r11 CCD kamera filtru musí být synchronizována se systémem STEM jednotky tak, aby byl mikroskop schopný ve STEM módu získávat EELS spektra s rychlou akvizicí (alespoň 1000 pixelů/s) r12 Systém EELS spektroskopu musí umožnit simultální akvizici dvou různých oblastí EELS spektra (např. "high core-loss" a "low core-loss") r13 Systém EELS spektroskopu musí umožnit vysokorychlostní kompenzaci spekter alespoň do 2000 ev umožňující simultální akvizici dvou různých oblastí EELS spektra r14 Mikroskop musí umožnit simultální akvizici signálu detektorů STEM, EDS a EELS (obou high core-loss a low core-loss spekter současně) r15 Filtr musí umožnit mapování, liniové a bodové analýzy chemického složení pomocí EELS spekter r17 Filtr musí umožnit akvizici signálu více chemických prvků současně a akvizici víceprvkových map analyzované oblasti r16 r18 r19 r20 r21 r22 Mikroskop musí umožnit získání EELS spekter z vybraných bodů analyzované oblasti (tj. z mapy chemického složení této oblasti) s pomocí obrazu pořízeného STEM detektorem SW filtru musí umožnit akvizici a analýzu EDS spektra prostřednictvím systému nainstalovaného EDS detektoru SW filtru musí umožnit ukládat nastavení proběhlých experimentů a používat je při dalších měřeních pro co nejlepší reprodukovatelnost výsledků Filtr musí mít automatickou kompenzaci driftu vzorku při dlouhých časech akvizice EELS spekter Dodání plnohodnotného atlasu EELS spekter keramických, kovových, polymerových a polovodičových materiálů na CD-ROM, alespoň 2 licence, a v knižní podobě, alespoň 2 kusy - nemusí být ekvivalentní s verzí na CD-ROM Počítač filtru: SW a HW musí pracovat v 64-bit architektuře, operační paměť RAM počítače filtru je alespoň 32 GB r23 Alespoň 1 off-line licence SW pro samostatně stojící počítač pro analýzu EELS spekter Počítače mikroskopu a jeho příslušenství s1 Dodané počítače pro mikroskop TEM musí umožnit akvizici a zpracování dat z analytických systémů mikroskopu vč. detektorů EDS a EELS

19 s2 s3 s4 Na všech dodaných počítačích musí být nainstalován operační systém MS Windows, který je optimální pro dodaný mikroskop TEM. Systém MS Windows musí být kompatibilní s používaným systémem Zadavatele, tj. Windows verze 7 Mikroskop a všechen dodaný SW musí být kompatibilní s HW a operačním systémem dodaných počítačů Operační systém a architektura SW a HW všech dodaných systémů mikroskopu TEM je 64-bit. Dodané počítače všech systémů mikroskopu TEM mají operační paměť RAM alespoň 32 GB HW počítačů: Hodnotící parametr vyplní uchazeč ( / Ne) s5 s6 Výkon procesoru dodaných počítačů - podle hodnocení v PassMark - CPU Mark Alespoň 8000 či více vyplní uchazeč s7 1. pevný disk pro operační systém: SSD Alespoň 500 GB či více vyplní uchazeč s8 2. pevný disk pro ukládání dat: HDD, SATA III, alespoň 7200 ot./minutu Alespoň 2 TB či více vyplní uchazeč s9 3. pevný disk pro ukládání dat: HDD, SATA III, alespoň 7200 ot./minutu Alespoň 2 TB či více vyplní uchazeč s10 Pevné disky 2. a 3. musí umožnit tzv. zrcadlení (mirroring) svazku pro dosažení vysoké bezpečnosti archivace dat s11 Velikost operační paměti RAM dodaných počítačů Alespoň 4 GB či více vyplní uchazeč s12 DVD mechanika s vypalovačkou CD/DVD, alespoň 16x DVD+/-RW s13 Ovládací rozhraní TEM: s14 Pro posun vzorku ve všech hlavních režimech měření musí být k dispozici m.j. trackball s15 Místní síť: s16 Počítače mikroskopu TEM musí umožnit dálkovou diagnostiku servisním střediskem s17 Dodaný mikroskop je možné dálkově ovládat z přilehlého počítačového centra na stejné Hodnotící parametr vyplní uchazeč chodbě pavilónu. Ovládání mikroskopu a jeho analytických systémů je zprostředkováno ( / Ne) obdobným rozhraním jako v laboratoři TEM s využitím adekvátního SW. s18 Monitory: s19 Alespoň 3 samostatné LCD monitory pro mikroskop TEM (např. pro řídící SW mikroskopu, pro promítání obrazu kamer a pro analýzy EDS a EELS) s20 Monitory musí být vyrobeny technologií IPS s21 Úhlopříčka dodaných monitorů Alespoň 24 palců či více vyplní uchazeč s22 Minimální rozlišení monitorů pix či lepší vyplní uchazeč s23 Monitory lze vertikálně otočit o 90 (tj. ze ší řky na výšku) s24 Tiskárna: s25 Barevná (CMYK) inkoustová tiskárna (formát A4) pro tisk pořízených dat v laboratoři TEM s26 s27 Kabinet(y) pro příslušenství mikroskopu: Úložné kabinety pro skladování všech samostatně stojících ovládacích jednotek mikroskopu a jeho příslušenství (např. elektronika EDS, EELS, EFTEM, kamery, STEM apod.) Periferní technologická zařízení nezbytná pro provoz TEM t1 Periferní zařízení budou umístěna v místosti č Technická místnost TEM, případně v místosti č Laboratoř TEM t2 UPS

20 t3 Minimální výdrž UPS při výpadku proudu a při chodu mikroskopu na plný výkon (tj. všeho příslušenství mikroskopu a všech periferních zařízení mikroskopu (vč. chladícího okruhu)) Alespoň 30 minut či více vyplní uchazeč Hodnotící parametr vyplní uchazeč ( / Ne) t4 Garance zachování autonomie a funkčnosti vakuového systému TEM v případě výpadku operačního systému řídícího počítače mikroskopu t5 UPS musí napájet také uzavřený chladící okruh mikroskopu TEM t6 Uzavřený chladící okruh mikroskopu TEM t7 Kompresor t8 Rotační vakuové vývěvy t9 Rotační vývěvy a kompresor nesmí při svém chodu ovlivňovat mikroskop vibracemi Aktivní kompenzace elektromagnetického pole u1 Toto zařízení musí umožnit kompenzaci vnějšího elektromagnetického pole, které může působit na dodaný mikroskop od okolních zařízení či technologií a významně degradovat analytické schopnosti dodaného mikroskopu u2 Systém aktivní kompenzace musí být vhodný pro dodaný mikroskop s instalovaným energiovým filtrem u3 Systém aktivní kompenzace musí rušit DC i AC složku elektromagnetického pole u4 Frekvenční rozsah kompenzace musí být alespoň do 1 khz či více u5 Systém aktivní kompenzace musí pracovat alespoň s 6 Helmholtzovými cívkami u6 Systém aktivní kompenzace musí podporovat 2 senzory elektromagnetického pole u7 Systém aktivní kompenzace musí být dodán s 2 senzory elektromagnetického pole u8 Systém aktivní kompenzace musí měřit elektromagnetické pole v osách X, Y, Z u9 Systém aktivní kompenzace musí rušit elektromagnetické pole v osách X, Y, Z Plasma cleaner v1 Plasma cleaner musí umožnit čištění vzorků a TEM držáků od povrchové organické kontaminace v2 Plasma cleaner musí být nainstalován v místnosti přípravny vzorků pro TEM a SEM v3 Plasma cleaner musí čistit vzorky alespoň směsí tvořenou plyny O 2, Ar v4 Plasma cleaner musí umožnit čištění TEM držáků s upevněnou tenkou fólií v5 Plasma cleaner musí být kompatibilní s TEM držáky dodaného mikroskopu v6 Plasma cleaner musí mít port vhodný pro čištění vzorků pro SEM v7 Plasma cleaner musí být dodán s příslušenstvím nezbytným pro čištění SEM vzorků (tj. vhodný držák vzorků apod.) Vakuová stanice pro TEM držáky w1 Vakuová stanice musí umožnit dlouhodobé uchování citlivých částí TEM držáků a uskladnění TEM vzorků ve vakuu, tj. v čistém a suchém prostředí, které chrání držáky a vzorky vůči vzdušné kontaminaci w2 Vakuová stanice musí umožnit uchování držáků a vzorků pod vakuem alespoň 1x10-4 Pa vyplní uchazeč w3 Vakuová stanice a její příslušenství bude instalované v laboratoři TEM w4 Vakuová stanice musí být kompatibilní s TEM držáky dodaného mikroskopu w5 V dodávce musí být alespoň 2 schránky k vakuovému uskladnění TEM vzorků w6 Schránky k vakuovému uskladnění TEM vzorků musí být kompatibilní s dodanou stanicí w7 Počet portů pro uskladnění TEM držáků Alespoň 2 či více vyplní uchazeč