40 Přístup do komory mikroskopu pro velké vzorky odsunutím či odklopením jedné stěny komory. Musí být možné bez použití nářadí.

Transkript

1 Příloha č. 1 - Technické podmínky - část 1 Řádkovací elektronový mikroskop SEM s EDS, EBSD detektorem a zkušebním zařízením pro mechanické a tepelné zatěžování vzorků 1. Kupující v zadávacím řízení poptal dodávku zařízení vyhovujícího následujícím technickým požadavkům: Popis zařízení " Řádkovací elektronový mikroskop (FEGSEM)" : Rastrovací elektronový mikroskop s autoemisní FEG katodou - Shottkyho emitor, pracující v módu vysokého vakua, vhodný pro výzkum kovových materiálů a umožňující zkoumání a zobrazování i nevodivých materiálů, keramických a kompozitních materiálů. Součástí mikroskopu musí být zařízení pro čištění povrchu vzorků pomocí plazmového výboje přímo v komoře mikroskopu a kvalitní analyzátor pro stvení chemického složení mikroobjemů materiálů pomocí energiově-dispersní mikroanalýzy rtg-záření (EDS) typu SDD. Součástí mikroskopu je EBSD detektor a instalované zkušební zařízení pro mechanické a tepelné zatěžování vzorků umožňující "in-situ" EBSD analýzu při zatěžování vzorku, maximální možná zatěžovací síla je alespoň 2000 N, snadno odnímatelný stolek je opatřen vysokoteplotní komorou pro ohřev vzorků na maximální teplotu alespoň 600 C. Dodaný SW musí být schopen pokročilého kvantitativního vyhodnocování pomocí EDS a EBSD, musí být zajištěna plná softwarová integrace EDS a EBSD. Nesplní-li prodávající dílčí hodnotící kritérium (DHK) č. 2 v Příloze č.2 Zadávací dokumentace - dodávku WDS detektoru + WDS softwaru, komora mikroskopu musí být přizpůsobena pro budoucí instalaci WDS detektoru. Součástí kontraktu je jedna dodávka a výměna elektronového zdroje zdarma. Dodávka musí obsahovat všechny komponenty, práce a potřebné doplňky zajišťující propojení a funkci dále uvedených zkušebních zařízení s rozsahem funkcí uvedených v těchto minimálních podmínkách a to i k tomuto účelu nezbytné komponenty nebo práce, které nejsou v poptávce přímo uvedeny. Instalace musí zajistit úplné propojení dodaných komponent s cílem zajistit zadu funkčnost celé dodávky. Součástí nabídky musí být Datové listy výrobce sloužící k ověření specifikovaných Technických parametrů Kupujícím. Číslo Technické a funkční vlastnosti Požadovaná hodnota Technické požadavky na řádkovací elektronový mikroskop (FEGSEM) vybavený EDS a EBSD detektory (+ WDS detektorem při splnění DHK č. 2) a instalovaných zkušebním zařízením pro mechanické a tepelné zatěžování vzorků Položky požadovaného systému 1 Optický systém rastrovacího elektronového mikroskopu 2 Detekční systém rastrovacího elektronového mikroskopu 3 Pracovní komora elektronového mikroskopu 4 Stolek mikroskopu 5 Detektor EDS 6 EDS software 7 Detektor WDS Hodnotící parametr 8 WDS software Hodnotící parametr 9 EBSD detektor 10 EBSD software 11 Zkušební zařízení pro mechanické a tepelné zatěžování vzorků 12 Software pro nastavení parametrů mechanického a tepelného zatěžování vzorků 13 Software mikroskopu 14 Řídící počítač pro mikroskop 15 Řídící počítač pro EDS, EBSD, (WDS po dovybavení v budoucnu) 16 Pomocná zařízení nutná k provozu mikroskopu + další požadavky v ceně dodávky Optický systém rastrovacího elektronového mikroskopu 17 Jako zdroj elektronů je požadován Shottkyho emitor s vysokým jasem. 18 Dopadová energie emitovaných elektronů, měnitelná kontinuálně, v rozsahu alespoň 0,2-30 kev 19 Dosažitelná hodnota proudu svazku měřeného na Faradayově cele 100 na 20 Garantovaná stabilita proudu elektronového svazku (měřená na Faradayově cele po instalaci) s možnou odchylkou do max. +/- 0,5 % za hodinu a +/- 1% za 12 hodin 21 Rozlišení v SE při urychlovacím napětí 30 kv; ověřitelné na standardizovaném vzorku Au-C (gold on carbon). 1,2 nm 22 Rozlišení v SE při urychlovacím napětí 15 kv; ověřitelné na standardizovaném vzorku Au-C (gold on carbon). 1,5 nm 23 Objektivová čočka umožňuje práci v módu bez magnetického pole na vzorku. 24 Diferenční čerpání prostoru elektronového zdroje a optiky dostatečně účinnou vývěvou. 25 Automatické a manuální seřízení elektronového děla a optického systému. 26 Spojité nastavení proudu svazku v plném rozsahu urychlovacího napětí mikroskopu 27 Elektronový mikroskop vybaven systémem snížení rychlosti a energie dopadajících elektronů. Detekční systém rastrovacího elektronového mikroskopu 28 Detektor sekundárních elektronů (SE) uvnitř analytické komory. 29 Detektor sekundárních elektronů (SE) integrovaný do elektronového tubusu. 30 Detektor sekundárních elektronů (SE) určený pro práci v modu nízkého vakua. 31 Detektor zpětně odražených elektronů (BSE) instalovaný v rámci pólového nástavce nebo motorizovaný, výsuvný detektor zpětně odražených elektronů s minimálním rozlišením (detektor plně ovladatelný z prostředí operačního softwaru) alespoň 0,1 Z (atomového čísla) 32 Simultánní akvizice signálu z alespoň dvou libovolných detektorů. 33 Minimální velikost zorného pole bez deformace obrazu při použití nejmenšího možného zvětšení alespoň 50 mm 34 Integrovaná detekce a měření proudu absorbovaných elektronů. 35 Detekce a možnost zobrazení proudu elektronů absorbovaných vzorkem (EBIC). 36 Součástí dodávky je i standard částic zlata na uhlíku pro ověření rozlišení mikroskopu. Pracovní komora elektronového mikroskopu 37 Velikost pracovní komory elektronového mikroskopu a její kompletní konfigurace musí umožnit instalaci všech požadovaných zařízení a detektorů bez omezení jejich deklarovaných funkcí a použití požadované zadavatelem. 38 Systém ochrany nebo bezpečnostní prvek, který zastaví posun stolku mikroskopu se vzorkem v případě, že se dotkne kterékoli vnitřní části komory mikroskopu. 39 Integrované aktivní odpružení komory v rámu mikroskopu. 40 Přístup do komory mikroskopu pro velké vzorky odsunutím či odklopením jedné stěny komory. Musí být možné bez použití nářadí. 41 Maximální rozměry vzorku zakládaných přímo do pracovní komory s možností neomezeného zobrazení a analýzy celého povrchu vzorku: délka x šířka x výška min. 120 x 100 x 50 mm 42 Optimalizované geometrické uspořádání analytických detektorů umožńující simultánní EDS-EBSD a EDS-WDS analýzu. 43 Optimalizované porty pro montáž detekčních systémů elektronového mikroskopu, detektorů EDS, WDS a EBSD, IR kamery a plazmového dekontaminátoru. Geometrie portů musí zaručit plnou funkčnost všech zařízení. Instalovaná zařízení se nesmí vzájemně omezovat. 44 Počet volných portů na pracovní komoře elektronového mikroskopu pro budoucí instalaci dalších zařízení a detektorů alespoň 1 45 Plazmový dekontaminátor pro eliminaci uhlovodíkové kontaminace a čištění povrchu vzorků a vnitřních prostor pracovní komory elektronového mikroskopu. 46 Provoz dekontaminátoru neohrožuje vakuový systém mikroskopu. 47 IR kamera pro sledování vnitřku pracovní komory elektronového mikroskopu a polohy vzorku a detektorů. 48 Vakuový systém umožňující dosažení čistého vakua. V případě, že čerpací systém obsahuje olejovou vývěvu, pak čerpací systém je vhodným způsobem zajištěn proti vniku olejových par do pracovní komory elektronového mikroskopu za jakýchkoli okolností (i při odstávce nebo poruše systému). 49 Tlak v komoře je měřen vhodným způsobem v celém rozsahu pracovních podmínek a zobrazen pro kontrolu uživatelem. 50 Zavzdušňování komory elektronového mikroskopu kompatibilní s použitím dusíku minimální čistoty Čerpání a zavzdušnění zakládací komory je automatizováno a ovládáno pomocí softwaru. 52 Čas potřebný k výměně vzorku kratší než 15 minut 53 Elektronový mikroskop musí být vybaven možností práce v režimu nízkého vakua při tlaku v rozsahu (tlak v pracovní komoře) alespoň Pa Stolek mikroskopu 3-osý posuv včetně rotace v rovině vzorku a náklonu stolku plně funkční pro všechny dodávané držáky vzorků, všechny pohyby 54 motorizované.

2 55 Softwarově ovládaný, automatizovaný stolek s posuvem v osách X x Y x Z alespoň 120 x 100 x 50 mm 56 Opakovatelnost nájezdu stolku s přesností alespoň 1 mikrometr 57 Využitelný rozsah náklonu stolku mikroskopu v obou směrech (-X až + X ) alespoň -5 až Pozice zobrazované oblasti se zachovává při náklonu i rotaci vzorku. 59 Držák pro EBSD analýzu TEM fólií Detektor EDS 60 Detektor typu SDD, bez nutnosti chlazení kapalným dusíkem s garantovu funkčností v celém rozsahu pracovních podmínek. 61 Detektor vybaven motorickým vysunováním a zasunováním do pracovní pozice. 62 Velikost aktivní plochy snímacího čipu detektoru min. 80 mm 2 63 Schopnost detekce, kvalitativní a kvantitativní analýzy prvků v rozsahu od Be po Pu. 64 Garantovaná hodnota energiového rozlišení na manganu (Mn Ka) měřená v souladu s ISO 15632:2012 a ověřitelná měřením po instalaci detektoru 125 ev 65 Garantovaná hodnota energiového rozlišení na uhlíku (C Ka) měřená v souladu s ISO 15632:2012 a ověřitelná měřením po instalaci detektoru 50 ev EDS software 66 Multiuživatelský systém. 67 Musí umožňovat snímání obrazových signálů z mikroskopu. 68 Základní obrazová analýza (jas, kontrast, gamma korekce atd.). 69 Umožňuje kvantitativní bezstandardovou analýzu. 70 Musí umožňovat práci se standardy, vytváření vlastních knihoven standardů. 71 Musí umožňovat export/import spektra v otevřeném formátu (EMSA). 72 Volba analýz v bodě, v oblasti libovolně zvolené uživatelem, v linii a v definovaném rastru. U všech typů analýz je automaticky uloženo celé spektrum v každém bodě analýzy. 73 Vytváření map prvků s možností získání rozložení prvků v libovolné oblasti a podél čáry zvolené v nasnímané oblasti. 74 Musí umožňovat vytváření kvantitativní mapy rozložení prvků. 75 Maximální rozlišení prvkové distribuční mapy EDS alespoň 4096 x 4096 pixelů 76 Vytváření kvantitativních linescanů s rozlišením až 8192 bodů 77 Automatická detekce fází, tvorba fázových map na základě chemického složení, modální analýza. 78 Musí umožňovat ovládat posuvy stolku mikroskopu. 79 Musí umožňovat automatizaci procesu snímání větších ploch zahrnující snímkování povrchu vzorků a akvizice distribučních prvkových map, možnost rozčlenění analyzované oblasti na dílčí celky následované akvizicí dat a jejich následné spojení do jednoho datového výstupu. 80 Kompenzace driftu vzorku v průběhu analýzy. 81 Software umožňuje plnou integraci EDS systému s WDS systémem při splnění DHK č. 2 (či případným budoucím WDS systémem). 82 Software umožňuje plnou integraci EDS a EBSD 83 Software zahrnuje automatizovu částicovou analýzu i z více analyzovaných polí s vyhodnocením dat zahrnující základní charakteristiky detekovaných částic (např. velikost, tvar atd.) a chemické složení částic. 84 Musí umožňovat plánování automatizovaných analytických úloh za účelem automatické akvizice dat bez nutnosti dalšího zásahu uživatele, zahrnuje také možnost registrace libovolného snímku pořízeného v rámci softwaru a jeho využití pro navigaci a stvení polohy analytických bodů (ploch). 85 Musí umožňovat řešení interferencí čar analyzovaných prvků dekonvolučními metodami a pulse pile-up korekci (korekce pile-up píků až minimálně třetího řádu) v průběhu akvizice dat pro veškerá kvantitativní data, prvkové distribuční mapy a liniové analýzy 86 Minimálně jedna offline licence dodaného EDS softwaru pro dalšího uživatele. Detektor WDS (Hodnotící parametr) 87 WDS systém umožňuje detekci, kvalitativní a kvantitativní analýzu prvků od Be do Pu. 88 WDS systém umožňuje analýzu čar prvků v rozsahu energií rtg. záření (požadovaný rozsah kontinuálně pokryt vhodnými difrakčními krystaly) alespoň 100 ev - 10 kev 89 WDS systém musí umožnit montáž až 6 difrakčních krystalů najednou 90 WDS systém musí být vybaven difrakčními krystaly optimalizovanými pro analýzu C, N a O. 91 WDS spektrometr je vybaven vstupní štěrbinou (umístěnou před detektorem) s motorizovaným ovládáním její pozice a šířky pro optimalizaci intenzity vstupního signálu a poměru intenzit na peaku a pozadí. 92 Integrovaný systém měření proudu svazku pro kvantitativní WDS analýzu. 93 WDS spektrometr musí být vybaven dvěma detektory na bázi průtokového proporcionálního čítače a proporcionálního čítače se stálou náplní vhodného plynu (např. Xe) pro maximální efektivitu detekce rtg záření v požadovaném energiovém rozsahu, oba detektory umožňují detekci rtg. záření jak odděleně tak i současně podle volby uživatele. 94 Garantovaná intenzita signálu na čáře C Ka (měřená na standardu čistého uhlíku), poměr intenzity peaku k pozadí 400 pulsů za sekundu na 1 na, P/B Garantovaná intenzita signálu na čáře Fe Ka (měřená na standardu čistého železa), poměr intenzity peaku k pozadí 1000 pulsů za sekundu na 1 na P/B Součástí dodávky je sada standardů prvků/sloučenin pro kvantitativní WDS-EDS analýzu. Pokryty alespoň prvky: Al, Ba, Be, B, Ca, Ce, Cd, Cl, Cr, Co, C, Cu, Ge, Au, In, Ir, F, Fe, K, La, Pb, Mn, Mo, Mg, N, Na, Ni, Nb, P, Pd, Pt, Re, Rh, S, Se, Sc, Si, Sr, Ag, Ta, Te, Sb, Sn, Ti, W, V, Y, Zn, Zr, Bi, Hf. Referenční materiály dodány s certifikátem složení. WDS software (Hodnotící parametr) 97 Požadována plná softwarová integrace s EDS systémem v rámci jednoho softwaru. 98 Simultání EDS-WDS kvantitativní analýza s možností volby prvků analyzovaných WDS nebo EDS podle požadavků uživatele. 99 Analytické funkce umožňující akvizici spektrálních scanů, ověření přítomnosti prvku ve vzorku a kvantitativní analýzu s použitím standardů. 100 Automatická kalibrace detektorů 101 Minimálně jedna offline licence dodaného WDS softwaru pro dalšího uživatele. EBSD detektor 102 EBSD detektor jehož funkčnost je zaručena v celém rozsahu pracovních podmínek. 103 Rozlišení kamery detektoru EBSD 1 Mpix 104 Framerate EBSD detektoru 100 fps 105 Součástí dodávky EBSD systému je i FSD detektor (forward scattered detector). 106 Dodání a zajištění výměny fosforových stínítek EBSD detektoru v ceně dodávky v počtu alespoň 2 ks 107 Musí umožňovat provést "in situ" EBSD analýzu - změnu mikrostruktury během tepelného a mechanického zatěžování (alespoň tah, tlak) vzorků pomocí zkušebního zařízení instalovaného v pracovní komoře mikroskopu EBSD software 108 Software pro akvizici a analýzu EBSD dat musí umožňovat úplnou dostupnost všech funkcí k ovládání EBSD detektoru a podmínek analýzy a akvizice dat, dále umožňuje minimálně konstrukci map IPF (inverse pole figure), pólových obrazců, inverzních pólových obrazců, výpočet ODF/MDF funkcí (orientation/misorientation distribution function), analýzu textury, filtraci dat, manuální a podmíněný výběr dat v mapách, export vybraných dat do samostatných datasetů a vytváření vlastních databází krystalografických dat a jejich neomezené použití v rámci EBSD softwaru. 109 Alespoň dvě časově neomezené databáze krystalografických dat rganických látek s úplnou přístupností ze softwaru ovládajícího EBSD systém. 110 EBSD software je plně integrován s EDS softwarem v rámci jednoho softwarového rozhraní, umožňuje simultání akvizici EBSD-EDS dat a podporu identifikace krystalové struktury daty z EDS. 111 Minimálně jedna offline licence dodaného EBSD softwaru a databází pro dalšího uživatele. Zkušební zařízení pro mechanické a tepelné zatěžování vzorků 112 Zkušební zařízení musí být schopné testovat kovové i nekovové materiály v pracovní komoře elektronového mikroskopu 113 Zkušební zařízení odnímatelné z pracovní komory elektronového mikroskopu 114 Zkušební zařízení musí umožnit mechanické namahání vzorků na tah, tlak, ohyb 115 Maximální zatížení vzorku min N 116 Zkušební zařízení musí být schopné testovat zkušební vzorky za zvýšených teplot (Technická podmínka č. 117)

3 117 Maximální teplota vzorku min. 600 C 118 Rozsah rychlosti zatěžování alespoň 0,05 az 4 mm/min 119 Maximální možná měřitelná deformace alespoň 10 mm 120 Přesnost měření deformace alespoň 20 mikrometrů 121 Systém ochrany proti přetížení zařízení Software pro nastavení parametrů mechanického a tepelného zatěžování vzorků 122 Umožňuje nastavení parametrů namáhání (typ mechanického namáhání, možná kombinace namáhání, velikost zatížení, rychlost zatěžování) 123 Musí umožňovat pořízení videozáznamu obrazu ze SEM synchronizovaný se zatěžovací křivkou. 124 Nastavení teploty vzorku (rychlost ohřevu, výdrž na teplotě, výše teploty, apod.) Software mikroskopu 126 Automatické nastavení jas-kontrast (ACB), zaostření (AF) a stigmátorů. 127 Funkce nastavení dynamického fokusu na hodnotu Softwarová rotace obrazu a korekce náklonu vzorku. 129 Současné zobrazení alespoň dvou živých obrazů. 130 Umožňuje snímat obrazy 16 bitově s maximálním rozlišením alespoň 250 Mpx 131 Obrazové formáty minimálně TIFF, BMP, JPG. 132 Integrovaný software pro základní obrazovou analýzu, vkládání měřítek do snímků a vytváření protokolu o pozorování. 133 Integrovaný software pro měření vzdáleností, úhlů a ploch v živém i uloženém obrazu SEM. 134 Software umožňuje načtení obrazu pomocí alespoň jednoho z instalovaných detektorů (např. SE detektoru), import obrazu vzorků pořízený jiným zařízením, registraci obrazu a použití pro navigaci mezi analyzovanými oblastmi na vzorku. 135 Umožňuje snímání videosekvencí obrazu analyzovaného vzorku. 136 Automatizované snímání, spojení a ukládání snímků definovaných oblastí. 137 Umožňuje zobrazit a snímat obrazy v kombinaci signálů SE a BSE (např. obraz 50% v SE a 50% v BSE) Řídící počítač pro mikroskop 138 Typ PC - pracovní stanice (workstation) kompatibilní s pracovními stanicemi zadavatele. 139 bitová verze) a dvěma monitory s úhlopříčkou Operační paměť alespoň 32 GB pevné disky s kapacitou pro každý z nich alespoň 1 TB 144 Barevná laserová tiskárna formátu A4 s rozlišením tisku. minimálně 1200 dpi 145 Řídící panel ovládání mikroskopu. 146 Klávesnice česká (qwertz) USB a optická nebo laserová bezdrátová multifunkční myš Řídící počítač pro EDS, EBSD, (WDS po dovybavení v budoucnu) 147 Typ PC - pracovní stanice (workstation) kompatibilní s pracovními stanicemi zadavatele. 148 bitová verze) a s úhlopříčkou Operační paměť alespoň 32 GB pevné disky s kapacitou pro každý z nich. alespoň 1 TB 153 Klávesnice česká (qwerty) USB a optická nebo laserová bezdrátová multifunkční myš Pomocná zařízení nutná k provozu mikroskopu + další požadavky v ceně dodávky 154 Systém chlazení (je-li nutný). 155 Kompresor pro stlačný vzduch (je-li nutný). 156 UPS schopna udržet mikroskop i nutná zařízení v provozu nejméně 1 hodinu. 157 Aktivní systém kompenzace elektromagnetického rušení s potlačením nejméně 30x včetně stejnosměrné složky. 158 Systém pro analýzu tloušťky a chemického složení tenkých vrstev a multivrstev plně integrovaný do analytického a ovládacího softwaru 159 Jedna výměna katody zdarma zahrnutá v ceně dodávky. 160 Další dvě výměny katody zdarma v ceně dodávky Hodnotící parametr 161 Reaktivní a prediktivní softwarová korekce driftu Hodnotící parametr 2. Prodávající ke splnění závazků ze Smlouvy Kupujícímu dodá, nainstaluje, otestuje Číslo Technické a funkční vlastnosti Požadovaná hodnota Garantovaná hodnota Technické požadavky na řádkovací elektronový mikroskop (FEGSEM) vybavený EDS a EBSD detektory (+ WDS detektorem při splnění DHK č. 2) a instalovaných zkušebním zařízením pro mechanické a tepelné zatěžování vzorků Položky požadovaného systému 1 Optický systém rastrovacího elektronového mikroskopu 2 Detekční systém rastrovacího elektronového mikroskopu 3 Pracovní komora elektronového mikroskopu 4 Stolek mikroskopu 5 Detektor EDS 6 EDS software 7 Detektor WDS Hodnotící parametr 8 WDS software Hodnotící parametr 9 EBSD detektor 10 EBSD software 11 Zkušební zařízení pro mechanické a tepelné zatěžování vzorků 12 Software pro nastavení parametrů mechanického a tepelného zatěžování vzorků 13 Software mikroskopu 14 Řídící počítač pro mikroskop 15 Řídící počítač pro EDS, EBSD (WDS po dovybavení v budoucnu) 16 Pomocná zařízení nutná k provozu mikroskopu + další požadavky v ceně dodávky Optický systém rastrovacího elektronového mikroskopu 17 Jako zdroj elektronů je požadován Shottkyho emitor s vysokým jasem. 18 Dopadová energie emitovaných elektronů, měnitelná kontinuálně, v rozsahu alespoň 0,2-30 kev 19 Dosažitelná hodnota proudu svazku měřeného na Faradayově cele 100 na 20 Garantovaná stabilita proudu elektronového svazku (měřená na Faradayově cele po instalaci) s možnou odchylkou do max. +/- 0,5 % za hodinu a +/- 1% za 12 hodin 21 Rozlišení v SE při urychlovacím napětí 30 kv; ověřitelné na standardizovaném vzorku Au-C (gold on carbon). 1,2 nm 22 Rozlišení v SE při urychlovacím napětí 15 kv; ověřitelné na standardizovaném vzorku Au-C (gold on carbon). 1,5 nm 23 Objektivová čočka umožňuje práci v módu bez magnetického pole na vzorku. 24 Diferenční čerpání prostoru elektronového zdroje a optiky dostatečně účinnou vývěvou. 25 Automatické a manuální seřízení elektronového děla a optického systému. 26 Spojité nastavení proudu svazku v plném rozsahu urychlovacího napětí mikroskopu 27 Elektronový mikroskop vybaven systémem snížení rychlosti a energie dopadajících elektronů. Detekční systém rastrovacího elektronového mikroskopu 28 Detektor sekundárních elektronů (SE) uvnitř analytické komory.

4 29 Detektor sekundárních elektronů (SE) integrovaný do elektronového tubusu. 30 Detektor sekundárních elektronů (SE) určený pro práci v modu nízkého vakua. 31 Detektor zpětně odražených elektronů (BSE) instalovaný v rámci pólového nástavce nebo motorizovaný, výsuvný detektor zpětně odražených elektronů s minimálním rozlišením (detektor plně ovladatelný z prostředí operačního softwaru) alespoň 0,1 Z (atomového čísla) 32 Simultánní akvizice signálu z alespoň dvou libovolných detektorů. 33 Minimální velikost zorného pole bez deformace obrazu při použití nejmenšího možného zvětšení alespoň 50 mm 34 Integrovaná detekce a měření proudu absorbovaných elektronů. 35 Detekce a možnost zobrazení proudu elektronů absorbovaných vzorkem (EBIC). 36 Součástí dodávky je i standard částic zlata na uhlíku pro ověření rozlišení mikroskopu. Pracovní komora elektronového mikroskopu 37 Velikost pracovní komory elektronového mikroskopu a její kompletní konfigurace musí umožnit instalaci všech požadovaných zařízení a detektorů bez omezení jejich deklarovaných funkcí a použití požadované zadavatelem. 38 Systém ochrany nebo bezpečnostní prvek, který zastaví posun stolku mikroskopu se vzorkem v případě, že se dotkne kterékoli vnitřní části komory mikroskopu. 39 Integrované aktivní odpružení komory v rámu mikroskopu. 40 Přístup do komory mikroskopu pro velké vzorky odsunutím či odklopením jedné stěny komory. Musí být možné bez použití nářadí. 41 Maximální rozměry vzorku zakládaných přímo do pracovní komory s možností neomezeného zobrazení a analýzy celého povrchu vzorku: délka x šířka x výška min. 120 x 100 x 50 mm 42 Optimalizované geometrické uspořádání analytických detektorů umožńující simultánní EDS-EBSD a EDS-WDS analýzu. 43 Optimalizované porty pro montáž detekčních systémů elektronového mikroskopu, detektorů EDS, WDS a EBSD, IR kamery a plazmového dekontaminátoru. Geometrie portů musí zaručit plnou funkčnost všech zařízení. Instalovaná zařízení se nesmí vzájemně omezovat. 44 Počet volných portů na pracovní komoře elektronového mikroskopu pro budoucí instalaci dalších zařízení a detektorů alespoň 1 uchazeč 45 Plazmový dekontaminátor pro eliminaci uhlovodíkové kontaminace a čištění povrchu vzorků a vnitřních prostor pracovní komory elektronového mikroskopu. 46 Provoz dekontaminátoru neohrožuje vakuový systém mikroskopu. 47 IR kamera pro sledování vnitřku pracovní komory elektronového mikroskopu a polohy vzorku a detektorů. 48 Vakuový systém umožňující dosažení čistého vakua. V případě, že čerpací systém obsahuje olejovou vývěvu, pak čerpací systém je vhodným způsobem zajištěn proti vniku olejových par do pracovní komory elektronového mikroskopu za jakýchkoli okolností (i při odstávce nebo poruše systému). 49 Tlak v komoře je měřen vhodným způsobem v celém rozsahu pracovních podmínek a zobrazen pro kontrolu uživatelem. 50 Zavzdušňování komory elektronového mikroskopu kompatibilní s použitím dusíku minimální čistoty Čerpání a zavzdušnění zakládací komory je automatizováno a ovládáno pomocí softwaru. 52 Čas potřebný k výměně vzorku kratší než 15 minut 53 Elektronový mikroskop musí být vybaven možností práce v režimu nízkého vakua při tlaku v rozsahu (tlak v pracovní komoře) alespoň Pa Stolek mikroskopu 54 3-osý posuv včetně rotace v rovině vzorku a náklonu stolku plně funkční pro všechny dodávané držáky vzorků, všechny pohyby motorizované. 55 Softwarově ovládaný, automatizovaný stolek s posuvem v osách X x Y x Z alespoň 120 x 100 x 50 mm 56 Opakovatelnost nájezdu stolku s přesností alespoň 1 mikrometr 57 Využitelný rozsah náklonu stolku mikroskopu v obou směrech (-X až + X ) alespoň -5 až +70 uchazeč 58 Pozice zobrazované oblasti se zachovává při náklonu i rotaci vzorku. 59 Držák pro EBSD analýzu TEM fólií Detektor EDS 60 Detektor typu SDD, bez nutnosti chlazení kapalným dusíkem s garantovu funkčností v celém rozsahu pracovních podmínek. 61 Detektor vybaven motorickým vysunováním a zasunováním do pracovní pozice. 62 Velikost aktivní plochy snímacího čipu detektoru min. 80 mm 2 63 Schopnost detekce, kvalitativní a kvantitativní analýzy prvků v rozsahu od Be po Pu. 64 Garantovaná hodnota energiového rozlišení na manganu (Mn Ka) měřená v souladu s ISO 15632:2012 a ověřitelná měřením po instalaci detektoru 125 ev 65 Garantovaná hodnota energiového rozlišení na uhlíku (C Ka) měřená v souladu s ISO 15632:2012 a ověřitelná měřením po instalaci detektoru 50 ev EDS software 66 Multiuživatelský systém. 67 Musí umožňovat snímání obrazových signálů z mikroskopu. 68 Základní obrazová analýza (jas, kontrast, gamma korekce atd.). 69 Umožňuje kvantitativní bezstandardovou analýzu. 70 Musí umožňovat práci se standardy, vytváření vlastních knihoven standardů. 71 Musí umožňovat export/import spektra v otevřeném formátu (EMSA). 72 Volba analýz v bodě, v oblasti libovolně zvolené uživatelem, v linii a v definovaném rastru. U všech typů analýz je automaticky uloženo celé spektrum v každém bodě analýzy. 73 Vytváření map prvků s možností získání rozložení prvků v libovolné oblasti a podél čáry zvolené v nasnímané oblasti. 74 Musí umožňovat vytváření kvantitativní mapy rozložení prvků. 75 Maximální rozlišení prvkové distribuční mapy EDS alespoň 4096 x 4096 pixelů 76 Vytváření kvantitativních linescanů s rozlišením až 8192 bodů 77 Automatická detekce fází, tvorba fázových map na základě chemického složení, modální analýza. 78 Musí umožňovat ovládat posuvy stolku mikroskopu. 79 Musí umožňovat automatizaci procesu snímání větších ploch zahrnující snímkování povrchu vzorků a akvizice distribučních prvkových map, možnost rozčlenění analyzované oblasti na dílčí celky následované akvizicí dat a jejich následné spojení do jednoho datového výstupu. 80 Kompenzace driftu vzorku v průběhu analýzy. 81 Software umožňuje plnou integraci EDS systému s WDS systémem při splnění DHK č. 2 (či případným budoucím WDS systémem). 82 Software umožňuje plnou integraci EDS a EBSD 83 Software zahrnuje automatizovu částicovou analýzu i z více analyzovaných polí s vyhodnocením dat zahrnující základní charakteristiky detekovaných částic (např. velikost, tvar atd.) a chemické složení částic. 84 Musí umožňovat plánování automatizovaných analytických úloh za účelem automatické akvizice dat bez nutnosti dalšího zásahu uživatele, zahrnuje také možnost registrace libovolného snímku pořízeného v rámci softwaru a jeho využití pro navigaci a stvení polohy analytických bodů (ploch). 85 Musí umožňovat řešení interferencí čar analyzovaných prvků dekonvolučními metodami a pulse pile-up korekci (korekce pile-up píků až minimálně třetího řádu) v průběhu akvizice dat pro veškerá kvantitativní data, prvkové distribuční mapy a liniové analýzy 86 Minimálně jedna offline licence dodaného EDS softwaru pro dalšího uživatele. Detektor WDS (Hodnotící parametr) 87 WDS systém umožňuje detekci, kvalitativní a kvantitativní analýzu prvků od Be do Pu. 88 WDS systém umožňuje analýzu čar prvků v rozsahu energií rtg. záření (požadovaný rozsah kontinuálně pokryt vhodnými difrakčními krystaly) alespoň 100 ev - 10 kev 89 WDS systém musí umožnit montáž až 6 difrakčních krystalů najednou 90 WDS systém musí být vybaven difrakčními krystaly optimalizovanými pro analýzu C, N a O. 91 WDS spektrometr je vybaven vstupní štěrbinou (umístěnou před detektorem) s motorizovaným ovládáním její pozice a šířky pro optimalizaci intenzity vstupního signálu a poměru intenzit na peaku a pozadí. 92 Integrovaný systém měření proudu svazku pro kvantitativní WDS analýzu.

5 93 WDS spektrometr musí být vybaven dvěma detektory na bázi průtokového proporcionálního čítače a proporcionálního čítače se stálou náplní vhodného plynu (např. Xe) pro maximální efektivitu detekce rtg záření v požadovaném energiovém rozsahu, oba detektory umožňují detekci rtg. záření jak odděleně tak i současně podle volby uživatele. 94 Garantovaná intenzita signálu na čáře C Ka (měřená na standardu čistého uhlíku), poměr intenzity peaku k pozadí 400 pulsů za sekundu na 1 na, P/B Garantovaná intenzita signálu na čáře Fe Ka (měřená na standardu čistého železa), poměr intenzity peaku k pozadí 1000 pulsů za sekundu na 1 na P/B Součástí dodávky je sada standardů prvků/sloučenin pro kvantitativní WDS-EDS analýzu. Pokryty alespoň prvky: Al, Ba, Be, B, Ca, Ce, Cd, Cl, Cr, Co, C, Cu, Ge, Au, In, Ir, F, Fe, K, La, Pb, Mn, Mo, Mg, N, Na, Ni, Nb, P, Pd, Pt, Re, Rh, S, Se, Sc, Si, Sr, Ag, Ta, Te, Sb, Sn, Ti, W, V, Y, Zn, Zr, Bi, Hf. Referenční materiály dodány s certifikátem složení. WDS software (Hodnotící parametr) 97 Požadována plná softwarová integrace s EDS systémem v rámci jednoho softwaru. 98 Simultání EDS-WDS kvantitativní analýza s možností volby prvků analyzovaných WDS nebo EDS podle požadavků uživatele. 99 Analytické funkce umožňující akvizici spektrálních scanů, ověření přítomnosti prvku ve vzorku a kvantitativní analýzu s použitím standardů. 100 Automatická kalibrace detektorů 101 Minimálně jedna offline licence dodaného WDS softwaru pro dalšího uživatele. EBSD detektor 102 EBSD detektor jehož funkčnost je zaručena v celém rozsahu pracovních podmínek. 103 Rozlišení kamery detektoru EBSD 1 Mpix 104 Framerate EBSD detektoru 100 fps 105 Součástí dodávky EBSD systému je i FSD detektor (forward scattered detector). 106 Dodání a zajištění výměny fosforových stínítek EBSD detektoru v ceně dodávky v počtu alespoň 2 ks 107 Musí umožňovat provést "in situ" EBSD analýzu - změnu mikrostruktury během tepelného a mechanického zatěžování (alespoň tah, tlak) vzorků pomocí zkušebního zařízení instalovaného v pracovní komoře mikroskopu EBSD software Software pro akvizici a analýzu EBSD dat musí umožňovat úplnou dostupnost všech funkcí k ovládání EBSD detektoru a podmínek analýzy a akvizice dat, dále umožňuje minimálně konstrukci map IPF (inverse pole figure), pólových obrazců, inverzních pólových 108 obrazců, výpočet ODF/MDF funkcí (orientation/misorientation distribution function), analýzu textury, filtraci dat, manuální a podmíněný výběr dat v mapách, export vybraných dat do samostatných datasetů a vytváření vlastních databází krystalografických dat a jejich neomezené použití v rámci EBSD softwaru. 109 Alespoň dvě časově neomezené databáze krystalografických dat rganických látek s úplnou přístupností ze softwaru ovládajícího EBSD systém. 110 EBSD software je plně integrován s EDS softwarem v rámci jednoho softwarového rozhraní, umožňuje simultání akvizici EBSD-EDS dat a podporu identifikace krystalové struktury daty z EDS. 111 Minimálně jedna offline licence dodaného EBSD softwaru a databází pro dalšího uživatele. Zkušební zařízení pro mechanické a tepelné zatěžování vzorků 112 Zkušební zařízení musí být schopné testovat kovové i nekovové materiály v pracovní komoře elektronového mikroskopu 113 Zkušební zařízení odnímatelné z pracovní komory elektronového mikroskopu 114 Zkušební zařízení musí umožnit mechanické namahání vzorků na tah, tlak, ohyb 115 Maximální zatížení vzorku min N 116 Zkušební zařízení musí být schopné testovat zkušební vzorky za zvýšených teplot (Technická podmínka č. 117) 117 Maximální teplota vzorku min. 600 C 118 Rozsah rychlosti zatěžování alespoň 0,05 az 4 mm/min 119 Maximální možná měřitelná deformace alespoň 10 mm 120 Přesnost měření deformace alespoň 20 mikrometrů 121 Systém ochrany proti přetížení zařízení Software pro nastavení parametrů mechanického a tepelného zatěžování vzorků 122 Umožňuje nastavení parametrů namáhání (typ mechanického namáhání, možná kombinace namáhání, velikost zatížení, rychlost zatěžování) 123 Musí umožňovat pořízení videozáznamu obrazu ze SEM synchronizovaný se zatěžovací křivkou. 124 Nastavení teploty vzorku (rychlost ohřevu, výdrž na teplotě, výše teploty, apod.) Software mikroskopu 126 Automatické nastavení jas-kontrast (ACB), zaostření (AF) a stigmátorů. 127 Funkce nastavení dynamického fokusu na hodnotu Softwarová rotace obrazu a korekce náklonu vzorku. 129 Současné zobrazení alespoň dvou živých obrazů. 130 Umožňuje snímat obrazy 16 bitově s maximálním rozlišením alespoň 250 Mpx 131 Obrazové formáty minimálně TIFF, BMP, JPG. 132 Integrovaný software pro základní obrazovou analýzu, vkládání měřítek do snímků a vytváření protokolu o pozorování. 133 Integrovaný software pro měření vzdáleností, úhlů a ploch v živém i uloženém obrazu SEM. 134 Software umožňuje načtení obrazu pomocí alespoň jednoho z instalovaných detektorů (např. SE detektoru), import obrazu vzorků pořízený jiným zařízením, registraci obrazu a použití pro navigaci mezi analyzovanými oblastmi na vzorku. 135 Umožňuje snímání videosekvencí obrazu analyzovaného vzorku. 136 Automatizované snímání, spojení a ukládání snímků definovaných oblastí. 137 Umožňuje zobrazit a snímat obrazy v kombinaci signálů SE a BSE (např. obraz 50% v SE a 50% v BSE) Řídící počítač pro mikroskop 138 Typ PC - pracovní stanice (workstation) kompatibilní s pracovními stanicemi zadavatele. 139 bitová verze) a dvěma monitory s úhlopříčkou Operační paměť alespoň 32 GB pevné disky s kapacitou pro každý z nich alespoň 1 TB 144 Barevná laserová tiskárna formátu A4 s rozlišením tisku. minimálně 1200 dpi 145 Řídící panel ovládání mikroskopu. 146 Klávesnice česká (qwertz) USB a optická nebo laserová bezdrátová multifunkční myš Řídící počítač pro EDS, EBSD (WDS po dovybavení v budoucnu) 147 Typ PC - pracovní stanice (workstation) kompatibilní s pracovními stanicemi zadavatele. 148 bitová verze) a s úhlopříčkou Operační paměť alespoň 32 GB pevné disky s kapacitou pro každý z nich. alespoň 1 TB 153 Klávesnice česká (qwerty) USB a optická nebo laserová bezdrátová multifunkční myš Pomocná zařízení nutná k provozu mikroskopu + další požadavky v ceně dodávky 154 Systém chlazení (je-li nutný). 155 Kompresor pro stlačný vzduch (je-li nutný). 156 UPS schopna udržet mikroskop i nutná zařízení v provozu nejméně 1 hodinu. 157 Aktivní systém kompenzace elektromagnetického rušení s potlačením nejméně 30x včetně stejnosměrné složky. 158 Systém pro analýzu tloušťky a chemického složení tenkých vrstev a multivrstev plně integrovaný do analytického a ovládacího softwaru

6 159 Jedna výměna katody zdarma zahrnutá v ceně dodávky. 160 Další dvě výměny katody zdarma v ceně dodávky Hodnotící parametr 161 Reaktivní a prediktivní softwarová korekce driftu Hodnotící parametr