Příloha č. 1 - technické podmínky - část 2 Řádkovací elektronový mikroskop SEM-FIB s detektory EDS, WDS a EBSD

Příloha č. 1 - technické podmínky - část 2 Řádkovací elektronový mikroskop SEM-FIB s detektory EDS, WDS a EBSD 1. Kupující v zadávacím řízení poptal dodávku zařízení vyhovujícího následujícím technickým požadavkům: Popis zařízení " Řádkovací elektronový mikroskop (FEGSEM) s FIB a detektory WDS, EDS a EBSD" : Rastrovací elektronový mikroskop s autoemisní FEG katodou, pracující v módu vysokého vakua, vhodný pro výzkum kovových materiálů a umožňující zkoumání a zobrazování i nevodivých keramických a kompozitních materiálů. Mikroskop musí být vybaven zdrojem fokusovaného svazku iontů pro mikroobrábění vzorku a přípravu TEM lamel včetně mikromanipulátoru. Součástí mikroskopu musí být zařízení pro čištění povrchu vzorků pomocí plazmového výboje přímo v komoře mikroskopu a kvalitní analyzátory pro stvení chemického složení mikroobjemů materiálů pomocí energiově-dispersní mikroanalýzy rtg-záření (EDS) typu SDD, vysokorozlišovací detektor WDS s možností detekce lekých i těžkých prvků a detektor EBSD. Dodaný SW musí být schopen spolupráce detektorů EDS a WDS i EDS a EBSD pro kvantitativní vyhodnocování a mapping, spolu s FIB musí umožňovat 3D akvizici mikrostrukturních a analytických dat. Součástí kontraktu je jedna výměna elektronového zdroje zdarma. Dodávka musí obsahovat všechny komponenty, práce a potřebné doplňky zajišťující propojení a funkci dále uvedených zkušebních zařízení s rozsahem funkcí uvedených v těchto minimálních podmínkách a to i k tomuto účelu nezbytné komponenty nebo práce, které nejsou v poptávce přímo uvedeny. Instalace musí zajistit úplné propojení dodaných komponent s cílem zajistit zadu funkčnost celé dodávky. Součástí nabídky musí být Datové listy výrobce sloužící k ověření specifikovaných Technických parametrů Kupujícím. Číslo Technické a funkční vlastnosti Požadovaná hodnota Technické požadavky na řádkovací elektronový mikroskop (FEGSEM) s FIB a detektory EDS, WDS a EBSD Položky požadovaného systému 1 Optický systém rastrovacího elektronového mikroskopu 2 Detekční systém rastrovacího elektronového mikroskopu 3 Pracovní komora elektronového mikroskopu 4 Stolek mikroskopu 5 Systém fokusovaného iontového svazku a zařízení pro vstřikování plynů (FIB, GIS) 6 Nmanipulátor 7 Detektor EDS 8 EDS software 9 Detektor WDS 10 WDS software 11 EBSD detektor 12 EBSD software 13 Software mikroskopu 14 Řídící počítač pro mikroskop 15 Řídící počítač pro EDS, WDS a EBSD 16 Pomocná zařízení nutná k provozu mikroskopu + další požadavky v ceně dodávky Optický systém rastrovacího elektronového mikroskopu 17 Jako zdroj elektronů je požadován Shottkyho emitor s vysokým jasem. 18 Dopadová energie emitovaných elektronů, měnitelná kontinuálně, v rozsahu alespoň 0,2-30 kev 19 Dosažitelná hodnota proudu svazku měřeného na Faradayově cele 100 na 20 Garantovaná stabilita proudu elektronového svazku (měřená na Faradayově cele po instalaci) s možnou odchylkou do max. +/- 0,5 % za hodinu a +/- 1% za 12 hodin 21 Rozlišení v SE při urychlovacím napětí 30 kv; ověřitelné na standardizovaném vzorku Au-C (gold on carbon). 1,2 nm 22 Rozlišení v SE při urychlovacím napětí 15 kv; ověřitelné na standardizovaném vzorku Au-C (gold on carbon). 1,5 nm 23 Objektivová čočka umožňuje práci v módu bez magnetického pole na vzorku. 24 Diferenční čerpání prostoru elektronového zdroje a optiky dostatečně účinnou vývěvou. 25 Automatické a manuální seřízení elektronového děla a optického systému. 26 Spojité nastavení proudu svazku v plném rozsahu urychlovacího napětí mikroskopu 27 Elektronový mikroskop vybaven systémem snížení rychlosti a energie dopadajících elektronů. Detekční systém rastrovacího elektronového mikroskopu 28 Detektor sekundárních elektronů (SE) uvnitř analytické komory. 29 Detektor sekundárních elektronů (SE) integrovaný do elektronového tubusu. 30 Detektor sekundárních elektronů (SE) určený pro práci v modu nízkého vakua. 31 Detektor zpětně odražených elektronů (BSE) instalovaný v rámci pólového nástavce nebo motorizovaný, výsuvný detektor zpětně odražených elektronů s minimálním rozlišením (detektor plně ovladatelný z prostředí operačního softwaru) alespoň 0,1 Z (atomového čísla) 32 Simultánní akvizice signálu z alespoň dvou libovolných detektorů. 33 Minimální velikost zorného pole bez deformace obrazu při použití nejmenšího možného zvětšení alespoň 50 mm 34 Integrovaná detekce a měření proudu absorbovaných elektronů. 35 Detekce a možnost zobrazení proudu elektronů absorbovaných vzorkem (EBIC). 36 Součástí dodávky je i standard částic zlata na uhlíku pro ověření rozlišení mikroskopu. Pracovní komora elektronového mikroskopu 37 Velikost pracovní komory elektronového mikroskopu a její kompletní konfigurace musí umožnit instalaci všech požadovaných zařízení a detektorů bez omezení jejich deklarovaných funkcí a použití požadované zadavatelem. 38 Systém ochrany nebo bezpečnostní prvek, který zastaví posun stolku mikroskopu se vzorkem v případě, že se dotkne kterékoli vnitřní části komory mikroskopu. 39 Integrované aktivní odpružení komory v rámu mikroskopu. 40 Přístup do komory mikroskopu pro velké vzorky odsunutím či odklopením jedné stěny komory. Musí být možné bez použití nářadí. 41 Maximální rozměry vzorků zakládaných přímo do pracovní komory s možností neomezeného zobrazení a analýzy celého povrchu vzorku: délka x šířka x výška min. 120 x 100 x 50 mm 42 Optimalizované geometrické uspořádání analytických detektorů umožńující simultánní EDS-EBSD a EDS-WDS analýzu. 43 Optimalizované porty pro montáž detekčních systémů elektronového mikroskopu, detektorů EDS, WDS a EBSD, IR kamery a plazmového dekontaminátoru. Geometrie portů musí zaručit plnou funkčnost všech zařízení. Instalovaná zařízení se nesmí vzájemně omezovat. 44 Počet volných portů na pracovní komoře elektronového mikroskopu pro budoucí instalaci dalších zařízení a detektorů alespoň 1 45 Plazmový dekontaminátor pro eliminaci uhlovodíkové kontaminace a čištění povrchu vzorků a vnitřních prostor pracovní komory elektronového mikroskopu. 46 Provoz dekontaminátoru neohrožuje vakuový systém mikroskopu. 47 IR kamera pro sledování vnitřku pracovní komory elektronového mikroskopu a polohy vzorku a detektorů. 48 Vakuový systém umožňující dosažení čistého vakua. V případě, že čerpací systém obsahuje olejovou vývěvu, pak čerpací systém je vhodným způsobem zajištěn proti vniku olejových par do pracovní komory elektronového mikroskopu za jakýchkoli okolností (i při odstávce nebo poruše systému). 49 Tlak v komoře je měřen vhodným způsobem v celém rozsahu pracovních podmínek a zobrazen pro kontrolu uživatelem. 50 Zavzdušňování komory elektronového mikroskopu kompatibilní s použitím dusíku minimální čistoty 4.0 51 Čerpání a zavzdušnění zakládací komory je automatizováno a ovládáno pomocí softwaru. 52 Čas potřebný k výměně vzorku kratší než 15 minut 53 Elektronový mikroskop musí být vybaven možností práce v režimu nízkého vakua při tlaku v rozsahu (tlak v pracovní komoře) alespoň 10-500 Pa Stolek mikroskopu

54 3-osý posuv včetně rotace v rovině vzorku a náklonu stolku plně funkční pro všechny dodávané držáky vzorků, všechny pohyby motorizované. 55 Softwarově ovládaný, automatizovaný stolek s posuvem v osách X x Y x Z alespoň 120 x 100 x 50 mm 56 Opakovatelnost nájezdu stolku s přesností alespoň 1 mikrometr 57 Využitelný rozsah náklonu stolku mikroskopu v obou směrech (-X až + X ) alespoň -5 až +70 58 Pozice zobrazované oblasti se zachovává při náklonu i rotaci vzorku. 59 Držák pro EBSD analýzu TEM fólií Systém fokusovaného iontového svazku a zařízení pro vstřikování plynů (FIB, GIS) 60 Zdroj iontů Ga LMIS (Ga Liquid Metal Ion Source). 61 Urychlovací napětí měnitelné kontinuálně v rozsahu alespoň 0,5-30 kv 62 Rozlišení při nejvyšším pracovním urychlovacím napětí 2,5 nm 63 Maximální dosažitelný proud svazku alespoň 50 na 64 Zajištění EDS a EBSD analýz v režimu 3D. 65 Systém je vybaven HW i SW zaručujícím plnou funkčnost FIB a GIS. 66 Musí umožňovat vytváření vlastních skriptů pro automatizaci FIB/SEM operací. 67 Automatické procedury pro fabrikaci TEM lamel. 68 Motorizovaný posuv systému vstřikování plynů. 69 Nejméně tři vstřikovací trysky. 70 Systém připouštění prekurzorů pro depozici minimálně C, Pt, W na povrchu vzorku s možností přidání připouštění plynného kyslíku z externího zdroje. 71 Zásobníky prekurzorů vybaveny automatickým řízením teploty. Nmanipulátor 72 Integrovaný nmanipulátor schopný vyzdvihnout TEM lamelu a umístit ji na připravený přípravek, ovládání integrováno do softwaru elektronového mikroskopu. Nmanipulátor nesmí být připevněn na stolek mikroskopu. 73 Systém rychlé výměny jehly nmanipulátoru. 74 Součástí dodávky jsou náhradní hroty do manipulátoru v počtu minimálně 5 ks 75 Nejmenší krok v osách X, Y, Z < 50 nm Detektor EDS 76 Detektor typu SDD, bez nutnosti chlazení kapalným dusíkem s garantovu funkčností v celém rozsahu pracovních podmínek. 77 Detektor vybaven motorickým vysunováním a zasunováním do pracovní pozice. 78 Velikost aktivní plochy snímacího čipu detektoru min. 80 mm 2 79 Schopnost detekce, kvalitativní a kvantitativní analýzy prvků v rozsahu od Be po Pu. 80 Garantovaná hodnota energiového rozlišení na manganu (Mn Ka) měřená v souladu s ISO 15632:2012 a ověřitelná měřením po instalaci detektoru 125 ev 81 Garantovaná hodnota energiového rozlišení na uhlíku (C Ka) měřená v souladu s ISO 15632:2012 a ověřitelná měřením po instalaci detektoru 50 ev EDS software 82 Multiuživatelský systém. 83 Umožňuje snímání obrazových signálů z mikroskopu. 84 Základní obrazová analýza (jas, kontrast, gamma korekce atd.). 85 Musí umožňovat kvantitativní bezstandardovou analýzu. 86 Umožňuje práci se standardy a vytváření vlastních knihoven standardů. 87 Musí umožňovat export/import spektra v otevřeném formátu (EMSA). 88 Volba analýz v bodě, v oblasti libovolně zvolené uživatelem, v linii a v definovaném rastru. U všech typů analýz je automaticky uloženo celé spektrum v každém bodě analýzy. 89 Vytváření map prvků s možností získání rozložení prvků v libovolné oblasti a podél čáry zvolené v nasnímané oblasti. 90 Možnost vytvářet kvantitativní mapy rozložení prvků. 91 Maximální rozlišení prvkové distribuční mapy EDS alespoň 4096 x 4096 pixelů 92 Vytváření kvantitativních linescanů s rozlišením až 8192 bodů 93 Automatická detekce fází, tvorba fázových map na základě chemického složení, modální analýza. 94 Umožňuje ovládat posuvy stolku mikroskopu. 95 Umožňuje automatizaci procesu snímání větších ploch zahrnující snímkování povrchu vzorků a akvizici distribučních prvkových map, umožňuje rozčlenění analyzované oblasti na dílčí celky následované akvizicí dat a jejich následné spojení do jednoho datového výstupu. 96 Kompenzace driftu vzorku v průběhu analýzy. 97 Software umožňuje plnou integraci EDS systému s WDS systémem. 98 Software umožňuje plnou integraci EDS a EBSD systémů a plnou podporu práce obou systémů v režimu 3D. 99 Software zahrnuje automatizovu částicovou analýzu i z více analyzovaných polí s vyhodnocením dat zahrnující základní charakteristiky detekovaných částic (např. velikost, tvar atd.) a chemické složení částic. 100 Musí umožňovat plánování automatizovaných analytických úloh za účelem automatické akvizice dat bez nutnosti dalšího zásahu uživatele, zahrnuje také možnost registrace libovolného snímku pořízeného v rámci softwaru a jeho využití pro navigaci a stvení polohy analytických bodů (ploch). 101 Musí umožňovat řešení interferencí čar analyzovaných prvků dekonvolučními metodami a pulse pile-up korekci (korekce pile-up píků až minimálně třetího řádu) v průběhu akvizice dat pro veškerá kvantitativní data, prvkové distribuční mapy a liniové analýzy 102 Minimálně jedna offline licence dodaného EDS softwaru pro dalšího uživatele. Detektor WDS 103 WDS systém umožňuje detekci, kvalitativní a kvantitativní analýzu prvků od Be do Pu. 104 WDS systém umožňuje analýzu čar prvků v rozsahu energií rtg. záření (požadovaný rozsah kontinuálně pokryt vhodnými difrakčními krystaly) alespoň 100 ev - 10 kev 105 WDS systém musí umožnit montáž až 6 difrakčních krystalů najednou 106 WDS systém musí být vybaven difrakčními krystaly optimalizovanými pro analýzu C, N a O. 107 WDS spektrometr je vybaven vstupní štěrbinou (umístěnou před detektorem) s motorizovaným ovládáním její pozice a šířky pro optimalizaci intenzity vstupního signálu a poměru intenzit na peaku a pozadí. 108 Integrovaný systém měření proudu svazku pro kvantitativní WDS analýzu. 109 WDS spektrometr musí být vybaven dvěma detektory na bázi průtokového proporcionálního čítače a proporcionálního čítače se stálou náplní vhodného plynu (např. Xe) pro maximální efektivitu detekce rtg záření v požadovaném energiovém rozsahu, oba detektory umožňují detekci rtg. záření jak odděleně tak i současně podle volby uživatele. 110 Garantovaná intenzita signálu na čáře C Ka (měřená na standardu čistého uhlíku), poměr intenzity peaku k pozadí (P/B) 400 pulsů za sekundu na 1 na, P/B 50 111 Garantovaná intenzita signálu na čáře Fe Ka (měřená na standardu čistého železa), poměr intenzity peaku k pozadí (P/B) 1000 pulsů za sekundu na 1 na, P/B 500 112 Součástí dodávky je sada standardů prvků/sloučenin pro kvantitativní WDS-EDS analýzu. Pokryty alespoň prvky: Al, Ba, Be, B, Ca, Ce, Cd, Cl, Cr, Co, C, Cu, Ge, Au, In, Ir, F, Fe, K, La, Pb, Mn, Mo, Mg, N, Na, Ni, Nb, P, Pd, Pt, Re, Rh, S, Se, Sc, Si, Sr, Ag, Ta, Te, Sb, Sn, Ti, W, V, Y, Zn, Zr, Bi, Hf. Referenční materiály dodány s certifikátem složení. WDS software 113 Požadována plná softwarová integrace s EDS systémem v rámci jednoho softwaru. 114 Simultání EDS-WDS kvantitativní analýza s možností volby prvků analyzovaných WDS nebo EDS podle požadavků uživatele. 115 Analytické funkce umožňující akvizici spektrálních scanů, ověření přítomnosti prvku ve vzorku a kvantitativní analýzu s použitím standardů. 116 Automatická kalibrace detektorů

117 Minimálně jedna offline licence dodaného WDS softwaru pro dalšího uživatele. EBSD detektor 118 EBSD detektor jehož funkčnost je zaručena v celém rozsahu pracovních podmínek. 119 Rozlišení kamery detektoru EBSD 640 x 480 px 120 Framerate EBSD detektoru 800 fps 121 Součástí dodávky EBSD systému je i FSD detektor (forward scattered detector). 122 Dodání a zajištění výměny fosforových stínítek EBSD detektoru v ceně dodávky v počtu alespoň 2 ks EBSD software 123 Software pro akvizici a analýzu EBSD dat umožňuje úplnou dostupnost všech funkcí k ovládání EBSD detektoru a podmínek analýzy a akvizice dat, dále umožňuje minimálně konstrukci map IPF (inverse pole figure), pólových obrazců, inverzních pólových obrazců, výpočet ODF/MDF funkcí (orientation/misorientation distribution function), analýzu textury, filtraci dat, manuální a podmíněný výběr dat v mapách, export vybraných dat do samostatných datasetů a vytváření vlastních databází krystalografických dat a jejich neomezené použití v rámci EBSD softwaru. 124 Alespoň dvě časově neomezené databáze krystalografických dat rganických látek s úplnou přístupností ze softwaru ovládajícího EBSD systém. 125 EBSD software je plně integrován s EDS softwarem v rámci jednoho softwarového rozhraní, umožňuje simultání akvizici EBSD-EDS dat a podporu identifikace krystalové struktury daty z EDS. 126 Podpora EBSD analýzy v režimu 3D. 127 Minimálně jedna offline licence dodaného EBSD softwaru a databází pro dalšího uživatele. Software mikroskopu 128 Automatické nastavení jas-kontrast (ACB), zaostření (AF) a stigmátorů. 129 Funkce nastavení dynamického fokusu na hodnotu 70. 130 Softwarová rotace obrazu a korekce náklonu vzorku. 131 Současné zobrazení alespoň dvou živých obrazů. 132 Umožňuje snímat obrazy 16 bitově s maximálním rozlišením alespoň 250 Mpx 133 Obrazové formáty minimálně TIFF, BMP, JPG. 134 Integrovaný software pro základní obrazovou analýzu, vkládání měřítek do snímků a vytváření protokolu o pozorování. 135 Integrovaný software pro měření vzdáleností, úhlů a ploch v živém i uloženém obrazu SEM. 136 Integrované ovládání FIB. 137 Integrované ovládání nmanipulátoru. 138 Automatické operace k produkci TEM lamel na zvolených lokacích. 139 Spolupráce mezi mikroskopem, FIB a EDS-EBSD analytickými detektory umožňující 3D akvizice dat a rekonstrukce. 140 Možnost 3D zobrazení povrchu vzorku. 141 Software umožňuje načtení obrazu pomocí alespoň jednoho z instalovaných detektorů (např. SE detektoru), import obrazu vzorků pořízený jiným zařízením, registraci obrazu a použití pro navigaci mezi analyzovanými oblastmi na vzorku. 142 Musí umožňovat snímání videosekvencí obrazu analyzovaného vzorku. 143 Automatizované snímání, spojení a ukládání snímků definovaných oblastí. 144 Umožňuje zobrazit a snímat obrazy v kombinaci signálů SE a BSE (např. obraz 50% v SE a 50% v BSE) Řídící počítač pro mikroskop 145 Typ PC - pracovní stanice (workstation) kompatibilní s pracovními stanicemi zadavatele. 146 bitová verze) a dvěma monitory s úhlopříčkou 147 148 systémů. 149 Operační paměť alespoň 32 GB 150 2 pevné disky s kapacitou pro každý z nich alespoň 1 TB 151 Barevná laserová tiskárna formátu A4 s rozlišením tisku minimálně 1200 dpi 152 Řídící panel ovládání mikroskopu. 153 Klávesnice česká (qwerty) USB a optická nebo laserová bezdrátová multifunkční myš Řídící počítač pro EDS, WDS a EBSD 154 Typ PC - pracovní stanice (workstation) kompatibilní s pracovními stanicemi zadavatele. 155 bitová verze) a s úhlopříčkou 156 157 systémů 158 Operační paměť alespoň 32 GB 159 2 pevné disky s kapacitou pro každý z nich. alespoň 1 TB Pomocná zařízení nutná k provozu mikroskopu + další požadavky v ceně dodávky 160 Systém chlazení (je-li nutný). 161 Kompresor pro stlačený vzduch (je-li nutný). 162 UPS schopna udržet mikroskop i nutná zařízení v provozu nejméně 1 hodinu. 163 Aktivní systém kompenzace elektromagnetického rušení s potlačením nejméně 30x včetně stejnosměrné složky. 164 Systém pro analýzu tloušťky a chemického složení tenkých vrstev a multivrstev plně integrovaný do analytického a ovládacího softwaru 165 Jedna výměna katody zdarma zahrnutá v ceně dodávky 166 Další dvě výměny katody zdarma v ceně dodávky Hodnotící parametr 167 Reaktivní a prediktivní softwarová korekce driftu Hodnotící parametr 2. Prodávající ke splnění závazků ze Smlouvy Kupujícímu dodá, nainstaluje, otestuje Číslo Technické a funkční vlastnosti Požadovaná hodnota Garantovaná hodnota Technické požadavky na řádkovací elektronový mikroskop (FEGSEM) s FIB a detektory EDS, WDS a EBSD Položky požadovaného systému 1 Optický systém rastrovacího elektronového mikroskopu 2 Detekční systém rastrovacího elektronového mikroskopu 3 Pracovní komora elektronového mikroskopu 4 Stolek mikroskopu 5 Systém fokusovaného iontového svazku a zařízení pro vstřikování plynů (FIB, GIS) 6 Nmanipulátor 7 Detektor EDS 8 EDS software 9 Detektor WDS 10 WDS software 11 EBSD detektor 12 EBSD software 13 Software mikroskopu 14 Řídící počítač pro mikroskop

15 Řídící počítač pro EDS, WDS a EBSD 16 Pomocná zařízení nutná k provozu mikroskopu + další požadavky v ceně dodávky Optický systém rastrovacího elektronového mikroskopu 17 Jako zdroj elektronů je požadován Shottkyho emitor s vysokým jasem. 18 Dopadová energie emitovaných elektronů, měnitelná kontinuálně, v rozsahu alespoň 0,2-30 kev 19 Dosažitelná hodnota proudu svazku měřeného na Faradayově cele 100 na 20 Garantovaná stabilita proudu elektronového svazku (měřená na Faradayově cele po instalaci) s možnou odchylkou do max. +/- 0,5 % za hodinu a +/- 1% za 12 hodin 21 Rozlišení v SE při urychlovacím napětí 30 kv; ověřitelné na standardizovaném vzorku Au-C (gold on carbon). 1,2 nm 22 Rozlišení v SE při urychlovacím napětí 15 kv; ověřitelné na standardizovaném vzorku Au-C (gold on carbon). 1,5 nm 23 Objektivová čočka umožňuje práci v módu bez magnetického pole na vzorku. 24 Diferenční čerpání prostoru elektronového zdroje a optiky dostatečně účinnou vývěvou. 25 Automatické a manuální seřízení elektronového děla a optického systému. 26 Spojité nastavení proudu svazku v plném rozsahu urychlovacího napětí mikroskopu 27 Elektronový mikroskop vybaven systémem snížení rychlosti a energie dopadajících elektronů. Detekční systém rastrovacího elektronového mikroskopu 28 Detektor sekundárních elektronů (SE) uvnitř analytické komory. 29 Detektor sekundárních elektronů (SE) integrovaný do elektronového tubusu. 30 Detektor sekundárních elektronů (SE) určený pro práci v modu nízkého vakua. 31 Detektor zpětně odražených elektronů (BSE) instalovaný v rámci pólového nástavce nebo motorizovaný, výsuvný detektor zpětně odražených elektronů s minimálním rozlišením (detektor plně ovladatelný z prostředí operačního softwaru) alespoň 0,1 Z (atomového čísla) 32 Simultánní akvizice signálu z alespoň dvou libovolných detektorů. 33 Minimální velikost zorného pole bez deformace obrazu při použití nejmenšího možného zvětšení alespoň 50 mm 34 Integrovaná detekce a měření proudu absorbovaných elektronů. 35 Detekce a možnost zobrazení proudu elektronů absorbovaných vzorkem (EBIC). 36 Součástí dodávky je i standard částic zlata na uhlíku pro ověření rozlišení mikroskopu. Pracovní komora elektronového mikroskopu 37 Velikost pracovní komory elektronového mikroskopu a její kompletní konfigurace musí umožnit instalaci všech požadovaných zařízení a detektorů bez omezení jejich deklarovaných funkcí a použití požadované zadavatelem. 38 Systém ochrany nebo bezpečnostní prvek, který zastaví posun stolku mikroskopu se vzorkem v případě, že se dotkne kterékoli vnitřní části komory mikroskopu. 39 Integrované aktivní odpružení komory v rámu mikroskopu. 40 Přístup do komory mikroskopu pro velké vzorky odsunutím či odklopením jedné stěny komory. Musí být možné bez použití nářadí. 41 Maximální rozměry vzorků zakládaných přímo do pracovní komory s možností neomezeného zobrazení a analýzy celého povrchu vzorku: délka x šířka x výška min. 120 x 100 x 50 mm 42 Optimalizované geometrické uspořádání analytických detektorů umožńující simultánní EDS-EBSD a EDS-WDS analýzu. 43 Optimalizované porty pro montáž detekčních systémů elektronového mikroskopu, detektorů EDS, WDS a EBSD, IR kamery a plazmového dekontaminátoru. Geometrie portů musí zaručit plnou funkčnost všech zařízení. Instalovaná zařízení se nesmí vzájemně omezovat. 44 Počet volných portů na pracovní komoře elektronového mikroskopu pro budoucí instalaci dalších zařízení a detektorů alespoň 1 Hodnotící parametr 45 Plazmový dekontaminátor pro eliminaci uhlovodíkové kontaminace a čištění povrchu vzorků a vnitřních prostor pracovní komory elektronového mikroskopu. 46 Provoz dekontaminátoru neohrožuje vakuový systém mikroskopu. 47 IR kamera pro sledování vnitřku pracovní komory elektronového mikroskopu a polohy vzorku a detektorů. 48 Vakuový systém umožňující dosažení čistého vakua. V případě, že čerpací systém obsahuje olejovou vývěvu, pak čerpací systém je vhodným způsobem zajištěn proti vniku olejových par do pracovní komory elektronového mikroskopu za jakýchkoli okolností (i při odstávce nebo poruše systému). 49 Tlak v komoře je měřen vhodným způsobem v celém rozsahu pracovních podmínek a zobrazen pro kontrolu uživatelem. 50 Zavzdušňování komory elektronového mikroskopu kompatibilní s použitím dusíku minimální čistoty 4.0 51 Čerpání a zavzdušnění zakládací komory je automatizováno a ovládáno pomocí softwaru. 52 Čas potřebný k výměně vzorku kratší než 15 minut 53 Elektronový mikroskop musí být vybaven možností práce v režimu nízkého vakua při tlaku v rozsahu (tlak v pracovní komoře) alespoň 10-500 Pa Stolek mikroskopu 54 3-osý posuv včetně rotace v rovině vzorku a náklonu stolku plně funkční pro všechny dodávané držáky vzorků, všechny pohyby motorizované. 55 Softwarově ovládaný, automatizovaný stolek s posuvem v osách X x Y x Z alespoň 120 x 100 x 50 mm 56 Opakovatelnost nájezdu stolku s přesností alespoň 1 mikrometr 57 Využitelný rozsah náklonu stolku mikroskopu v obou směrech (-X až + X ) alespoň -5 až +70 Hodnotící parametr 58 Pozice zobrazované oblasti se zachovává při náklonu i rotaci vzorku. 59 Držák pro EBSD analýzu TEM fólií Systém fokusovaného iontového svazku a zařízení pro vstřikování plynů (FIB, GIS) 60 Zdroj iontů Ga LMIS (Ga Liquid Metal Ion Source). 61 Urychlovací napětí měnitelné kontinuálně v rozsahu alespoň 0,5-30 kv 62 Rozlišení při nejvyšším pracovním urychlovacím napětí 2,5 nm 63 Maximální dosažitelný proud svazku alespoň 50 na 64 Zajištění EDS a EBSD analýz v režimu 3D. 65 Systém je vybaven HW i SW zaručujícím plnou funkčnost FIB a GIS. 66 Musí umožňovat vytváření vlastních skriptů pro automatizaci FIB/SEM operací. 67 Automatické procedury pro fabrikaci TEM lamel. 68 Motorizovaný posuv systému vstřikování plynů. 69 Nejméně tři vstřikovací trysky. 70 Systém připouštění prekurzorů pro depozici minimálně C, Pt, W na povrchu vzorku s možností přidání připouštění plynného kyslíku z externího zdroje. 71 Zásobníky prekurzorů vybaveny automatickým řízením teploty. Nmanipulátor 72 Integrovaný nmanipulátor schopný vyzdvihnout TEM lamelu a umístit ji na připravený přípravek, ovládání integrováno do softwaru elektronového mikroskopu. Nmanipulátor nesmí být připevněn na stolek mikroskopu. 73 Systém rychlé výměny jehly nmanipulátoru. 74 Součástí dodávky jsou náhradní hroty do manipulátoru v počtu minimálně 5 ks 75 Nejmenší krok v osách X, Y, Z < 50 nm Detektor EDS 76 Detektor typu SDD, bez nutnosti chlazení kapalným dusíkem s garantovu funkčností v celém rozsahu pracovních podmínek. 77 Detektor vybaven motorickým vysunováním a zasunováním do pracovní pozice. 78 Velikost aktivní plochy snímacího čipu detektoru min. 80 mm 2 79 Schopnost detekce, kvalitativní a kvantitativní analýzy prvků v rozsahu od Be po Pu. 80 Garantovaná hodnota energiového rozlišení na manganu (Mn Ka) měřená v souladu s ISO 15632:2012 a ověřitelná měřením po instalaci detektoru 125 ev

81 Garantovaná hodnota energiového rozlišení na uhlíku (C Ka) měřená v souladu s ISO 15632:2012 a ověřitelná měřením po instalaci detektoru 50 ev EDS software 82 Multiuživatelský systém. 83 Umožňuje snímání obrazových signálů z mikroskopu. 84 Základní obrazová analýza (jas, kontrast, gamma korekce atd.). 85 Musí umožňovat kvantitativní bezstandardovou analýzu. 86 Umožňuje práci se standardy a vytváření vlastních knihoven standardů. 87 Musí umožňovat export/import spektra v otevřeném formátu (EMSA). 88 Volba analýz v bodě, v oblasti libovolně zvolené uživatelem, v linii a v definovaném rastru. U všech typů analýz je automaticky uloženo celé spektrum v každém bodě analýzy. 89 Vytváření map prvků s možností získání rozložení prvků v libovolné oblasti a podél čáry zvolené v nasnímané oblasti. 90 Možnost vytvářet kvantitativní mapy rozložení prvků. 91 Maximální rozlišení prvkové distribuční mapy EDS alespoň 4096 x 4096 pixelů 92 Vytváření kvantitativních linescanů s rozlišením až 8192 bodů 93 Automatická detekce fází, tvorba fázových map na základě chemického složení, modální analýza. 94 Umožňuje ovládat posuvy stolku mikroskopu. 95 Umožňuje automatizaci procesu snímání větších ploch zahrnující snímkování povrchu vzorků a akvizici distribučních prvkových map, umožňuje rozčlenění analyzované oblasti na dílčí celky následované akvizicí dat a jejich následné spojení do jednoho datového výstupu. 96 Kompenzace driftu vzorku v průběhu analýzy. 97 Software umožňuje plnou integraci EDS systému s WDS systémem. 98 Software umožňuje plnou integraci EDS a EBSD systémů a plnou podporu práce obou systémů v režimu 3D. 99 Software zahrnuje automatizovu částicovou analýzu i z více analyzovaných polí s vyhodnocením dat zahrnující základní charakteristiky detekovaných částic (např. velikost, tvar atd.) a chemické složení částic. 100 Musí umožňovat plánování automatizovaných analytických úloh za účelem automatické akvizice dat bez nutnosti dalšího zásahu uživatele, zahrnuje také možnost registrace libovolného snímku pořízeného v rámci softwaru a jeho využití pro navigaci a stvení polohy analytických bodů (ploch). 101 Musí umožňovat řešení interferencí čar analyzovaných prvků dekonvolučními metodami a pulse pile-up korekci (korekce pile-up píků až minimálně třetího řádu) v průběhu akvizice dat pro veškerá kvantitativní data, prvkové distribuční mapy a liniové analýzy 102 Minimálně jedna offline licence dodaného EDS softwaru pro dalšího uživatele. Detektor WDS 103 WDS systém umožňuje detekci, kvalitativní a kvantitativní analýzu prvků od Be do Pu. 104 WDS systém umožňuje analýzu čar prvků v rozsahu energií rtg. záření (požadovaný rozsah kontinuálně pokryt vhodnými difrakčními krystaly) alespoň 100 ev - 10 kev 105 WDS systém musí umožnit montáž až 6 difrakčních krystalů najednou 106 WDS systém musí být vybaven difrakčními krystaly optimalizovanými pro analýzu C, N a O. 107 WDS spektrometr je vybaven vstupní štěrbinou (umístěnou před detektorem) s motorizovaným ovládáním její pozice a šířky pro optimalizaci intenzity vstupního signálu a poměru intenzit na peaku a pozadí. 108 Integrovaný systém měření proudu svazku pro kvantitativní WDS analýzu. 109 WDS spektrometr musí být vybaven dvěma detektory na bázi průtokového proporcionálního čítače a proporcionálního čítače se stálou náplní vhodného plynu (např. Xe) pro maximální efektivitu detekce rtg záření v požadovaném energiovém rozsahu, oba detektory umožňují detekci rtg. záření jak odděleně tak i současně podle volby uživatele. 110 Garantovaná intenzita signálu na čáře C Ka (měřená na standardu čistého uhlíku), poměr intenzity peaku k pozadí (P/B) 400 pulsů za sekundu na 1 na, P/B 50 111 Garantovaná intenzita signálu na čáře Fe Ka (měřená na standardu čistého železa), poměr intenzity peaku k pozadí (P/B) 1000 pulsů za sekundu na 1 na, P/B 500 112 Součástí dodávky je sada standardů prvků/sloučenin pro kvantitativní WDS-EDS analýzu. Pokryty alespoň prvky: Al, Ba, Be, B, Ca, Ce, Cd, Cl, Cr, Co, C, Cu, Ge, Au, In, Ir, F, Fe, K, La, Pb, Mn, Mo, Mg, N, Na, Ni, Nb, P, Pd, Pt, Re, Rh, S, Se, Sc, Si, Sr, Ag, Ta, Te, Sb, Sn, Ti, W, V, Y, Zn, Zr, Bi, Hf. Referenční materiály dodány s certifikátem složení. WDS software 113 Požadována plná softwarová integrace s EDS systémem v rámci jednoho softwaru. 114 Simultání EDS-WDS kvantitativní analýza s možností volby prvků analyzovaných WDS nebo EDS podle požadavků uživatele. 115 Analytické funkce umožňující akvizici spektrálních scanů, ověření přítomnosti prvku ve vzorku a kvantitativní analýzu s použitím standardů. 116 Automatická kalibrace detektorů 117 Minimálně jedna offline licence dodaného WDS softwaru pro dalšího uživatele. EBSD detektor 118 EBSD detektor jehož funkčnost je zaručena v celém rozsahu pracovních podmínek. 119 Rozlišení kamery detektoru EBSD 640 x 480 px 120 Framerate EBSD detektoru 800 fps 121 Součástí dodávky EBSD systému je i FSD detektor (forward scattered detector). 122 Dodání a zajištění výměny fosforových stínítek EBSD detektoru v ceně dodávky v počtu alespoň 2 ks EBSD software Software pro akvizici a analýzu EBSD dat umožňuje úplnou dostupnost všech funkcí k ovládání EBSD detektoru a podmínek analýzy a akvizice dat, dále umožňuje minimálně konstrukci map IPF (inverse pole figure), pólových obrazců, inverzních pólových obrazců, 123 výpočet ODF/MDF funkcí (orientation/misorientation distribution function), analýzu textury, filtraci dat, manuální a podmíněný výběr dat v mapách, export vybraných dat do samostatných datasetů a vytváření vlastních databází krystalografických dat a jejich neomezené použití v rámci EBSD softwaru. 124 Alespoň dvě časově neomezené databáze krystalografických dat rganických látek s úplnou přístupností ze softwaru ovládajícího EBSD systém. 125 EBSD software je plně integrován s EDS softwarem v rámci jednoho softwarového rozhraní, umožňuje simultání akvizici EBSD-EDS dat a podporu identifikace krystalové struktury daty z EDS. 126 Podpora EBSD analýzy v režimu 3D. 127 Minimálně jedna offline licence dodaného EBSD softwaru a databází pro dalšího uživatele. Software mikroskopu 128 Automatické nastavení jas-kontrast (ACB), zaostření (AF) a stigmátorů. 129 Funkce nastavení dynamického fokusu na hodnotu 70. 130 Softwarová rotace obrazu a korekce náklonu vzorku. 131 Současné zobrazení alespoň dvou živých obrazů. 132 Umožňuje snímat obrazy 16 bitově s maximálním rozlišením alespoň 250 Mpx 133 Obrazové formáty minimálně TIFF, BMP, JPG. 134 Integrovaný software pro základní obrazovou analýzu, vkládání měřítek do snímků a vytváření protokolu o pozorování. 135 Integrovaný software pro měření vzdáleností, úhlů a ploch v živém i uloženém obrazu SEM. 136 Integrované ovládání FIB. 137 Integrované ovládání nmanipulátoru. 138 Automatické operace k produkci TEM lamel na zvolených lokacích. 139 Spolupráce mezi mikroskopem, FIB a EDS-EBSD analytickými detektory umožňující 3D akvizice dat a rekonstrukce. 140 Možnost 3D zobrazení povrchu vzorku. 141 Software umožňuje načtení obrazu pomocí alespoň jednoho z instalovaných detektorů (např. SE detektoru), import obrazu vzorků pořízený jiným zařízením, registraci obrazu a použití pro navigaci mezi analyzovanými oblastmi na vzorku.

142 Musí umožňovat snímání videosekvencí obrazu analyzovaného vzorku. 143 Automatizované snímání, spojení a ukládání snímků definovaných oblastí. 144 Umožňuje zobrazit a snímat obrazy v kombinaci signálů SE a BSE (např. obraz 50% v SE a 50% v BSE) Řídící počítač pro mikroskop 145 Typ PC - pracovní stanice (workstation) kompatibilní s pracovními stanicemi zadavatele. 146 bitová verze) a dvěma monitory s úhlopříčkou 147 148 systémů. 149 Operační paměť alespoň 32 GB 150 2 pevné disky s kapacitou pro každý z nich alespoň 1 TB 151 Barevná laserová tiskárna formátu A4 s rozlišením tisku minimálně 1200 dpi 152 Řídící panel ovládání mikroskopu. 153 Klávesnice česká (qwerty) USB a optická nebo laserová bezdrátová multifunkční myš Řídící počítač pro EDS, WDS a EBSD 154 Typ PC - pracovní stanice (workstation) kompatibilní s pracovními stanicemi zadavatele. 155 bitová verze) a s úhlopříčkou 156 157 systémů 158 Operační paměť alespoň 32 GB 159 2 pevné disky s kapacitou pro každý z nich. alespoň 1 TB Pomocná zařízení nutná k provozu mikroskopu + další požadavky v ceně dodávky 159 Systém chlazení (je-li nutný). 160 Kompresor pro stlačený vzduch (je-li nutný). 161 UPS schopna udržet mikroskop i nutná zařízení v provozu nejméně 1 hodinu. 162 Aktivní systém kompenzace elektromagnetického rušení s potlačením nejméně 30x včetně stejnosměrné složky. 163 Systém pro analýzu tloušťky a chemického složení tenkých vrstev a multivrstev plně integrovaný do analytického a ovládacího softwaru 164 Jedna výměna katody zdarma zahrnutá v ceně dodávky 165 Další dvě výměny katody zdarma v ceně dodávky Hodnotící parametr Hodnotící parametr (Ano/N 166 Reaktivní a prediktivní softwarová korekce driftu Hodnotící parametr Hodnotící parametr (Ano/N