Princip rastrovacího konfokálního mikroskopu



Podobné dokumenty
ÚVOD POROVNÁNÍ VLASTNOSTÍ LEXT, SEM A KONVENČNÍCH SYSTÉMŮ

Optická konfokální mikroskopie a mikrospektroskopie. Pavel Matějka

lní mikroskop LEXT OLS 3100

MIKROSKOP. Historie Jeden z prvních jednoduchých mikroskopů sestavil v roce 1676 holandský obchodník a vědec Anton van Leeuwenhoek.

Optika pro mikroskopii materiálů I

Viková, M. : MIKROSKOPIE V Mikroskopie V M. Viková

Techniky mikroskopie povrchů

Typy světelných mikroskopů

Integrita povrchu a její význam v praktickém využití

Optické metody a jejich aplikace v kompozitech s polymerní matricí

Elektronová mikroskopie SEM, TEM, AFM

M I K R O S K O P I E

Týmový projekt Organizace, vybavení a zprovoznění experimentální laboratoře tkáňových kultur

Mikroskopie se vzorkovací sondou. Pavel Matějka

Proč elektronový mikroskop?

MIKROSKOPIE JAKO NÁSTROJ STUDIA MIKROORGANISMŮ

Video mikroskopická jednotka VMU

Základní pojmy a vztahy: Vlnová délka (λ): vzdálenost dvou nejbližších bodů vlnění kmitajících ve stejné fázi

3. Vlastnosti skla za normální teploty (mechanické, tepelné, optické, chemické, elektrické).

Technická specifikace předmětu veřejné zakázky

METODY ANALÝZY POVRCHŮ

Mikroskopie rastrující sondy

Analýza vrstev pomocí elektronové spektroskopie a podobných metod

Mikroskopie, zobrazovací technika. Studentská 1402/ Liberec 1 tel.: cxi.tul.cz

Mikroskopické metody Přednáška č. 3. Základy mikroskopie. Kontrast ve světelném mikroskopu

Moderní trendy měření Radomil Sikora

Bi4170 Bi417 Optické kon Optic trastn ké kon trastn a zobrazova a zob razova metody metody

C Mapy Kikuchiho linií 263. D Bodové difraktogramy 271. E Počítačové simulace pomocí programu JEMS 281. F Literatura pro další studium 289

ELEKTRONOVÁ MIKROSKOPIE V TEXTILNÍ METROLOGII

Příloha C. zadávací dokumentace pro podlimitní veřejnou zakázku Mikroskopy pro LF MU TECHNICKÉ PODMÍNKY (technická specifikace)

Studentská tvůrčí a odborná činnost STOČ 2012

Společná laboratoř optiky. Skupina nelineární a kvantové optiky. Představení vypisovaných témat. bakalářských prací. prosinec 2011

Co je litografie? - technologický proces sloužící pro vytváření jemných struktur (obzvláště mikrostruktur a nanostruktur)

Viková, M. : MIKROSKOPIE II Mikroskopie II M. Viková

Optická mikroskopie a spektroskopie nanoobjektů. Nanoindentace. Pavel Matějka

Moderní metody rozpoznávání a zpracování obrazových informací 15

Nové aplikační možnosti použití rentgenové projekční mikroskopie a mikrotomografie pro diagnostiku předmětů kulturního dědictví

Mikroskopie a zobrazovací technika. Studentská 1402/ Liberec 1 tel.: cxi.tul.cz

ZPRACOVÁNÍ OBRAZU přednáška 3

Metody charakterizace

Pozorování Slunce s vysokým rozlišením. Michal Sobotka Astronomický ústav AV ČR, Ondřejov

Mikroskop atomárních sil

SPŠS Č.Budějovice Obor Geodézie a Katastr nemovitostí 4.ročník MĚŘICKÝ SNÍMEK PRVKY VNITŘNÍ A VNĚJŠÍ ORIENTACE CHYBY SNÍMKU

TECHNICKÁ UNIVERZITA V LIBERCI

od 70mm (měřeno od zadní desky s axiálním výstupem) interní prvky opatřeny černou antireflexní vrstvou, centrální trubice s vnitřní šroubovicí

Optika a nanostruktury na KFE FJFI

Úvod, optické záření. Podkladový materiál k přednáškám A0M38OSE Obrazové senzory ČVUT- FEL, katedra měření, Jan Fischer, 2014

Testování nanovlákenných materiálů

Defektoskopie a defektometrie

Bioimaging rostlinných buněk, CV.2

Viková, M. : MIKROSKOPIE I Mikroskopie I M. Viková

VÝUKOVÝ SOFTWARE PRO ANALÝZU A VIZUALIZACI INTERFERENČNÍCH JEVŮ

4 ZKOUŠENÍ A ANALÝZA MIKROSTRUKTURY

Vakuová technika. Výroba tenkých vrstev vakuové naprašování

Metody skenovací elektronové mikroskopie SEM a analytické techniky Jiří Němeček

Základy mikroskopie. Úkoly měření: Použité přístroje a pomůcky: Základní pojmy, teoretický úvod: Úloha č. 10

DIFRAKCE ELEKTRONŮ V KRYSTALECH, ZOBRAZENÍ ATOMŮ

příloha C zadávací dokumentace pro veřejnou zakázku malého rozsahu Mikroskopy pro LF MU TECHNICKÉ PODMÍNKY (technická specifikace)

Geometrická optika. Optické přístroje a soustavy. převážně jsou založeny na vzájemné interakci světelného pole s látkou nebo s jiným fyzikálním polem

ZÁKLADNÍ ČÁSTI SPEKTRÁLNÍCH PŘÍSTROJŮ

Mikroskop ECLIPSE E200 STUDENTSKÝ NÁVOD K POUŽITÍ. určeno pro studenty ČZU v Praze

- Rayleighův rozptyl turbidimetrie, nefelometrie - Ramanův rozptyl. - fluorescence - fosforescence

Zobrazovací metody v nanotechnologiích

Spektrální charakteristiky

FOTOAKUSTIKA. Vítězslav Otruba

Technické parametry příloha č. 2 k veřejné zakázce s názvem: Mikroskopy pro Centrum modelových organismů

Katalogový list ESD digitální systém pro kontrolu BGA, Basic OP Obj. číslo: Popis

Historie světelné mikroskopie. Světelná mikroskopie. Robert Hook (1670) a Antonie van Leeuwenhoek (1670) zakladatelé světelné mikroskopie

3.3. Mikroskopie Základní součásti světelného mikroskopu

Konstrukční varianty systému pro nekoherentní korelační zobrazení

Digitální video mikroskop navržený pro flexibilní kontrolu, řízení jakosti, měření a digitální záznam.

Optoelektronické senzory. Optron Optický senzor Detektor spektrální koherence Senzory se CCD prvky Foveon systém

Testování nanovlákenných materiálů. Eva Košťáková KNT, FT, TUL

Difrakce elektronů v krystalech, zobrazení atomů

Konfokální mikroskop vybavený FLIM modulem pro detekci interakce molekul u živých buněk

Vlnová délka světla je cca 0,4 µm => rozlišovací schopnost cca. 0,2 µm 1000 x víc než oko

Mikroskopické techniky

Fotokroužek 2009/2010

VY_32_INOVACE_FY.12 OPTIKA II

Fraktografie lomových ploch za použití konfokálního a řádkovacího elektronového mikroskopu SVOČ FST

VLNOVÁ OPTIKA. Mgr. Jan Ptáčník - GJVJ - Fyzika - Optika - 3. ročník

ODŮVODNĚNÍ VEŘEJNÉ ZAKÁZKY

Úkoly. 1 Teoretický úvod. 1.1 Mikroskop

Lupa a mikroskop příručka pro učitele

VEŘEJNÁ ZAKÁZKA S NÁZVEM: Mikroskopy

Spektroskopické metody. převážně ve viditelné, ultrafialové a blízké infračervené oblasti

Univerzální a nákladově efektivní Full HD video kontrolní systém pro rychlou ergonomickou optickou inspekci.

Naše malé systémy pro velká zadání. Technické specifikace

ABSORPČNÍ A EMISNÍ SPEKTRÁLNÍ METODY

Katalogový list ESD digitální systém pro kontrolu BGA, Exclusive OP Obj. číslo: Anotace

Vybrané spektroskopické metody

MĚŘÍCÍ Senzory. Velmi přesná kontrola kvality

vede sice ke zvýšení kontrastu, zároveň se ale snižuje rozlišení a ostrost obrazu (Obr. 46).

Fluorescenční mikroskopie

Elektronová Mikroskopie SEM

INTERAKCE IONTŮ S POVRCHY II.

Ing. Petr Knap Carl Zeiss spol. s r.o., Praha

dodavatel vybavení provozoven firem ESD digitální systém pro kontrolu BGA, Standard OP Obj. číslo: Popis

SBÍRKA ŘEŠENÝCH FYZIKÁLNÍCH ÚLOH

Mikro a nanotribologie materiály, výroba a pohon MEMS

Transkript:

Konfokální mikroskop Obsah: Konfokální mikroskop... 1 Princip rastrovacího konfokálního mikroskopu... 1 Rozlišovací schopnost... 2 Pozorování povrchů ve skutečných barvách... 2 Konfokální mikroskop Olympus LEXT 3100... 3 Aplikace... 4 Závěr... 5 Literatura a odkazy... 5 V současné době rostou stále více nároky na nestandardní způsoby zobrazení a současně měření velmi jemných součástek, povlaků, spojů, sledování struktur rozličných materiálů a pro kontrolu drsností povrchů s vysokou přesností měření. Z tohoto důvodu společnost Olympus vyvinula velmi zajímavé optické zařízení s názvem LEXT - konfokální laserový rastrovací měřící mikroskop, umožňující až submikronové zobrazení povrchů materiálů s nestandardní rozlišovací schopností zobrazení a s možností přesného 3 rozměrného měření. KM je druhem optického mikroskopu, jehož výhodou je vyšší rozlišovací schopnost daná detekcí světla pouze z ohniskové roviny mikroskopu. Známy jsou tyto typy mikroskopu: rastrující konfokální mikroskop - skenující zařízení zařizuje posun ohniska excitujícího laserového paprsku konfokální mikroskop s rotujícím diskem - místo skenujícího zařízení obsahuje rotující Nipkowovův kotouč, na kterém je mnoho navzájem oddělených clonek Princip rastrovacího konfokálního mikroskopu Základním principem konfokálního mikroskopu LEXT je to, že netvoří obraz vcelku, najednou, ale bod po bodu, řádkováním. Pomocí řádkování jsou tedy snímány optické body v rovině XY a díky přesnému definovanému posuvu objektivu v ose Z, i jednotlivé optické řezy. Konfokální obrazy jsou vždy zaostřené a představují jednotlivé optické řezy vzorkem. Složení trojrozměrných obrazů vychází z možnosti postupného snímání desítek až stovek optických řezů v ose Z. Konfokální mikroskop LEXT využívá navíc novou inteligentní softwarovou funkci výpočtu ohnisek (CFO), která k vytvoření obrazu celé plochy vzorku vybírá vždy pouze její nejlépe

zobrazené časti. Pro každou jednotlivou část plochy se přitom optimalizuje ohnisko. CFO nejen zobrazování výrazně urychluje, ale umožňuje také získat velmi přesný, opakovatelný výsledný 3D obraz. Princip v kostce: Laserový paprsek (intenzivní bodový zdroj světla) je fokusován na clonku Dále prochází objektivem až na vzorek, kde je obraz clonky fokusován do bodu, jehož průměr odpovídá difrakční mezi (rozlišovací mez) Přes stejný objektiv jde zpětně i světlo na vzorku odražené či rozptýlené, případně fluorescence Sekundární světlo putující zpět prochází opět clonkou, jejichž bodový obraz je s pomocí děliče paprsků lokalizován před fotonásobič, kde je umístěna druhá konfokální bodová clonka, která filtruje světlo pocházející z oblasti mimo ohniskovou rovinu mikroskopu Obraz celé zaostřené roviny lze pak získat rastrováním bod po bodu některým z těchto postupů: Výhody: rozmítání laserového paprsku příčný posuv vzorku před objektivem posuv objektivu nad vzorkem objekt mimo rovinu ostrosti nezpůsobí rozostření, ale není zobrazen optické řezy získávání 3-D obrazu - po počítačovém zpracování velká hloubka ostrosti omezené blednutí (bleeching) objektu - omezená doba expozice excitačním zářením přesnější kvantitativní měření (nejsou zkreslená hloubkou) Rozlišovací schopnost Při použití objektivu o NA (numerická apertura) cca 1,3 a s využitím modrozelené čáry Ar laseru (λ = 488 nm) by odpovídala tloušťka optických řezů asi 0,4 mikrometru. Dále při maximálním průměru konfokální clonky odpovídajícímu 1/4 průměru centrálního maxima Airyho kroužku, lze tvrdit, že rozlišovací schopnost konfokálního mikroskopu je přibližně 1,4x lepší než klasického mikroskopu o téže NA objektivu. Pozorování povrchů ve skutečných barvách Další velkou výhodou takového zařízení je možnost využití laserového svazku společně s tradičními mikroskopovacími technikami (pozorování ve světlém/temném poli, polarizovaném světle a D.I.C. (interferenční kontrast), a to jak v režimu video - živý" obraz, tak i v režimu laserového konfokálního zobrazení.

Tento nový konfokální laserový D.I.C. režim je zvláště užitečný pro zvýraznění jemných texturových změn při analýze povrchů. Konfokální mikroskop Lext je první systém, který tak umožňuje získat simultánní zobrazení vzorků ve třech rozměrech a ve skutečných barvách, tím, že kombinuje laserové 3D zobrazení s plnobarevným zobrazením obrazu např. ve světlém poli, což je užitečné zejména při pozorování barevných vzorků. CCD je elektronická součástka používaná pro snímání obrazové informace. CCD využívá podobně jako všechny ostatní světlocitlivé součástky fyzikálního jevu známého jako fotoefekt. Tento jev spočívá v tom, že částice světla foton při nárazu do atomu dokáže přemístit některý z jeho elektronů ze základního do tzv. excitovaného stavu. Konfokální mikroskop Olympus LEXT 3100 Konfokální mikroskop LEXT OLS 3100 (UV - ultrafialová oblast světla) je představitelem nové generace optických systémů s vysokou přesností 3D zobrazování a měření. Nabízí nové možnosti při vývoji a kontrole rozličných materiálů a součástek. Je zvláště vhodný pro nově vznikající aplikace v mikro a nanotechnologických odvětvích, která kladou stále vyšší nároky na nestandardní způsoby bezkontaktního měření a kontrolu materiálů, miniaturních součástek, velmi jemných spojů a také na kontrolu drsnosti povrchů se submikronovou přesností. Nový LEXT OLS 3100 (UV) je konfokální laserový rastrovací mikroskop, umožňující zobrazení povrchů materiálů a součástí od přehledového zobrazení, složeného z více zorných polí, až po submikronové s výjimečnou rozlišovací schopností v ploše 120 nm a v řezu 40nm sledovaného povrchu. Rozsah zvětšení 120x až 14 400x uspokojí požadavky nejen výzkumných a vývojových pracovníků, kteří se při práci pohybují mezi hranicemi optických světelných mikroskopů a elektronových řádkovacích mikroskopů (SEM). Navíc na rozdíl od SEM, popř. AFM (rastrovací mikroskopy na principu měření atomárních sil) se v LEXTu mohou vzorky umisťovat přímo na mikroskopický stolek, bez použití vakuové komory. Pozorování vzorku probíhá v reálném čase a rovněž není za potřebí tzv. zvodivění povrchu součásti. LEXT OLS 3100 využívá laserový svazek o vlnové délce 408 nm s optickými prvky uzpůsobenými pro tuto krátkou vlnovou délku tak, aby se optimalizovala kvalita zobrazení a omezily se případné odchylky. Ovládací software poskytuje jednoduché, uživatelsky velmi příjemné rozhraní s pokročilou analýzou obrazu. Konfokální mikroskop LEXT OLS 3100 umožňuje submikronové zobrazení povrchů materiálů s rozlišením 120 nm a se schopností přesného 3D měření. Rozsah zvětšení se pohybuje v rozmezí 120x až 14 400x. Vzorky se umísťují přímo na mikroskopický stolek a pozorování na monitoru počítače probíhá v reálném čase. Automatickým stolkem mikroskopu se dá pohybovat v rozsahu 100 x 150 mm, softwarové ovládání stolku umožňuje velmi přesné

nastavení požadovaného místa pozorování. Široké pole pozorování lze získat pomocí spojení pořízených obrazů v řadách těsně vedle sebe. Protože je pozorovací metoda nedestruktivní, může být pozorování a měření prováděno mnohem efektivněji a kdykoliv opakováno. Opakovatelnost měření je do 0,020 mm (3 sigma) s opakovatelností osy z do 0,052 mm (3 sigma). Aplikace Lext OLS 3100 se výborně uplatňuje při kontrole výroby komponentů s velmi malou tolerancí přesnosti výroby, např. MEMS (Micro Electro Mechanical System), automobilových součástek, lomových ploch, vodivých i nevodivých materiálů, jako jsou polovodiče, keramiky, plasty, povlaky, vrstvy a kovy. Pro řízení jakosti nabízí měření drsnosti, měření profilů, analýzu částic a objemovou analýzu přímo v 3D zobrazení. Schopnosti systému Lext OLS 3100 nyní v kombinaci s AFM modulem lze také velmi dobře využít při analýze vad a poruch, navíc výrazně překračuje rámec konvenční mikroskopie také tím, že představuje velmi výkonný 3D metrologický nástroj s přesností měření (3 sigma) v ose X-Y až 1 nm a v ose Z také až 1 nm. Lext OLS 3100 (UV ultrafialová oblast světla) se výborně uplatňuje při kontrole výroby komponentů s velmi malou tolerancí přesnosti výroby, automobilových a leteckých součástek, lomových ploch, vodivých i nevodivých materiálů, jako jsou polovodiče, keramiky, plasty, povlaky, chemické a biologické preparáty a kovy. Pro řízení jakosti nabízí měření skutečných vzdáleností, objemů, ploch a průmětů, měření drsnosti povrchů, měření profilů, analýzu částic a mnoho dalších funkcí přímo v 3D zobrazení. Schopnosti takového systému lze také velmi dobře využít při analýze vad a poruch, navíc výrazně překračuje rámec konvenční mikroskopie také tím, že představuje velmi výkonný 3D metrologický nástroj s repeabilitou měření (3 sigma) v rovině X-Y 40nm a v ose Z 20nm. Poznámka: Do rodiny LEXT systems náleží i další velmi pozoruhodné zařízení - LEXT OLS 3000 IR (IR - infračervená oblast světla), které umožňuje sledovat nejen povrch součástí, ale i jejich vnitřní strukturu. LEXT OLS 3000 IR je unikátní měřící laserový konfokální mikroskop se zvětšeními 120x až 12.960x. Principem je obdobně rastrující laserový svazek (technologie EMS) o dlouhé vlnové délce 1310 nm => ideální pro kontrolu součástí propustných pro tuto vlnovou délku, jako jsou křemenné krystaly, sklo, čipy, propustné substráty atd. Mikroskop poskytuje vysoký kontrast pořízených obrázků, umožňuje provádět vysoce spolehlivé, opakovatelné měření v osách X, Y, Z s přesností 0,1 μm, včetně analýzy obrazu. LEXT OLS 3000 IR je velice operativní systém, který také nevyžaduje pracnou přípravu vzorků a vakuum. Nejčastější aplikace jsou v oblastech vývoje a kontroly výroby případných miniaturní defektů IC patterns po implementaci flip čipů (viz. obrázek vpravo), zjištění přesné pozice alignment marks a stav povrchu bamp pads. Dále je umožněno měření defektů v křemíku a měření stupňovitosti, MEMS, duté konstrukce, styčné plochy a pro měření odbroušení SOI destiček. LEXT OLS3000 IR dále podporuje budoucí technologie a

aplikace, jako jsou SiP a MEMS, technologie CCD snímačů (např. metoda FCB), kontroly pájení kontaktů a výzkumu sledování vlastností mezivrstev tenkých povlaků na substrátu, který je transparentní pro IR oblast. Závěr Konfokální laserový měřicí mikroskop LEXT OLS 3100 (UV) nabízí nejen v metrologii nové možnosti kontroly materiálů, povlaků, elektrotechnických vzorků a součástek s vysokou přesností měření v 3D, ale hodí se zejména pro nově vznikající aplikace v mikro a nanotechnologickém odvětví. Literatura a odkazy [1] Confocal Scanning Laser Microscope OLS3000/3100, Userś manual, Ver. 5.0, 2007