REAKTIVNÍ MAGNETRONOVÉ NAPRAŠOV. Jan VALTER HVM Plasma s.r.o.
|
|
- Jitka Hrušková
- před 8 lety
- Počet zobrazení:
Transkript
1 REAKTIVNÍ MAGNETRONOVÉ NAPRAŠOV OVÁNÍ Jan VALTER
2 SCHEMA REAKTIVNÍHO NAPRAŠOV OVÁNÍ zdroj výboje katoda odprašovaný terč plasma inertní napouštění plynů reaktivní zdroj předpětí p o v l a k o v a n é s u b s t r á t y vakuová komora čerpání
3 TYPY VRSTEV A POVLAKŮ FLEXIBILITA MAGNETRONOVÉHO NAPRAŠOVÁNÍ Materiál terčů, reaktivní plyny, předpětí substrátů, pohyb substrátu od terče k terči Oxidy, nitridy, karbidy (Al 2 O 3, TiN, CrC) Nestechiometrické vrstvy (SiO x, WC:C-H, TiC x N 1-x ) Gradientní vrstvy (ocel Cr CrN CrCN) Vícevrstvé povlaky (Si / Al / SiO x ) Multivrstvy a supermřížky (500 x VN / NbN s periodou 6 nm) Nanokompozitní vrstvy (3 nm zrna TiAlN v matrici Si 3 N 4 )
4 APLIKACE MAGNETRONOVÉHO NAPRAŠOV OVÁNÍ ŠIROKÉ SPEKTRUM NAPRAŠOVATELNÝCH MATERIÁLŮ + RŮZNÉ REAKTIVNÍ PLYNY: MNOHO APLIKACÍ V ROZMANITÝCH OBORECH mikroelektronika (vodivé, polovodivé i izolační vrstvy) magnetická a optická záznamová média (magnetické, reflexní, semireflexní a fázově citlivé vrstvy) LCD (vodivé, polovodivé i izolační vrstvy) optické přístroje + stavební sklo (reflexní vrstvy, opt. filtry ) obráběcí nástroje (extrémně tvrdé, tepelně odolné povlaky s nízkým třením a dobrým odvodem tepla) kluzné díly ("tribovrstvy" s minimálním třením a otěrem, typicky pro motory) implantáty a chir. nástroje ("biokompatibilní" tvrdé, chemicky odolné, bioaktivní povlaky) domovní vybavení, bižuterie aj. ("dekorativní" tvrdé, barevně stálé povlaky v široké škále barevných odstínů)... sluneční články, tiskárny, katalyzátory, paliv. články, senzory...
5 REAKCE NA POVRCHU SUBSTRÁTU TU A (odprášený) + B (plyn) + E 1 AB (vrstva) + E 2 Teplota substrátu E1 aktivační energie IONTOVÝ BOMBARD TEDY NAHRAZUJE TEPLOTU TAKŽE LZE PRACOVAT I PŘI NÍZKÝCH TEPLOTÁCH MNOHEM ŠIRŠÍ ŠKÁLA SUBSTRÁTŮ iontový bombard rostoucí vrstvy
6 HLAVNÍ PARAMETRY DEPOZICE TERČE materiál, výkony CHEM. SLOŽENÍ VRSTVY STRUKTURA, FYZ. VLASTNOSTI TLAK reakt. plynu IONTOVÝ BOMBARD hustota, energie TLAK inert. plynu RYCHLOST DEPOZICE TEPLOTA substrátu
7 PŘÍKLAD: IONTOVÝ BOMBARD
8 REAKTIVNÍ RŮST VRSTVY, CHEMISORPCE kov reakt. plyn iont a neutrál inert. plynu iont. bombard + + odprášení sorpce odraz sorpce -50 V Volný (aktivovaný) atom kovu + atom reakt. plynu CHEMISORPCE. Nelze sorbovat víc plynu než je volného kovu na povrchu. Sorpce na všech površích, kam dopadá kov. Iontový bombard: - aktivace povrchu - odstranění špatně vázaných atomů (mřížka bez poruch, kompaktní strukrura vrstvy)
9 POVRCH TERČE: E: ODPRAŠOV OVÁNÍ x CHEMISORPCE kov reakt. plyn iont inertního plynu + elektron γ koeficient odprašování ( rychlost odprašování) γ M + σ M sorpce σ koeficient sekundární emise ( napětí výboje) + γ R σ R vodivost? γ M > γ R σ M σ R -500 V rychlost odprašování v reaktivním modu je mnohem nižší než v kovovém napětí výboje v reaktivním modu je jiné než v kovovém
10 RYCHLOST ODPRAŠOV OVÁNÍ rychlost rozprašování pokrývání povrchu terče reakčním produktem s nižším koeficientem odprašování kovový mod tlak reakt. plynu p R žádoucí stav (dost reakt. plynu na reakce ve vrstvě, ale depoziční rychlost snížená jen málo) otrávený mod JE STABILNÍ?
11 RYCHLOST SORPCE REAKTIVNÍHO PLYNU S R ~ rychlosti rozprašování S R ~ parciálnímu tlaku reakt. plynu S R [Pa.l/s] otrávení terče p R [Pa]
12 BILANCE REAKTIVNÍHO PLYNU - HYSTEREZE Φ R[Pa.l/s] Φ R = p R Q + S R p R Q vývěvy S R sorpce p R [Pa] PODMÍNKA STABILITY: Q > Q C = (ds R /dp R ) min ~ ploše terče
13 DOSTATEČNÁ ČERPACÍ RYCHLOST Efektivníčerpací rychlost vývěv musí být dostatečná vzhledem k ploše terčů a druhu procesu (rozdíl mezi γ M a γ R ). STABILNÍ ŘÍZENÍ PARCIÁLNÍHO TLAKU REAKTIVNÍHO PLYNU BEZ HYSTEREZE ΦR[Pa.l/s] Φ R p R Q S R p R [Pa]
14 ŘÍZENÍ PROCESU Φ R[Pa.l/s] Φ R p R p R [Pa] P D Efektivní MĚŘENÍ PARCIÁLNÍHO TLAKU přírůstek celkového tlaku (přesnost!!!) hmotová spektrometrie (kvadrupól) optická emisní spektroskopie plazmatu napětí výboje (σ M σ R )
15 NEVODIVÝ REAKČNÍ PRODUKT JISKŘENÍ NA TERČI PŘI POKRYTÍ REAKČNÍM PRODUKTEM HROMADĚNÍ KLADNÝCH IONTŮ NA POVRCHU ROSTOUCÍ VRSTVY ZTRÁTA PŘEDPĚTÍ POKRYTÍ STĚN KOMORY REAKČNÍM PRODUKTEM ZTRÁTA ANODY, ZHASNUTÍ VÝBOJE zdroj výboje katoda odprašovaný terč plasma zdroj předpětí p o v l a k o v a n é s u b s t r á t y
16 ŘEŠENÍ: : DC PULSED, AC, RF DC PULSED: stejnosměrný proud přerušovaný krátkými (~ µs) pulzy opačné polarity vybití povrchového náboje. Frekvence khz. AC DUÁLNÍ MAGNETRON: dva magnetrony jsou elektrodami střídavého (sinus) výboje jeden naprašuje, druhý si vybíjí povrch; komora se neúčastní. Frekvence od 50 Hz RF: magnetron je živou elektrodou vysokofrekvenčního výboje. Záporný offset (~ stovky V) umožňuje odprašování. Frekvence 13,5 příp. 27 MHz.
17 PRŮMYSLOV MYSLOVÁ POVLAKOVACÍ ZAŘÍZEN ZENÍ CLOSED FIELD CONFINEMENT
18 PRŮMYSLOV MYSLOVÁ POVLAKOVACÍ ZAŘÍZEN ZENÍ
19 PRŮMYSLOV MYSLOVÁ POVLAKOVACÍ ZAŘÍZEN ZENÍ
20 PRŮMYSLOV MYSLOVÁ POVLAKOVACÍ ZAŘÍZEN ZENÍ
21 DĚKUJI ZA POZORNOST VSTÁVAT, VAT, PŘESTP ESTÁVKA!!!
Využití plazmových metod ve strojírenství. Metody depozice povlaků a tenkých vrstev
Využití plazmových metod ve strojírenství Metody depozice povlaků a tenkých vrstev Metody depozice povlaků Využití plazmatu pro depozice (nanášení) povlaků a tenkých vrstev je moderní a stále častěji aplikovaná
VíceDOUTNAVÝ VÝBOJ. Magnetronové naprašování
DOUTNAVÝ VÝBOJ Magnetronové naprašování Efektivním způsobem jak získat částice vhodné k růstu povlaku je nahrazení teploty používané u odpařování ekvivalentem energie dodané dopadem těžkéčástice přenosem
VíceFYZIKA VE FIRMĚ HVM PLASMA
FYZIKA VE FIRMĚ HVM PLASMA Jiří Vyskočil HVM Plasma spol.s r.o. Na Hutmance 2, 158 00 Praha 5 OBSAH HVM PLASMA spol. s r.o. zaměření a historie firmy hlavní činnost a produkty POVRCHOVÉ TECHNOLOGIE metody
VíceVakuové metody přípravy tenkých vrstev
Vakuové metody přípravy tenkých vrstev Metody vytváření tenkých vrstev Vakuové metody dnes nejužívanější CVD Chemical Vapour Deposition (PE CVD Plasma Enhanced CVD nebo PA CVD Plasma Assisted CVD) PVD
VíceDOUTNAVÝ VÝBOJ. Další technologie využívající doutnavý výboj
DOUTNAVÝ VÝBOJ Další technologie využívající doutnavý výboj Plazma doutnavého výboje je využíváno v technologiích depozice povlaků nebo modifikace povrchů. Jedná se zejména o : - depozici povlaků magnetronovým
VíceVybrané technologie povrchových úprav. Metody vytváření tenkých vrstev Doc. Ing. Karel Daďourek 2008
Vybrané technologie povrchových úprav Metody vytváření tenkých vrstev Doc. Ing. Karel Daďourek 2008 Metody vytváření tenkých vrstev Vakuové metody dnes nejužívanější CVD Chemical vapour deposition PE CVD
VícePrincip naprašování. Rozdíly proti napařování: 1. metoda získávání par 2. nutnost použití pracovního plynu 3. ionizace par a prac. plynu.
Přednáška 6 Naprašování: princip metody, magnetrony, ss naprašování, pulzní naprašování, rf naprašování naprašovací rychlost, naprašování kovů, slitin a sloučenin. Princip naprašování Převedení pevné látky
VíceFyzikální metody přípravy tenkých vrstev. Martin Kormunda
Fyzikální metody přípravy tenkých vrstev Co je to za techniky? Procesy vyváření tenkých vrstev fyzikálními metodami využívají procesy probíhající za nízkého tlaku k dosažení efektivního transportu částic
VícePlazmové metody Materiály a technologie přípravy M. Čada
Plazmové metody Existuje mnoho druhů výbojů v plynech. Ionizovaný plyn = elektrony + ionty + neutrály Depozice tenkých vrstev za pomocí plazmatu je jednou z nejpoužívanějších metod. Pomocí plazmatu lze
Vícegalvanicky chemicky plazmatem ve vakuu Vrstvy ve vakuu MBE Vakuová fyzika 2 1 / 39
Vytváření vrstev galvanicky chemicky plazmatem ve vakuu Vrstvy ve vakuu povlakování MBE měření tloušt ky vrstvy během depozice Vakuová fyzika 2 1 / 39 Velmi stručná historie (více na www.svc.org) 1857
VícePlazma v technologiích
Plazma v technologiích Mezi moderními strojírenskými technologiemi se stále častěji prosazují metody využívající různé formy plazmatu. Plazma je plynné prostředí skládající se z poměrně volných částic,
VíceHMOTNOSTNÍ SPEKTROMETRIE - kvalitativní i kvantitativní detekce v GC a LC - pyrolýzní hmotnostní spektrometrie - analýza polutantů v životním
HMOTNOSTNÍ SPEKTROMETRIE - kvalitativní i kvantitativní detekce v GC a LC - pyrolýzní hmotnostní spektrometrie - analýza polutantů v životním prostředí - farmakokinetické studie - kvantifikace proteinů
VíceDOUTNAVÝ VÝBOJ. 1. Vlastnosti doutnavého výboje 2. Aplikace v oboru plazmové nitridace
DOUTNAVÝ VÝBOJ 1. Vlastnosti doutnavého výboje 2. Aplikace v oboru plazmové nitridace Doutnavý výboj Připomeneme si voltampérovou charakteristiku výboje v plynech : Doutnavý výboj Připomeneme si, jaké
VíceANALÝZA POVLAKOVANÝCH POVRCHŮ ŘEZNÝCH NÁSTROJŮ
Středoškolská technika 2019 Setkání a prezentace prací středoškolských studentů na ČVUT ANALÝZA POVLAKOVANÝCH POVRCHŮ ŘEZNÝCH NÁSTROJŮ Jakub Chlaň, Matouš Hyk, Lukáš Procházka Střední škola elektrotechniky
VíceVliv energie částic na vlastnosti vrstev Me-B-C-(N) připravených reaktivní magnetronovou depozicí
ZÁPADOČESKÁ UNIVERZITA V PLZNI FAKULTA APLIKOVANÝCH VĚD KATEDRA FYZIKY Vliv energie částic na vlastnosti vrstev Me-B-C-(N) připravených reaktivní magnetronovou depozicí Plzeň 2014 Veronika Šímová Prohlášení
VíceMetody depozice povlaků - CVD
Procesy CVD, PA CVD, PE CVD Chemická metoda depozice vrstev CVD využívá pro depozici směs chemicky reaktivních plynů (např. CH 4, C 2 H 2, apod.) zahřátou na poměrně vysokou teplotu 900 1100 C. Reakční
VícePlazmatické metody pro úpravu povrchů
Plazmatické metody pro úpravu povrchů Aleš Kolouch Technická Univerzita v Liberci Studentská 2 461 17 Liberec 1 Obsah 1. Plazma 2. Plazmové stříkání 3. Plazmové leptání 4. PVD 5. PECVD 6. Druhy reaktorů
VíceTenká vrstva - aplikace
Poznámka: tyto materiály slouží pouze pro opakování STT žáků SPŠ Na Třebešíně, Praha 10; s platností do r. 2016 v návaznosti na platnost norem. Zákaz šíření a modifikace těchto materiálů. Děkuji Ing. D.
VíceVytržení jednotlivých atomů, molekul či jejich shluků bombardováním terče (targetu) ionty s vysokou energií (~kev)
Naprašování: Vytržení jednotlivých atomů, molekul či jejich shluků bombardováním terče (targetu) ionty s vysokou energií (~kev) Po nárazu iont předává hybnost částicím terče, dojde k vytržení Depozice
VíceSYSTÉM TENKÁ VRSTVA SUBSTRÁT V APLIKACI NA ŘEZNÝCH NÁSTROJÍCH
Západočeská univerzita v Plzni SYSTÉM TENKÁ VRSTVA SUBSTRÁT V APLIKACI NA ŘEZNÝCH NÁSTROJÍCH Antonín Kříž Univerzitní 22, 306 14 Plzeň, e-mail: kriz@kmm.zcu.cz Tento příspěvek vznikl na základě řešení
VíceVakuová technika. Výroba tenkých vrstev vakuové naprašování
VYSOKÉ UČENÍ TECHNICKÉ V BRNĚ FAKULTA ELEKTROTECHNIKY A KOMUNIKAČNÍCH TECHNOLOGIÍ Vakuová technika Výroba tenkých vrstev vakuové naprašování Tomáš Kahánek ID: 106518 Datum: 17.11.2010 Výroba tenkých vrstev
VícePřehled metod depozice a povrchových
Kapitola 5 Přehled metod depozice a povrchových úprav Tabulka 5.1: První část přehledu technologií pro depozici tenkých vrstev. Klasifikované podle použitého procesu (napařování, MBE, máčení, CVD (chemical
VíceAnotace přednášek LŠVT 2015 Česká vakuová společnost. Téma: Plazmové technologie a procesy. Hotel Racek, Úštěk, 1 4. června 2015
Anotace přednášek LŠVT 2015 Česká vakuová společnost Téma: Plazmové technologie a procesy Hotel Racek, Úštěk, 1 4. června 2015 1) Úvod do plasmochemie Lenka Zajíčková, Ústav fyzikální elektroniky, PřF
VíceIradiace tenké vrstvy ionty
Iradiace tenké vrstvy ionty Ve většině technologických aplikací dochází k depozici tenké vrstvy za nízké teploty > jsme v zóně I nebo T > vrstvá má sloupcovou strukturu, je porézní a hrubá. Ukazuje se,
VíceMonika Fialová VAKUOVÁ FYZIKA II. ZÍSKÁVÁNÍ NÍZKÝCH TLAKŮ
Monika Fialová VAKUOVÁ FYZIKA II. ZÍSKÁVÁNÍ NÍZKÝCH TLAKŮ CHARAKTERISTIKY VÝVĚV vývěva = zařízení snižující tlak plynu v uzavřeném objemu parametry: mezní tlak čerpací rychlost pracovní tlak výstupní tlak
VíceDepozice tenkých vrstev I.
Depozice tenkých vrstev I. Naprašování Mgr. Tereza Schmidtová 15. dubna 2010 Aplikace Klasifikace Obecný přehled aplikací použití pro optické vlastnosti - laserová optika, zrcadla, reflexní a anti-reflexní
VícePřednáška 4. Úvod do fyziky plazmatu : základní charakteristiky plazmatu, plazma v elektrickém vf plazma. Doutnavý výboj : oblasti výboje
Přednáška 4 Úvod do fyziky plazmatu : základní charakteristiky plazmatu, plazma v elektrickém vf plazma. Doutnavý výboj : oblasti výboje Jak nahradit ohřev při vypařování Co třeba bombardovat ve vakuu
VícePŘIPRAVENÉ METODOU MAGNETRONOVÉHO NAPRAŠOV
TRANSPARENTNÍ FOTOAKTIVNÍ VRSTVY TiO 2 PŘIPRAVENÉ METODOU MAGNETRONOVÉHO NAPRAŠOV OVÁNÍ ZA NÍZKÝCH N TEPLOT Ing. Petr Zeman, Ph.D. habilitační přednáška Tato prezentace je spolufinancována Evropským sociálním
VíceTenké vrstvy. metody přípravy. hodnocení vlastností
Tenké vrstvy metody přípravy hodnocení vlastností 1 / 39 Depozice tenkých vrstev Depozice vrstev se provádí jako finální operace na hotovém již tepelně zpracovaném substrátu. Pro dobré adhezní vlastnosti
VíceAnomální doutnavý výboj
Anomální doutnavý výboj Výboje v plynech ve vakuu Základní procesy ve výboji Odprašování dopadající kladné ionty vyrážejí z katody částice, tím dochází k úbytku hmoty katody a zmenšování rozměrů. Odprašování
VíceGD OES a GD MS v praktických aplikacích
GD OES a GD MS v praktických aplikacích Princip povrchových analýz Interakce materiálu s prvotním činidlem Prvotní činidlo prodělá změnu nebo vybudí reakci materiálu Detekce signálu vybuzeného materiálem
VíceF6450. Vakuová fyzika 2. Vakuová fyzika 2 1 / 32
F6450 Vakuová fyzika 2 Pavel Slavíček email: ps94@sci.muni.cz Vakuová fyzika 2 1 / 32 Osnova Vázané plyny Sorpční vývěvy kryogenní zeolitové sublimační iontové getrové - vypařované, nevypařované (NEG)
VíceTématické okruhy teoretických zkoušek Part 66 1 Modul 3 Základy elektrotechniky
Tématické okruhy teoretických zkoušek Part 66 1 3.1 Teorie elektronu 1 1 1 Struktura a rozložení elektrických nábojů uvnitř: atomů, molekul, iontů, sloučenin; Molekulární struktura vodičů, polovodičů a
VícePlazma. magnetosféra komety. zbytky po výbuchu supernovy. formování hvězdy. slunce
magnetosféra komety zbytky po výbuchu supernovy formování hvězdy slunce blesk polární záře sluneční vítr - plazma je označována jako čtvrté skupenství hmoty - plazma je plyn s významným množstvím iontů
VíceIONTOVÉ ZDROJE. Účel. Požadavky. Elektronové zdroje. Iontové zdroje. Princip:
Účel IONTOVÉ ZDROJE vyrobit svazek částic vytvarovat ho a dopravit do urychlovací komory předurychlit ho (10 kev) Požadavky intenzita svazku malá emitance svazku trvanlivost zdroje stabilita zdroje minimální
VíceVYSOKÉ UČENÍ TECHNICKÉ V BRNĚ Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií Ústav mikroelektroniky
VYSOKÉ UČENÍ TECHNICKÉ V BRNĚ Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií Ústav mikroelektroniky Ing. Ondřej Hégr CHARAKTERIZACE NANOSTRUKTUR DEPONOVANÝCH VYSOKOFREKVENČNÍM MAGNETRONOVÝM NAPRAŠOVÁNÍM
VíceNaprašování nanokompozitních vrstev Ti-Si-O-N a jejich vlastnosti
Západočeská univerzita v Plzni Fakulta aplikovaných věd Katedra fyziky Naprašování nanokompozitních vrstev Ti-Si-O-N a jejich vlastnosti Bakalářská práce Plzeň 2012 Michal Zítek Prohlášení Prohlašuji,
VíceIonizační manometry. Při ionizaci plynu o koncentraci n nejsou ionizovány všechny molekuly, ale jenom část z nich n i = γn ; γ < 1.
Ionizační manometry Princip: ionizace molekul a měření počtu nabitých částic Rozdělení podle způsobu ionizace: Manometry se žhavenou katodou Manometry se studenou katodou Manometry s radioaktivním zářičem
VíceI = Q t. Elektrický proud a napětí ELEKTRICKÝ PROUD A NAPĚTÍ. April 16, 2012. VY_32_INOVACE_47.notebook. Elektrický proud
Základní škola Nový Bor, náměstí Míru 128, okres Česká Lípa, příspěvková organizace email: info@zsnamesti.cz; www.zsnamesti.cz; telefon: 487 722 010; fax: 487 722 378 Registrační číslo: CZ.1.07/1.4.00/21.3267
VíceVYSOKÉ UČENÍ TECHNICKÉ V BRNĚ
VYSOKÉ UČENÍ TECHNICKÉ V BRNĚ BRNO UNIVERSITY OF TECHNOLOGY FAKULTA ELEKTROTECHNIKY A KOMUNIKAČNÍCH TECHNOLOGIÍ FACULTY OF ELECTRICAL ENGINEERING AND COMMUNICATION ÚSTAV MIKROELEKTRONIKY DEPARTMENT OF
VíceZÁPADOČESKÁ UNIVERZITA V PLZNI. Fakulta aplikovaných věd. Katedra fyziky DIPLOMOVÁ PRÁCE
ZÁPADOČESKÁ UNIVERZITA V PLZNI Fakulta aplikovaných věd Katedra fyziky DIPLOMOVÁ PRÁCE Plzeň 2016 Michal Tichý Západočeská univerzita v Plzni Fakulta aplikovaných věd Katedra fyziky Diplomová práce Vysokovýkonová
VícePlazmová depozice tenkých vrstev oxidu zinečnatého
Plazmová depozice tenkých vrstev oxidu zinečnatého Bariérový pochodňový výboj za atmosférického tlaku Štěpán Kment Doc. Dr. Ing. Petr Klusoň Mgr. Zdeněk Hubička Ph.D. Obsah prezentace Úvod do problematiky
VíceJ = S A.T 2. exp(-eφ / kt)
Vakuové součástky typy a využití Obrazovky: - osciloskopické - televizní + monitory Elektronky: - vysokofrekvenční (do 1 GHz, 1MW) - mikrovlnné elektronky ( až do 20 GHz, 10 MW) - akustické zesilovače
VíceTECHNOLOGICKÉ PROCESY PŘI VÝROBĚ POLOVODIČOVÝCH PRVKŮ III.
TECHNOLOGICKÉ PROCESY PŘI VÝROBĚ POLOVODIČOVÝCH PRVKŮ III. NANÁŠENÍ VRSTEV V mikroelektronice se nanáší tzv. tlusté a tenké vrstvy. a) Tlusté vrstvy: Používají se v hybridních integrovaných obvodech. Nanáší
VíceTenké vrstvy. historie předdepoziční přípravy stripping
Tenké vrstvy historie předdepoziční přípravy stripping 1 HISTORIE TENKÝCH VRSTEV Historie depozice vrstev obloukovým odpařováním z katody sahá až do devatenáctého století. Pozorování pulzního a později
VíceGlass temperature history
Glass Glass temperature history Crystallization and nucleation Nucleation on temperature Crystallization on temperature New Applications of Glass Anorganické nanomateriály se skelnou matricí Martin Míka
VíceFyzikální vzdělávání. 1. ročník. Učební obor: Kuchař číšník Kadeřník. Implementace ICT do výuky č. CZ.1.07/1.1.02/02.0012 GG OP VK
Fyzikální vzdělávání 1. ročník Učební obor: Kuchař číšník Kadeřník 1 Elektřina a magnetismus - elektrický náboj tělesa, elektrická síla, elektrické pole, kapacita vodiče - elektrický proud v látkách, zákony
VíceUhlíkové struktury vázající ionty těžkých kovů
Uhlíkové struktury vázající ionty těžkých kovů 7. června/june 2013 9:30 h 17:30 h Laboratoř metalomiky a nanotechnologií, Mendelova univerzita v Brně a Středoevropský technologický institut Budova D, Zemědělská
VíceObloukové svařování wolframovou elektrodou v inertním plynu WIG (TIG) - 141
Obloukové svařování wolframovou elektrodou v inertním plynu WIG (TIG) - 141 Při svařování metodou 141 hoří oblouk mezi netavící se elektrodou a základním matriálem. Ochranu elektrody i tavné lázně před
Více7. Kondenzátory. dielektrikum +Q + + + + + + + + U - - - - - - - - elektroda. Obr.2-11 Princip deskového kondenzátoru
7. Kondenzátory Kondenzátor (někdy nazývaný kapacitor) je součástka se zvýrazněnou funkční elektrickou kapacitou. Je vytvořen dvěma vodivými plochami - elektrodami, vzájemně oddělenými nevodivým dielektrikem.
VíceUniverzita Tomáše Bati ve Zlíně
Univerzita Tomáše Bati ve Zlíně Ústav elektrotechniky a měření Unipolárn rní tranzistory Přednáška č. 5 Milan Adámek adamek@ft.utb.cz U5 A711 +420576035251 Unipolárn rní tranzistory 1 Princip činnosti
VíceKeramika spolu s dřevem, kostmi, kůží a kameny patřila mezi první materiály, které pravěký člověk zpracovával.
Keramika Keramika spolu s dřevem, kostmi, kůží a kameny patřila mezi první materiály, které pravěký člověk zpracovával. Chceme li definovat pojem keramika, můžeme říci, že je to materiál převážně krystalický,
VíceTypy interakcí. Obsah přednášky
Co je to inteligentní a progresivní materiál - Jaderné analytické metody-využití iontových svazků v materiálové analýze Anna Macková Ústav jaderné fyziky AV ČR, Řež 250 68 Obsah přednášky fyzikální princip
VíceVÝROBKY PRÁŠKOVÉ METALURGIE
1 VÝROBKY PRÁŠKOVÉ METALURGIE Použití práškové metalurgie Prášková metalurgie umožňuje výrobu součástí z práškových směsí kovů navzájem neslévatelných (W-Cu, W-Ag), tj. v tekutém stavu nemísitelných nebo
VíceZÁPADOČESKÁ UNIVERZITA V PLZNI. Fakulta aplikovaných věd. Katedra fyziky BAKALÁŘSKÁ PRÁCE
ZÁPADOČESKÁ UNIVERZITA V PLZNI Fakulta aplikovaných věd Katedra fyziky BAKALÁŘSKÁ PRÁCE Plzeň 2014 Michal Tichý Západočeská univerzita v Plzni Fakulta aplikovaných věd Katedra fyziky Bakalářská práce Vliv
VíceNauka o materiálu. Přednáška č.12 Keramické materiály a anorganická nekovová skla
Nauka o materiálu Přednáška č.12 Keramické materiály a anorganická nekovová skla Úvod Keramika a nekovová skla jsou ve srovnání s kovy velmi křehké. Jejich pevnost v tahu je nízká a finálnímu lomu nepředchází
VíceElektronová mikroskopie SEM, TEM, AFM
Elektronová mikroskopie SEM, TEM, AFM Historie 1931 E. Ruska a M. Knoll sestrojili první elektronový prozařovací mikroskop 1939 první vyrobený elektronový mikroskop firma Siemens rozlišení 10 nm 1965 první
VíceZáklady elektrotechniky
Základy elektrotechniky Přednáška Tranzistory 1 BIPOLÁRNÍ TRANZISTOR - třívrstvá struktura NPN se třemi vývody (elektrodami): e - emitor k - kolektor b - báze Struktura, náhradní schéma a schematická značka
VíceNahlédnutí pod pokličku vývoje SHM: Magnetronové naprašování. Počítačová simulace procesu
Nahlédnutí pod pokličku vývoje SHM: Magnetronové naprašování Počítačová simulace procesu Magnetronové naprašování princip metody vývoj technologie Magnetronové naprašování princip metody Zdroj: Jan Valter,
VíceOTĚRUVZDORNÉ POVRCHOVÉ ÚPRAVY. Jan Suchánek ČVUT FS, ÚST
OTĚRUVZDORNÉ POVRCHOVÉ ÚPRAVY Jan Suchánek ČVUT FS, ÚST Úvod Povrchové úpravy zlepšující tribologické charakteristiky kovových materiálů: A) Povrchové vrstvy a povlaky s vysokou tvrdostí pro podmínky adhezívního
VíceZákladní typy článků:
Základní typy článků: Články z krystalického Si c on ta c t a ntire fle c tio n c o a tin g Tenkovrstvé články N -ty p e P -ty p e Materiály a technologie pro fotovoltaické články Nové materiály Gratzel,
VícePlazmové depozice povlaků. Plazmový nástřik Plasma Spraying
Plazmové depozice povlaků Plazmový nástřik Plasma Spraying Plazmový nástřik patří do kategorie žárových nástřiků. Žárový nástřik je částicový proces vytváření povlaků o tloušťce obvykle větší než 50 µm,
VíceFET Field Effect Transistor unipolární tranzistory - aktivní součástky unipolární využívají k činnosti vždy jen jeden druh majoritních nosičů
FET Field Effect Transistor unipolární tranzistory - aktivní součástky unipolární využívají k činnosti vždy jen jeden druh majoritních nosičů (elektrony nebo díry) pracují s kanálem jednoho typu vodivosti
Více3. Vlastnosti skla za normální teploty (mechanické, tepelné, optické, chemické, elektrické).
PŘEDMĚTY KE STÁTNÍM ZÁVĚREČNÝM ZKOUŠKÁM V BAKALÁŘSKÉM STUDIU SP: CHEMIE A TECHNOLOGIE MATERIÁLŮ SO: MATERIÁLOVÉ INŽENÝRSTVÍ POVINNÝ PŘEDMĚT: NAUKA O MATERIÁLECH Ing. Alena Macháčková, CSc. 1. Souvislost
VícePočet atomů a molekul v monomolekulární vrstvě
Počet atomů a molekul v monomolekulární vrstvě ϑ je stupeň pokrytí ϑ = N 1 N 1p N 1 = ϑn 1p ν 1 = 1 4 nv a ν 1ef = γν 1 = γ 1 4 nv a γ je koeficient ulpění () F6450 1 / 23 8kT v a = πm = 8kNa T π M 0 ν
VíceFyzikální metody nanášení tenkých vrstev
Fyzikální metody nanášení tenkých vrstev Vakuové napařování Příprava tenkých vrstev kovů některých dielektrik polovodičů je možné vytvořit i epitaxní vrstvy (orientované vrstvy na krystalické podložce)
VícePřednáška 10. Příprava substrátů: chemické ošetření, žíhání, iontové leptání.
Přednáška 10 Příprava substrátů: chemické ošetření, žíhání, iontové leptání. Proč? Každá vrstva nanesená na povrch materiálu by měla být s povrchem nějak spojena. Nejčastěji budeme požadovat mechanickou
VícePrincipy chemických snímačů
Principy chemických snímačů Název školy: SPŠ Ústí nad Labem, středisko Resslova Autor: Ing. Pavel Votrubec Název: VY_32_INOVACE_05_AUT_99_principy_chemickych_snimacu.pptx Téma: Principy chemických snímačů
VíceZdroje optického záření
Metody optické spektroskopie v biofyzice Zdroje optického záření / 1 Zdroje optického záření tepelné výbojky polovodičové lasery synchrotronové záření Obvykle se charakterizují zářivostí (zářivý výkon
VícePřednáška 8. Chemické metody a fyzikálně-chemické metody : princip CVD, metody dekompozice, PE CVD
Přednáška 8 Chemické metody a fyzikálně-chemické metody : princip CVD, metody dekompozice, PE CVD CVD Chemical Vapor Deposition Je chemický proces používaný k vytváření tenkých vrstev. Substrát je vystaven
VíceVzdělávání výzkumných pracovníků v Regionálním centru pokročilých technologií a materiálů reg. č.: CZ.1.07/2.3.00/09.0042
Vzdělávání výzkumných pracovníků v Regionálním centru pokročilých technologií a materiálů reg. č.: CZ.1.07/2.3.00/09.0042 Tento projekt je spolufinancován Evropským sociálním fondem a státním rozpočtem
VícePVD povlaky pro nástrojové oceli
PVD povlaky pro nástrojové oceli Bc. Martin Rund Vedoucí práce: Ing. Jan Rybníček Ph.D Abstrakt Tato práce se zabývá způsoby a možnostmi depozice PVD povlaků na nástrojové oceli. Obsahuje rešerši o PVD
VíceZÁPADOČESKÁ UNIVERZITA V PLZNI. Fakulta aplikovaných věd. Katedra fyziky BAKALÁŘSKÁ PRÁCE
ZÁPADOČESKÁ UNIVERZITA V PLZNI Fakulta aplikovaných věd Katedra fyziky BAKALÁŘSKÁ PRÁCE Plzeň 2012 David Kolenatý Fakulta aplikovaných věd Katedra fyziky Reaktivní depozice vrstev pomocí vysokovýkonového
VíceChemické metody plynná fáze
Chemické metody plynná fáze Chemické reakce prekurzorů lze aktivovat i UV zářením PHCVD. Foton aktivuje molekuly nebo atomy, které pak vytvářejí volné radikály nesoucí hodně energie > ty pak rozbijí velké
VíceSPECIÁLNÍ METODY OBRÁBĚNÍ SPECIÁLNÍ METODY OBRÁBĚNÍ
Předmět: Ročník: Vytvořil: Datum: STROJÍRENSKÁ TECHNOLOGIE TŘETÍ JANA ŠPUNDOVÁ 06.04.2014 Název zpracovaného celku: SPECIÁLNÍ METODY OBRÁBĚNÍ SPECIÁLNÍ METODY OBRÁBĚNÍ Používají se pro obrábění těžkoobrobitelných
VíceNetřískové způsoby obrábění
Projekt realizovaný na SPŠ Nové Město nad Metují s finanční podporou v Operačním programu Vzdělávání pro konkurenceschopnost Královéhradeckého kraje Lenka Havlová 1 Lenka Havlová 2 elektroerozivní obrábění
VíceNanokrystalické tenké filmy oxidu železitého pro solární štěpení vody
Nanokrystalické tenké filmy oxidu železitého pro solární štěpení vody J. Frydrych, L. Machala, M. Mašláň, J. Pechoušek, M. Heřmánek, I. Medřík, R. Procházka, D. Jančík, R. Zbořil, J. Tuček, J. Filip a
VíceDiagnostika vysokovýkonových pulzních magnetronových výbojů pro depozici vrstev
ZÁPADOČESKÁ UNIVERZITA V PLZNI FAKULTA APLIKOVANÝCH VĚD KATEDRA FYZIKY BAKALÁŘSKÁ PRÁCE Diagnostika vysokovýkonových pulzních magnetronových výbojů pro depozici vrstev Plzeň 2012 Veronika Šímová Prohlášení
VícePřednáška 9. Vývěvy s vazbou molekul: kryosorpční, zeolitové, iontové a sublimační vývěvy. Martin Kormunda
Přednáška 9 Vývěvy s vazbou molekul: kryosorpční, zeolitové, iontové a sublimační vývěvy. Sorpční vývěvy využívají převážně jevu adsorpce molekul na povrchu tak jsou molekuly odstraňovány z čerpaného objemu
Vícečlen švýcarské skupiny BCI
> úvod povlakování Tento katalog nabízí základní přehled tvrdých a kluzných vrstev deponovaných PVD technologiemi našeho povlakovacího centra na nástroje a strojní součástí včetně možností předúprav. V
VícePřednáška 3. Napařování : princip, rovnovážný tlak par, rychlost vypařování.
Přednáška 3 Napařování : princip, rovnovážný tlak par, rychlost vypařování. Realizace vypařovadel, směrovost vypařování, vypařování sloučenin a slitin, Vypařování elektronovým svazkem a MBE Napařování
VíceSorpční vývěvy. 1. Vývěvy využívající fyzikální adsorpce (kryogenní vývěvy)
Sorpční vývěvy Využívají adsorpce, tedy vazby molekul na povrch pevných látek. Lze je rozdělit do dvou skupin:. vývěvy využívající fyzikální adsorpce. vývěvy využívající chemisorpce. Vývěvy využívající
Vícezařízení 2. přednáška Fakulta elektrotechniky a informatiky prof.ing. Petr Chlebiš, CSc.
Konstrukce elektronických zařízení 2. přednáška prof.ing. Petr Chlebiš, CSc. Pasivní a konstrukční prvky - Rezistory - Kondenzátory - Vinuté díly, cívky, transformátory - Konektory - Kontaktní prvky, spínače,
VíceNanotechnologie a Nanomateriály na PřF UJEP Pavla Čapková
Přírodovědecká fakulta UJEP Ústí n.l. a Ústecké materiálové centrum na PřF UJEP http://sci.ujep.cz/faculty-of-science.html Nanotechnologie a Nanomateriály na PřF UJEP Pavla Čapková Kontakt: Doc. RNDr.
VíceBRNO UNIVERSITY OF TECHNOLOGY FAKULTA STROJNÍHO INŽENÝRSTVÍ ÚSTAV STROJÍRENSKÉ TECHNOLOGIE
VYSOKÉ UČENÍ TECHNICKÉ V BRNĚ BRNO UNIVERSITY OF TECHNOLOGY FAKULTA STROJNÍHO INŽENÝRSTVÍ ÚSTAV STROJÍRENSKÉ TECHNOLOGIE FACULTY OF MECHANICAL ENGINEERING INSTITUTE OF MANUFACTURING TECHNOLOGY POVLAKOVANÉ
Vícejádro: obal: e n neutron, p proton, e elektron a) at. jádro velká hmotnost (n 0 ) b) el.obal velký rozměr
ELEKTRICKÝ NÁBOJ 1) Těleso látka molekula atom jádro: obal: e 2) ATOM n 0,p + n neutron, p proton, e elektron a) at. jádro velká hmotnost (n 0 ) b) el.obal velký rozměr 3) El.náboj vlastnost částic > e,p
VíceModifikace povrchu textilních materiálů
Modifikace povrchu textilních materiálů Petr Louda a Jiří Militký b Günter Nocke c a) Technická Univerzita v Liberci, Katedra materiálu, Hálkova 6, 461 17 Liberec, Czech Republic, E-mail: petr.louda@vslib.cz
Více1 Moderní nástrojové materiály
1 Řezné materiály jsou podle ISO 513 členěné do šesti základních skupin, podle typu namáhání břitu. - Skupina P zahrnuje nástrojové materiály určené k obrábění většiny ocelí, které dávají dlouhou třísku
VíceOchrana obalem před změnami teploty a úloha obalu při tepelných procesech v technologii potravin. Sdílení tepla sáláním. Balení pro mikrovlnný ohřev
Převod tepla obalem z potraviny do vnějšího prostředí a naopak Ochrana obalem před změnami teploty a úloha obalu při tepelných procesech v technologii potravin 1 Obecně tepelné procesy snaha o co nejmenší
VíceMěření na unipolárním tranzistoru
Měření na unipolárním tranzistoru Teoretický rozbor: Unipolární tranzistor je polovodičová součástka skládající se z polovodičů tpu N a P. Oproti bipolárnímu tranzistoru má jednu základní výhodu. Bipolární
VíceVY_32_INOVACE_ENI_3.ME_16_Unipolární tranzistor Střední odborná škola a Střední odborné učiliště, Dubno Ing. Miroslav Krýdl
Číslo projektu CZ.1.07/1.5.00/34.0581 Číslo materiálu VY_32_INOVACE_ENI_3.ME_16_Unipolární tranzistor Název školy Střední odborná škola a Střední odborné učiliště, Dubno Autor Ing. Miroslav Krýdl Tematická
VíceProč elektronový mikroskop?
Elektronová mikroskopie Historie 1931 E. Ruska a M. Knoll sestrojili první elektronový prozařovací mikroskop,, 1 1939 první vyrobený elektronový mikroskop firma Siemens rozlišení 10 nm 1965 první komerční
VíceLaboratorní návod pro práci s naprašovačkou Denton DESK V HP TSC
Laboratorní návod pro práci s naprašovačkou Denton DESK V HP TSC 2011 Ústav fyziky a měřicí techniky VŠCHT Praha 1 Technologie naprašování kovů K depozicím kovů bude v rámci této práce využito naprašování,
VíceSpeciální metody obrábění
Předmět: Ročník: Vytvořil: Datum: Základy výroby druhý M. Geistová 6. září 2012 Název zpracovaného celku: Speciální metody obrábění Speciální metody obrábění Použití: je to většinou výkonné beztřískové
Více3.3 Výroba VBD a druhy povlaků
3.3 Výroba VBD a druhy povlaků 3.3.1 Výroba výměnných břitových destiček Slinuté karbidy Slinuté karbidy jsou materiály vytvořené pomocí práškové metalurgie. Skládají se z tvrdých částic: karbidu wolframu
VíceCentrum základního výzkumu LC Příprava, modifikace a charakterizace materiálů energetickým zářením. Jaroslav Pavlík, KF PřF UJEP, Ústí n. L.
Centrum základního výzkumu LC 06041 Příprava, modifikace a charakterizace materiálů energetickým zářením Jaroslav Pavlík, KF PřF UJEP, Ústí n. L. Řešitelský tým: Doc. RNDr. S. Novák, CSc. Prof. RNDr. R.
VíceChemická vazba Něco málo opakování Něco málo opakování Co je to atom? Něco málo opakování Co je to atom? Atom je nejmenší částice hmoty, chemicky dále nedělitelná. Skládá se z atomového jádra obsahujícího
VíceZÁPADOČESKÁ UNIVERZITA V PLZNI Fakulta aplikovaných věd Katedra fyziky BAKALÁŘSKÁ PRÁCE
ZÁPADOČESKÁ UNIVERZITA V PLZNI Fakulta aplikovaných věd Katedra fyziky BAKALÁŘSKÁ PRÁCE Vliv průměrné výkonové hustoty na terči během depozice vrstev HfO 2 pomocí reaktivního vysoko-výkonového pulzního
VíceVýstupní práce Materiály a technologie přípravy M. Čada
Výstupní práce Makroskopická veličina charakterizující povrch z pohledu elektronických vlastností. Je to míra vazby elektronu k pevné látce a hraje důležitou roli při procesech transportu nabitých částic
Více