Nahlédnutí pod pokličku vývoje SHM: Magnetronové naprašování. Počítačová simulace procesu

Vakuové metody přípravy tenkých vrstev

Vakuové metody přípravy tenkých vrstev Metody vytváření tenkých vrstev Vakuové metody dnes nejužívanější CVD Chemical Vapour Deposition (PE CVD Plasma Enhanced CVD nebo PA CVD Plasma Assisted CVD) PVD

Využití plazmových metod ve strojírenství. Metody depozice povlaků a tenkých vrstev

Využití plazmových metod ve strojírenství Metody depozice povlaků a tenkých vrstev Metody depozice povlaků Využití plazmatu pro depozice (nanášení) povlaků a tenkých vrstev je moderní a stále častěji aplikovaná

FYZIKA VE FIRMĚ HVM PLASMA

FYZIKA VE FIRMĚ HVM PLASMA Jiří Vyskočil HVM Plasma spol.s r.o. Na Hutmance 2, 158 00 Praha 5 OBSAH HVM PLASMA spol. s r.o. zaměření a historie firmy hlavní činnost a produkty POVRCHOVÉ TECHNOLOGIE metody

Vybrané technologie povrchových úprav. Metody vytváření tenkých vrstev Doc. Ing. Karel Daďourek 2008

Vybrané technologie povrchových úprav Metody vytváření tenkých vrstev Doc. Ing. Karel Daďourek 2008 Metody vytváření tenkých vrstev Vakuové metody dnes nejužívanější CVD Chemical vapour deposition PE CVD

Plazmová depozice tenkých vrstev oxidu zinečnatého

Plazmová depozice tenkých vrstev oxidu zinečnatého Bariérový pochodňový výboj za atmosférického tlaku Štěpán Kment Doc. Dr. Ing. Petr Klusoň Mgr. Zdeněk Hubička Ph.D. Obsah prezentace Úvod do problematiky

REAKTIVNÍ MAGNETRONOVÉ NAPRAŠOV. Jan VALTER HVM Plasma s.r.o. www.hvm.cz

REAKTIVNÍ MAGNETRONOVÉ NAPRAŠOV OVÁNÍ Jan VALTER SCHEMA REAKTIVNÍHO NAPRAŠOV OVÁNÍ zdroj výboje katoda odprašovaný terč plasma inertní napouštění plynů reaktivní zdroj předpětí p o v l a k o v a n é s

Anotace přednášek LŠVT 2015 Česká vakuová společnost. Téma: Plazmové technologie a procesy. Hotel Racek, Úštěk, 1 4. června 2015

Anotace přednášek LŠVT 2015 Česká vakuová společnost Téma: Plazmové technologie a procesy Hotel Racek, Úštěk, 1 4. června 2015 1) Úvod do plasmochemie Lenka Zajíčková, Ústav fyzikální elektroniky, PřF

DOUTNAVÝ VÝBOJ. Magnetronové naprašování

DOUTNAVÝ VÝBOJ Magnetronové naprašování Efektivním způsobem jak získat částice vhodné k růstu povlaku je nahrazení teploty používané u odpařování ekvivalentem energie dodané dopadem těžkéčástice přenosem

ř ť ř é ř Š ř š ř ř Č ú Č Č ř ř ó ř é ř ř ř Č Č ú ř Ř Ě ř ť ó ť ř š ť š é ú é š š ř ř é ÁŘ ů š é é š š ů é š é é é š ř ř ů ú é é é ř ř ů é ó é ť é ň é é ú š é é Ý ř ť ř é é ů Ř š ř é é ř ú ř š ř ó é ú

Tenká vrstva - aplikace

Poznámka: tyto materiály slouží pouze pro opakování STT žáků SPŠ Na Třebešíně, Praha 10; s platností do r. 2016 v návaznosti na platnost norem. Zákaz šíření a modifikace těchto materiálů. Děkuji Ing. D.

Plazmatické metody pro úpravu povrchů

Plazmatické metody pro úpravu povrchů Aleš Kolouch Technická Univerzita v Liberci Studentská 2 461 17 Liberec 1 Obsah 1. Plazma 2. Plazmové stříkání 3. Plazmové leptání 4. PVD 5. PECVD 6. Druhy reaktorů

Í Č ú Č Š Í Á É Č Č ú š š Ž ž š Ť Ť Ž ž Ó ó Ž ž ž Í ú ž Ť ž ž š ň ž š š Í ž Í ň Ž ň š ó š Ž Ž Í Š ú Í ž ž Í š ž ž Ť š š Ž Ž Á ž ó ž Ť š ž ť š Í ň ť ž Ž ž Ž ž Ť ž šť š ž Ž ň ú ž š ž ú ú ť Ž ň ú š ú ž Ž

Gas Discharges. Overview of Different Types. 14. listopadu 2011

Gas Discharges Overview of Different Types Jan Voráč ÚFE 14. listopadu 2011 Obrázky použité v této prezentaci jsou nestoudně ukradeny z internetu, z archivů pracovníků ÚFE MU, ze skript Základy fyziky

Metody depozice povlaků - CVD

Procesy CVD, PA CVD, PE CVD Chemická metoda depozice vrstev CVD využívá pro depozici směs chemicky reaktivních plynů (např. CH 4, C 2 H 2, apod.) zahřátou na poměrně vysokou teplotu 900 1100 C. Reakční

Přehled metod depozice a povrchových

Kapitola 5 Přehled metod depozice a povrchových úprav Tabulka 5.1: První část přehledu technologií pro depozici tenkých vrstev. Klasifikované podle použitého procesu (napařování, MBE, máčení, CVD (chemical

VYSOKÉ UČENÍ TECHNICKÉ V BRNĚ Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií Ústav mikroelektroniky

VYSOKÉ UČENÍ TECHNICKÉ V BRNĚ Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií Ústav mikroelektroniky Ing. Ondřej Hégr CHARAKTERIZACE NANOSTRUKTUR DEPONOVANÝCH VYSOKOFREKVENČNÍM MAGNETRONOVÝM NAPRAŠOVÁNÍM

Centrum základního výzkumu LC 06041. Příprava, modifikace a charakterizace materiálů energetickým zářením. Jaroslav Pavlík, KF PřF UJEP, Ústí n. L.

Centrum základního výzkumu LC 06041 Příprava, modifikace a charakterizace materiálů energetickým zářením Jaroslav Pavlík, KF PřF UJEP, Ústí n. L. Řešitelský tým: Doc. RNDr. S. Novák, CSc. Prof. RNDr. R.

Dodávka vakuové komory s p íslušenstvím

Název ve ejné zakázky: Dodávka vakuové komory s p íslušenstvím Od vodn ní vymezení technických podmínek podle 156 odst. 1 písm. c) ZVZ Technická podmínka: Od vodn ní A) Komponenty erpacího systému a systému

Optimalizace regulačního algoritmu MR tlumiče

Optimalizace regulačního algoritmu MR tlumiče Zbyněk Strecker Institute of Machine and Industrial Design Faculty of Mechanical Engineering BUT 6.11.2013 Optimalizace regulačního algoritmu MR tlumiče Obsah

PRINCIPY ZAŘÍZENÍ PRO FYZIKÁLNÍ TECHNOLOGIE (FSI-TPZ-A)

PRINCIPY ZAŘÍZENÍ PRO FYZIKÁLNÍ TECHNOLOGIE (FSI-TPZ-A) GARANT PŘEDMĚTU: Prof. RNDr. Tomáš Šikola, CSc. (ÚFI) VYUČUJÍCÍ PŘEDMĚTU: Prof. RNDr. Tomáš Šikola, CSc., Ing. Stanislav Voborný, Ph.D. (ÚFI) JAZYK

Vytržení jednotlivých atomů, molekul či jejich shluků bombardováním terče (targetu) ionty s vysokou energií (~kev)

Naprašování: Vytržení jednotlivých atomů, molekul či jejich shluků bombardováním terče (targetu) ionty s vysokou energií (~kev) Po nárazu iont předává hybnost částicím terče, dojde k vytržení Depozice

galvanicky chemicky plazmatem ve vakuu Vrstvy ve vakuu MBE Vakuová fyzika 2 1 / 39

Vytváření vrstev galvanicky chemicky plazmatem ve vakuu Vrstvy ve vakuu povlakování MBE měření tloušt ky vrstvy během depozice Vakuová fyzika 2 1 / 39 Velmi stručná historie (více na www.svc.org) 1857

Optimalizace regulačního algoritmu MR tlumiče

Optimalizace regulačního algoritmu MR tlumiče Zbyněk Strecker Institute of Machine and Industrial Design Faculty of Mechanical Engineering BUT 6.11.2013 Optimalizace regulačního algoritmu MR tlumiče Obsah

Nové metody monitorování provozu ventilátorů/ New methods for monitoring of the fans

Nové metody monitorování provozu ventilátorů/ New methods for monitoring of the fans Motto : Větrací systém se stal důležitou součástí koncepce bezpečnosti tunelu a zasluhuje proto odpovídající prostředky

Vzdělávání výzkumných pracovníků v Regionálním centru pokročilých technologií a materiálů reg. č.: CZ.1.07/2.3.00/09.0042

Vzdělávání výzkumných pracovníků v Regionálním centru pokročilých technologií a materiálů reg. č.: CZ.1.07/2.3.00/09.0042 Tento projekt je spolufinancován Evropským sociálním fondem a státním rozpočtem

Rost Marek, Záruba Lukáš školitelé: Z. Sekerešová, J. Šonský. Cesta k vědě 19.6.2011

Studium dynamických jevů v termickém plazmatu Rost Marek, Záruba Lukáš školitelé: Z. Sekerešová, J. Šonský Cesta k vědě 19.6.2011 M. Rost, L. Záruba (CkV) Studium jevů v plazmatu 19.6.2011 1 / 28 Obsah

Fyzikální metody depozice KFY / P223

Fyzikální metody depozice KFY / P223 Obsah Vymezení pojmu tenkých vrstev, význam TV ve vědě a technice, přehled metod vytváření TV Růst tenkých vrstev: módy a fáze růstu TV, vliv parametrů procesu. Napařování

ODŮVODNĚNÍ VEŘEJNÉ ZAKÁZKY

ODŮVODNĚNÍ VEŘEJNÉ ZAKÁZKY s názvem PULSNÍ LASEROVÁ DEPOZICE CEITEC MU vyhotovené podle 156 zákona č. 137/2006 Sb., o veřejných zakázkách, v platném znění (dále jen Zákon o VZ) 1. ODŮVODNĚNÍ ÚČELNOSTI

Plazmové metody Materiály a technologie přípravy M. Čada

Plazmové metody Existuje mnoho druhů výbojů v plynech. Ionizovaný plyn = elektrony + ionty + neutrály Depozice tenkých vrstev za pomocí plazmatu je jednou z nejpoužívanějších metod. Pomocí plazmatu lze

SYSTÉM TENKÁ VRSTVA SUBSTRÁT V APLIKACI NA ŘEZNÝCH NÁSTROJÍCH

Západočeská univerzita v Plzni SYSTÉM TENKÁ VRSTVA SUBSTRÁT V APLIKACI NA ŘEZNÝCH NÁSTROJÍCH Antonín Kříž Univerzitní 22, 306 14 Plzeň, e-mail: kriz@kmm.zcu.cz Tento příspěvek vznikl na základě řešení

Ochrana obalem před změnami teploty a úloha obalu při tepelných procesech v technologii potravin. Sdílení tepla sáláním. Balení pro mikrovlnný ohřev

Převod tepla obalem z potraviny do vnějšího prostředí a naopak Ochrana obalem před změnami teploty a úloha obalu při tepelných procesech v technologii potravin 1 Obecně tepelné procesy snaha o co nejmenší

Nanogrant KAN ( )

Nanogrant KAN400480701 (2007 2011) Nanostruktury na bázi uhlíku a polymerů pro využití v bioelektronice a medicíně Ústav jaderné fyziky AV ČR, Mgr. Jiří Vacík, CSc., koordinátor projektu ( Výroční seminář

Typy interakcí. Obsah přednášky

Co je to inteligentní a progresivní materiál - Jaderné analytické metody-využití iontových svazků v materiálové analýze Anna Macková Ústav jaderné fyziky AV ČR, Řež 250 68 Obsah přednášky fyzikální princip

Fyzikální metody přípravy tenkých vrstev. Martin Kormunda

Fyzikální metody přípravy tenkých vrstev Co je to za techniky? Procesy vyváření tenkých vrstev fyzikálními metodami využívají procesy probíhající za nízkého tlaku k dosažení efektivního transportu částic

Tenké vrstvy. metody přípravy. hodnocení vlastností

Tenké vrstvy metody přípravy hodnocení vlastností 1 / 39 Depozice tenkých vrstev Depozice vrstev se provádí jako finální operace na hotovém již tepelně zpracovaném substrátu. Pro dobré adhezní vlastnosti

Aerodynamika vozu, vnější proudění

Aerodynamika vozu, vnější proudění J. Jagrik Škoda Auto TFA Aerodynamika a výpočty 11.3.2015 1 Vnější aerodynamika vozu - přehled Cíle: bezpečnost aerodynamická stabilita, špinění ekonomicky a ekologicky

Modelování hrozeb. Hana Vystavělová AEC, spol. s r.o.

Modelování hrozeb Hana Vystavělová AEC, spol. s r.o. Agenda Možné způsoby identifikace rizik Úskalí analýzy rizik Modelování hrozeb metodiky Modelování hrozeb ukázky Výhody a přínosy modelování hrozeb

Všechno, co jste chtěli vědět o Gridech, ale báli jste se zeptat

Seminář LOM, 8. června 2005 Všechno, co jste chtěli vědět o Gridech, ale báli jste se zeptat Jan Kmuníček Ústav výpočetní techniky MU & CESNET Obsah Charakteristika gridovéhoprostředí Typy Gridů Vize výpočetního

ÈÁST VII - K V A N T O V Á F Y Z I K A

Kde se nacházíme? ÈÁST VII - K V A N T O V Á F Y Z I K A 29 Èásticové vlastnosti elektromagnetických vln 30 Vlnové vlastnosti èástic 31 Schrödingerova formulace kvantové mechaniky Kolem roku 1900-1915

Plazma v technologiích

Plazma v technologiích Mezi moderními strojírenskými technologiemi se stále častěji prosazují metody využívající různé formy plazmatu. Plazma je plynné prostředí skládající se z poměrně volných částic,

Přednáška 8. Chemické metody a fyzikálně-chemické metody : princip CVD, metody dekompozice, PE CVD

Přednáška 8 Chemické metody a fyzikálně-chemické metody : princip CVD, metody dekompozice, PE CVD CVD Chemical Vapor Deposition Je chemický proces používaný k vytváření tenkých vrstev. Substrát je vystaven

F7030 Rentgenový rozptyl na tenkých vrstvách

F7030 Rentgenový rozptyl na tenkých vrstvách O. Caha PřF MU Prezentace k přednášce Numerické simulace Příklady experimentů Vybrané vztahy Sylabus Elementární popis vlnového pole: Rtg vlna ve vakuu; Greenova

Depozice uhlíkových nanotrubek metodou PECVD a jejich analýza

Depozice uhlíkových nanotrubek metodou PECVD a jejich analýza Jiřina Matějková UPT Brno AV ČR Ondřej Jašek- KFE Přírodovědecká fakulta MU Brno, jasek@physics.muni.cz Marek Eliáš, Lenka Zajíčková, Vít Kudrle,

Vytváření tenkých speciálních vrstev metodou plazmochemické depozice z plynné fáze

Vytváření tenkých speciálních vrstev metodou plazmochemické depozice z plynné fáze Teoretické základy: Plazmochemická depozice z plynné fáze metoda PECVD Rozvoj plazmochemických metod vytváření tenkých

TECHNOLOGICKÉ PROCESY PŘI VÝROBĚ POLOVODIČOVÝCH PRVKŮ III.

TECHNOLOGICKÉ PROCESY PŘI VÝROBĚ POLOVODIČOVÝCH PRVKŮ III. NANÁŠENÍ VRSTEV V mikroelektronice se nanáší tzv. tlusté a tenké vrstvy. a) Tlusté vrstvy: Používají se v hybridních integrovaných obvodech. Nanáší

Využití plazmochemické redukce pro konzervaci archeologických nálezů

Využití plazmochemické redukce pro konzervaci archeologických nálezů Zuzana Rašková Technické muzeum v Brně, Purkyňova 105, 612 00 Brno, raskova@technicalmuseum.cz 24.7.2006 1 Nječastější kovové sbírkové

Úvod do fyziky plazmatu

Úvod do fyziky plazmatu Lenka Zajíčková, Ústav fyz. elektroniky Doporučená literatura: J. A. Bittencourt, Fundamentals of Plasma Physics, 2003 (3. vydání) ISBN 85-900100-3-1 Navazující a související přednášky:

Plazmové depozice povlaků. Plazmový nástřik Plasma Spraying

Plazmové depozice povlaků Plazmový nástřik Plasma Spraying Plazmový nástřik patří do kategorie žárových nástřiků. Žárový nástřik je částicový proces vytváření povlaků o tloušťce obvykle větší než 50 µm,

Návod pro Laboratoř oboru Výroba léčiv

Návod pro Laboratoř oboru Výroba léčiv Studium biomateriálů laserovou rastrovací mikroskopií (SBLRM) Vedoucí práce: doc. Ing. Jakub Siegel, Ph.D. 09/2014 Úkoly: 1. Prostudujte základní informace o přístrojích

Rozhodování. s více účastníky. Miroslav. school@utia

Rozhodování s více účastníky Miroslav Kárný school@utia utia.cas.cz, http://www.utia utia.cas.cz/as Rozhodování Účastník znalosti neúpln plné cíle násobné omezení rozsahů složitostn itostní strategie akce

Naprašování nanokompozitních vrstev Ti-Si-O-N a jejich vlastnosti

Západočeská univerzita v Plzni Fakulta aplikovaných věd Katedra fyziky Naprašování nanokompozitních vrstev Ti-Si-O-N a jejich vlastnosti Bakalářská práce Plzeň 2012 Michal Zítek Prohlášení Prohlašuji,

CHARAKTERIZACE MATERIÁLU II

CHARAKTERIZACE MATERIÁLU II Vyučující a zkoušející Ing. Martin Kormunda, Ph.D. - CN320 Konzultační hodiny: Po 10-12, St 13 14 nebo dle dohody Doc. RNDr. Jaroslav Pavlík, CS.c. - CN Konzultační hodiny:

DOUTNAVÝ VÝBOJ. Další technologie využívající doutnavý výboj

DOUTNAVÝ VÝBOJ Další technologie využívající doutnavý výboj Plazma doutnavého výboje je využíváno v technologiích depozice povlaků nebo modifikace povrchů. Jedná se zejména o : - depozici povlaků magnetronovým

Korozní experimenty konstrukčních materiálů pro technologie CCS

Korozní experimenty konstrukčních materiálů pro technologie CCS Jana Petrů, VŠCHT Praha Jana Poláčková, VŠCHT Praha Jiří Kubásek, VŠCHT Praha Martin Janák, VŠCHT Praha Daniela Marušáková, VŠCHT Praha Aneta

ATOMOVÁ SPEKTROMETRIE (v UV a Vis oblasti spektra)

ATOMOVÁ SPEKTROMETRIE (v UV a Vis oblasti spektra) Atomová spektrometrie 1. OES (AES) 2. AAS 3. AFS Atomová spektra Na s elektronovou konfigurací [Ne] 3s 1 (1 val. e - ) Absorpce fotonu je spojena s excitací

Princip naprašování. Rozdíly proti napařování: 1. metoda získávání par 2. nutnost použití pracovního plynu 3. ionizace par a prac. plynu.

Přednáška 6 Naprašování: princip metody, magnetrony, ss naprašování, pulzní naprašování, rf naprašování naprašovací rychlost, naprašování kovů, slitin a sloučenin. Princip naprašování Převedení pevné látky

Vysoká škola chemicko-technologická v Praze ÚCHOP Laboratorní ověřování mechanismů termické desorpce s mikrovlnným ohřevem Ing. Pavel Mašín Ing. Jiří Hendrych Doc.Dr.Ing. Martin Kubal Ing. Lucie Kochánková

CEPLANT Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy

CEPLANT Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy Operační program Výzkum a Vývoj pro Inovace prioritní osa 2.1 Regionální VaV centra Reg.č. CZ.1.05/2.1.00/03.0086

Metodika hodnocení opotřebení povlaků

Metodika hodnocení opotřebení povlaků Bc. Petr Mutafov Vedoucí práce: Ing. Tomáš Polcar, Ph.D. Abstrakt Tento příspěvek se věnuje porovnáním kontaktního a bezkontaktního způsobu měření, které byly vybrány

Nanokrystalické tenké filmy oxidu železitého pro solární štěpení vody

Nanokrystalické tenké filmy oxidu železitého pro solární štěpení vody J. Frydrych, L. Machala, M. Mašláň, J. Pechoušek, M. Heřmánek, I. Medřík, R. Procházka, D. Jančík, R. Zbořil, J. Tuček, J. Filip a

PVD povlaky pro nástrojové oceli

PVD povlaky pro nástrojové oceli Bc. Martin Rund Vedoucí práce: Ing. Jan Rybníček Ph.D Abstrakt Tato práce se zabývá způsoby a možnostmi depozice PVD povlaků na nástrojové oceli. Obsahuje rešerši o PVD

OD NÁPADU K VÝROBKU ANEB APLIKOVANÝ VÝZKUM V PRAXI

OD NÁPADU K VÝROBKU ANEB APLIKOVANÝ VÝZKUM V PRAXI Doc. Ing. Aleš Rubina, Ph.D., Ing. Pavel Uher, Ing. Olga Rubinová, Ph.D. Vysoké učení technické v Brně, Fakulta stavební, Ústav technických zařízení budov,

Publications in Refereed Journals

Publications in Refereed Journals Brožek, Vlastimil - Matějíček, Jiří - Neufuss, Karel Wolframové a wolframkarbidové filtry a membrány. [Tungsten and tungsten carbide filters and membranes.] Chemické listy.

OPTIKA Fotoelektrický jev TENTO PROJEKT JE SPOLUFINANCOVÁN EVROPSKÝM SOCIÁLNÍM FONDEM A STÁTNÍM ROZPOČTEM ČESKÉ REPUBLIKY.

OPTIKA Fotoelektrický jev TENTO PROJEKT JE SPOLUFINANCOVÁN EVROPSKÝM SOCIÁLNÍM FONDEM A STÁTNÍM ROZPOČTEM ČESKÉ REPUBLIKY. Světlo jako částice Kvantová optika se zabývá kvantovými vlastnostmi optického

ABSORPČNÍ SPEKTROSKOPIE VÝBOJE V PULZNÍM MAG- NETRONU NELINEÁRNÍ FITACE SIGNÁLU

ABSORPČNÍ SPEKTROSKOPIE VÝBOJE V PULZNÍM MAG- NETRONU NELINEÁRNÍ FITACE SIGNÁLU Jiří Olejníček 1, Hoang Tung Do, Zdeněk Hubička 1, Rainer Hippler 1 Fyzikální ústav AVČR, Na Slovance, 18 1 Praha 8 University

CHARAKTERIZACE MATERIÁLU II

CHARAKTERIZACE MATERIÁLU II Vyučující a zkoušející Ing. Martin Kormunda, Ph.D. - CN320 Konzultační hodiny: Po 10-12, St 13 14 nebo dle dohody Doc. RNDr. Jaroslav Pavlík, CS.c. - CN Konzultační hodiny:

NÁSTROJ NEFUNGUJE, KDO ZA TO MŮŽE?

NÁSTROJ NEFUNGUJE, KDO ZA TO MŮŽE? Vstupní přednáška pro problematiku: Nástrojové oceli Slinuté karbidy Depozice tenkých vrstev Předmět SMA Doc.Dr.Ing. Antonín Kříž 3/37 Čas jsou peníze 4/37 Systém tenká

České vysoké učení technické v Praze. Katedra fyzikální elektroniky. Témata studentských prací pro školní rok 2014 15

Rámcové téma práce č. 1: Diodově čerpaný Er:YAG oku-bezpečný laser Typ práce: DP Vedoucí práce: Ing. M. Němec, Ph.D. 1 Kozultant(i): prof. Ing. H. Jelínková, DrSc. 2 Student: L. Indra Obsahem práce je

UZAVÍRACÍ KLAPKY S JEDNOU EXCENTRICITOU TYP L32.6

Použití Uzavírací klapky s jednou excentricitou jsou průmyslové armatury určené k úplnému otevření nebo uzavření průtoku. Lze je použít i pro regulaci průtoku. Při dlouhodobém používání v regulačním režimu

Optický emisní spektrometr Agilent 725 ICP-OES

Optický emisní spektrometr Agilent 725 ICP-OES Popis systému: Přístroj, včetně řídicího softwaru a počítače, určený pro plně simultánní stanovení prvků v širokém koncentračním rozmezí (ppm až %), v nejrůznějších

SEZNAM PŘÍLOH 11. SEZNAM PŘÍLOH

SEZNAM PŘÍLOH 11. SEZNAM PŘÍLOH Příloha 1 Výrobní systémy prášku VIGA, EIGA a PIGA... 84 Příloha 2 Proudění bublin v tavící lázni... 84 Příloha 3 Graf hodnot BFE pro různé mísící poměry prášků... 85 Příloha

člen švýcarské skupiny BCI

> úvod povlakování Tento katalog nabízí základní přehled tvrdých a kluzných vrstev deponovaných PVD technologiemi našeho povlakovacího centra na nástroje a strojní součástí včetně možností předúprav. V

Technické vzdělávání na Jihočeské univerzitě

Technické vzdělávání na Jihočeské univerzitě Přírodovědecká fakulta JU, Ústav fyziky a biofyziky Měřicí a výpočetní technika, Mechatronika České Budějovice, 15. 01. 2016 www.prf.jcu.cz/ufy Technicky orientované

OPTICKÁ EMISNÍ SPEKTROMETRIE

OPTICKÁ EMISNÍ SPEKTROMETRIE Optical Emission Spectrometry (OES) ATOMOVÁ EMISNÍ SPEKTROMETRIE (AES) (c) -2017 OES je založena na registrování fotonů vzniklých přechody valenčních e - z vyšších energetických

Depozice tenkých vrstev I.

Depozice tenkých vrstev I. Naprašování Mgr. Tereza Schmidtová 15. dubna 2010 Aplikace Klasifikace Obecný přehled aplikací použití pro optické vlastnosti - laserová optika, zrcadla, reflexní a anti-reflexní

ď Ž ó Ý š Ž ú š š š ť ó ť ť š š Ž Ž š Ž Č ď š Ž ň š Ž š š š ú Ú Š ď š š Č ú š ň š š š š š Č ú ú š ú ú š š š š š ň ň š šú š š š š š ť Č š š ú š š Ž šť š š ň ň ú š ň Ž ú š Č ú š ú Š š š ň Š ú ú Č É š š ď

Nové trendy vývoje tenkých vrstev vytvořených PVD a CVD technologií v aplikaci na řezné nástroje Antonín Kříž

Nové trendy vývoje tenkých vrstev vytvořených PVD a CVD technologií v aplikaci na řezné nástroje Antonín Kříž TATO PŘEDNÁŠKA JE SPOLUFINANCOVÁNA EVROPSKÝM SOCIÁLNÍM FONDEM A STÁTNÍM ROZPOČTEM ČESKÉ REPUBLIKY.

Optická vlákna. Laboratoř optických vláken. Ústav fotoniky a elektroniky, AVČR, v.v.i. www.ufe.cz/dpt240

Optická vlákna Laboratoř optických vláken Ústav fotoniky a elektroniky, AVČR, v.v.i. www.ufe.cz/dpt240 Ústav fotoniky a elektroniky AVČR ZÁKLADNÍ VÝZKUM Optické biosensory (SPR Homola) Vláknové lasery

Využití fotonických služeb e-infrastruktury pro přenos ultrastabilních optických frekvencí

Využití fotonických služeb e-infrastruktury pro přenos ultrastabilních optických frekvencí Ondřej Číp, Martin Čížek, Lenka Pravdová, Jan Hrabina, Václav Hucl a Šimon Řeřucha (ÚPT AV ČR) Josef Vojtěch a

Monitorování svazku elektronů a zvýšení jeho stability na mikrotronu MT 25

Monitorování svazku elektronů a zvýšení jeho stability na mikrotronu MT 25 Krist Pavel, Vognar Miroslav, Šimáně Čestmír Oddělení urychlovačů, Ústav jaderné fyziky AVČR v. v. i., 250 68 Řež 130 Cílem naší

Domácí úlohy ke kolokviu z předmětu Panorama fyziky II Tomáš Krajča, , Jaro 2008

Domácí úlohy ke kolokviu z předmětu Panorama fyziky II Tomáš Krajča, 255676, Jaro 2008 Úloha 1: Jaká je vzdálenost sousedních atomů v hexagonální struktuře grafenové roviny? Kolik atomů je v jedné rovině

Sestrojení voltampérové charakteristiky diody (experiment)

Zvyšování kvality výuky v přírodních a technických oblastech CZ.1.07/1.1.28/02.0055 Sestrojení voltampérové charakteristiky diody (experiment) Označení: EU-Inovace-F-9-01 Předmět: Fyzika Cílová skupina:

Analýza emisních čar ve výboji v napařovacím stroji

Analýza emisních čar ve výboji v napařovacím stroji Pavel Oupický, Centrum pro optoelektroniku Viktor Sember, Oddělení vysokoteplotního plazmatu Ústav fyziky plazmatu AV ČR, v.v.i. Abstrakt V článku v

VYUŽITÍ MATLABU PRO MODELOVÁNÍ INTERFEROGRAMŮ PROUDÍCÍHO PLYNU S RŮZNÝM INDEXEM LOMU. Jiří Olejníček Pedagogická fakulta, Jihočeská univerzita

VYUŽITÍ MATLABU PRO MODELOVÁNÍ INTERFEROGRAMŮ PROUDÍCÍHO PLYNU S RŮZNÝM INDEXEM LOMU Jiří Olejníček Pedagogická fakulta, Jihočeská univerzita Abstrakt: Příspěvek se zabývá využitím Matlabu pro modelování

Základní typy článků:

Základní typy článků: Články z krystalického Si c on ta c t a ntire fle c tio n c o a tin g Tenkovrstvé články N -ty p e P -ty p e Materiály a technologie pro fotovoltaické články Nové materiály Gratzel,

Nanotechnologie a Nanomateriály na PřF UJEP Pavla Čapková

Přírodovědecká fakulta UJEP Ústí n.l. a Ústecké materiálové centrum na PřF UJEP http://sci.ujep.cz/faculty-of-science.html Nanotechnologie a Nanomateriály na PřF UJEP Pavla Čapková Kontakt: Doc. RNDr.

Laboratorní návod pro práci s naprašovačkou Denton DESK V HP TSC

Laboratorní návod pro práci s naprašovačkou Denton DESK V HP TSC 2011 Ústav fyziky a měřicí techniky VŠCHT Praha 1 Technologie naprašování kovů K depozicím kovů bude v rámci této práce využito naprašování,

Tenké vrstvy nitridů kovů výroba, aplikace, vlastnosti

Tenké vrstvy nitridů kovů výroba, aplikace, vlastnosti Začátek průmyslové aplikace tenkých vrstev v oblasti řezných nástrojů 1968 CVD depozice vrstvy TiC na řezné destičce ze slinutého karbidu 2/49 Co

Turnaj mladých fyziků 2014

Turnaj mladých fyziků 2014 poznámky k úlohám 2 a 16 Petr Chaloupka FJFI ČVUT CZ petr.chaloupka@fjfi.cvut.cz Úloha č. 2 Hologram.. Vynalezeno 1948 Denisem Gaborem pro potřeby elektronové mikroskopie původní

Centrum základního výzkumu LC Příprava, modifikace a charakterizace materiálů energetickým zářením. Jaroslav Pavlík, KF PřF UJEP, Ústí n. L.

Centrum základního výzkumu LC 06041 Příprava, modifikace a charakterizace materiálů energetickým zářením Jaroslav Pavlík, KF PřF UJEP, Ústí n. L. Řešitelský tým: Doc. RNDr. S. Novák, CSc. Prof. RNDr. R.

Vakuová technika. Výroba tenkých vrstev vakuové naprašování

VYSOKÉ UČENÍ TECHNICKÉ V BRNĚ FAKULTA ELEKTROTECHNIKY A KOMUNIKAČNÍCH TECHNOLOGIÍ Vakuová technika Výroba tenkých vrstev vakuové naprašování Tomáš Kahánek ID: 106518 Datum: 17.11.2010 Výroba tenkých vrstev

Zkoušky vnitřním přetlakem > 100 bar

Zkoušky vnitřním přetlakem > 100 bar Září 2006 1 Zkoušky vnitřním přetlakem v laboratoři plastových potrubních systémů Zkoušky statickým vnitřním přetlakem (zkušební teplota, prostředí, tlakové médium)

Technologie konstrukce smart oděvů. Jana Drašarová

Technologie konstrukce smart oděvů Jana Drašarová Cesty ke SMART textiliím II 2) Inovativní materiály a struktury vložením známých prvků aktivní (parazitické) elementy připojené do struktury aktivní elementy

Tenké vrstvy pro lékařství 1. Laserové vrstvy ( metody přípravy vrstev, laser, princip metody pulzní laserové depozice PLD, růst vrstev, )

Tenké vrstvy pro lékařství 1. Laserové vrstvy ( metody přípravy vrstev, laser, princip metody pulzní laserové depozice PLD, růst vrstev, ) 2. Vybrané vrstvy a aplikace - gradientní vrstvy, nanokrystalické

Optogalvanick{ spektrometrie Vítězslav Otruba

Optogalvanick{ spektrometrie Vítězslav Otruba Princip metody Optogalvanický efekt využívá kombinace excitace atomů resonančním zářením a srážkové ionizace částicemi plazmatu (plamene) k selektivní ionizaci

OPTICK SPEKTROMETRIE

OPTICK TICKÁ EMISNÍ SPEKTROMETRIE Optical Emission Spectrometry (OES) ATOMOVÁ EMISNÍ SPEKTROMETRIE (AES) (c) -2010 OES je založena na registrování fotonů vzniklých přechody valenčních e - z vyšších energetických

Projekt PilsenCUBE. Hledání rozumného řešení velkého množství otázek. Lze zajistit dlouhodobě spolehlivou funkci satelitu?

Lze zajistit dlouhodobě dostatek elektrické energie pro vědcké experimenty? Lze zajistit dlouhodobě spolehlivou funkci satelitu? Lze zajistit dostatečně rychlé přenosy dat ze satelitu? Hledání rozumného

jsou nemísitelné. U vrstev, které byly poprvé připraveny v SHM představují krystalickou složku krystaly TiAlN a amorfní složku Si 3

Společnost SHM byla založena dvěma společníky panem Mojmírem Jílkem a Pavlem Holubářem v roce 1993. Jejímu založení předcházela spolupráce obou obchodních partnerů ve výzkumu a vývoji u původního zaměstnavatele

Anihilace pozitronů v letu

Anihilace pozitronů v letu v pevné látce se e + termalizuje během několika ps termalizovaný pozitron anihilace v klidu dominantní proces v pevných látkách netermalizovaný pozitron anihilace v letu (AiF)

TENKÉ VRSTVY. 1. Modifikací povrchu materiálu (teplem, okysličením, laserem,.. 2. Depozicí (nanášením)

TENKÉ VRSTVY Lze připravit : 1. Modifikací povrchu materiálu (teplem, okysličením, laserem,.. 2. Depozicí (nanášením) Metody fyzikální (Physical Vapor Deposition PVD) Metody chemické (Chemical Vapor Deposition-