Nanogrant KAN ( )

Rozměr: px
Začít zobrazení ze stránky:

Download "Nanogrant KAN ( )"

Transkript

1 Nanogrant KAN ( ) Nanostruktury na bázi uhlíku a polymerů pro využití v bioelektronice a medicíně Ústav jaderné fyziky AV ČR, Mgr. Jiří Vacík, CSc., koordinátor projektu ( Výroční seminář - FGÚ AV ČR, ) FZÚ AV ČR, v.v.i. Na Slovance Praha 8 Spoluřešitelský tým Fyzikálního ústavu AV ČR (podle projektové dokumentace) F.Fendrych, M.Nesládek, J.Musil, M.Crhán, M.Vaněč ěček, Š.Potocký Pracovní skupina materiálů pro nanosystémy a biorozhraní (MNB) F.Fendrych, M.Nesládek, J.Musil, M.Crhán, A.Taylor, L.Peksa, I.Kratochvílová, PhD studenti: J.Vlček, V.Řezáčová, A.Kovalenko Diplomanti: V.Petrák, J.Krucký

2 Nanogrant KAN ČASOVÝ POSTUP ŘEŠENÍ ( úkoly projektu pro Fyzikální ústav AV ČR ) : 2007: B3: Optimalizace plazmatu a plazmo-chemických procesů (PECVD) k dosažení růstu vrstev NCD definované orientace a velikosti zrn, povrchové hrubosti a vhodné elektronické kvality (sp3 vázaný, nízká hustota stavu; v zakázaném pásu) B3: Optimalizace uspořádání mikrovlnných PECVD systému k ověření principu depozice NCD (scalability) na velké plochy. Tato otázka je podstatná pro budoucí možné prumyslové využití. NCD vrstvy budou dále použity k povrchovým modifikacím s použitím iontové mikrosondy (unikátního zařízení, které bude v roce 2007 instalováno v ÚJF AV ČR v Reži) B3: Charakterizace strukturních (Raman, XRD, neutronová difrakce), elektrických, optických (transmise, reflexe, fototermální deflekce) a elektrochemických vlastností vrstev NCD včetne vrstev NCD s povrchovými modifikacemi (iontovým mikrosvazkem). Použití modifikovaných (strukturovaných) povrchu; substrát; ke studiu adheze a růstu buněk, jejich dobu života (survival rate) a studium biokompatibility modifikovaných diamantových povrchů.

3 Nanogrant KAN ČASOVÝ POSTUP ŘEŠENÍ ( úkoly projektu pro Fyzikální ústav AV ČR ) : 2010 B3: Konstrukce jednoduchých bioelektronických součástek jako např. aktivní nanoelektrody či polní tranzistory typu ISFET, založené na modifikaci vlastností povrchového kanálu nízkoenergetickou iontovou implantací. Vývoj a ověření této metody, charakterizace součástek a demonstrace přenosu elektrických signálů mezi polovodičovou součástkou a živou buněčnou tkání v přímém kontaktu B3: Konstrukce jednoduchých bioelektronických součástek jako např. aktivní nanoelektrody či polní tranzistory typu ISFET, založené na modifikaci vlastností povrchového kanálu nízkoenergetickou iontovou implantací. Vývoj a ověření této metody, charakterizace součástek a demonstrace přenosu elektrických signálů mezi polovodičovou součástkou a živou buněčnou tkání v přímém kontaktu. ZDUVODNĚNÍ FINANČNÍCH NÁKLADU FZÚ AV ČR 1. INVESTIČNÍ NÁKLADY. Pro první rok rešení projektu (2007) plánujeme zakoupení komplexu elektronického mikrovlnného generátoru pro ECR plazma. Tato investice je nezbytná pro generování mikrovlnného výboje v režimu elektronové cyklotronové rezonance (ECR), který (v atmosfére metan CH4 + argon Ar) umožní depozice (ultra- )nanokrystalických diamantových vrstev s velikostí zrn cca 5-15 nm. Vhodné zarízení bude urceno na základe výberového rízení z ruzných nabídek. Jako vhodné konkrétní zarízení se nyní jeví komplex mikrovlnného generátoru nemecké firmy ROTH GmbH pracující na frekvenci 2,45 GHz s výkonem 3,5 kw, jehož soucasná cena (bez DPH) ciní více než ,-EUR. Odpisová skupina 1-27, SKP 33.2, celková doba odpisu 3 roky, od AV CR se nárokuje úcelová podpora 100 % celkové ceny s DPH, tj. celkem investice 1,3 miliónu Kc.

4 pracovní plyny chladič Návrh instalací v laboratoři FZÚ 026 voda- -vzduch Klimatizace, chladicí výkon 6,5 kw, mírný přetlak, pokojová teplota +- 3 C Odtah plynů z digestoře, 300 m3 / hod Odtah plynů od vývěv, ventilátor 100 m3 / hod, provoz přerušovaný v cca 1 hod intervalech Stlačený vzduch, čistý, rozvod FZÚ Slovanka PVD3 CVD1 Stlačený dusík N2 a Ar, z lahví, na profukování Rozvod pracovních plynů - H2, CH4, TMB, Ar, N2 Přípojka vodovodní vody, odtok stačí tlakový (oliva) Chladič voda-vzduch chladicí výkon 20 kw, teploměr vody prac. stůl Přítok a odtok sekundárního chladicího okruhu ukončený ventilem a průtokoměrem 380 V, 3-fázové přípojky, celkový výkon max. 30 kw CVD2 220 V / 16 A, panely zásuvek s vypínačem posuvné dveře 2-křídlé vstupní komora digestoř flow box Rozvodná deska, centrální vypínače, pojistky Připojení počítačové sítě, optické kabely, internet Umyvadlo rohové nebo obdélníkové protipožární dveře, šířka 110 cm Osvětlení laboratoře a vstupní komory, stropní desky CVD1, CVD2, PVD3... technologické aparatury Verze , FZÚ, F.Fendrych, mobil

5 Přřestavba suterénní laboratořře 026 ve FZÚ AV ČR ( včetně instalačního zázemí pro novou aparaturu )

6 Lineární antény (MW aplikátory)

7 Větvené distributory výstupu signálu z MW generátoru do antén Only this branch will be built and used at first Rectangular waveguide from magnetron Coaxial power distributor Open coaxial MW power distributor with top halp removed

8 Pulzní MW plazma (1) Argon Plasma 1.7 mbar 10 kw pulses Duty 20% Various pulse frequencies: Light from plasma Microwave Pulse (f/r) On: 10 ms Off: 40 ms 20 Hz (markers 1->, 2->, 3-> designate individual base lines of signal = 0 value) On: 5 ms Off: 20 ms 40 Hz

9 Pulzní MW plazma (2) On: 2.5 ms Off: 10 ms 80 Hz On: 1.25 ms Off: 5 ms 160 Hz On: 0.1 ms Off: 0.4 ms 2,000 Hz On: ms Off: 0.1 ms 10,000 Hz

10 MW PE CVD systém s lineárními anténami (zkonstruovaný ve FZÚ AV ČR)

11 MW výboj v komoře aparatury při velkoplošné depozici

12 Mikroskopie atomárních sil (AFM) deponovaných NCD vrstev

13 Ramanova spektroskopie Raman spectroscopy (488nm) - corrected data Sample: L09010-E optická mikroskopie 1.40E E E+05 L09010-E Pos B L09010-E Pos C L09010-E Pos D L09010-E Pos E L09010-E Pos F L09010-E Pos G L09010-E Pos H L09010-E Pos I L09010-E Pos J L09010-E Pos K Centre A B Intensity (counts) 8.00E E+04 Midway C 4.00E+04 Edge 2.00E+04 D 0.00E Wavenumber (cm-1)

14 Nanogrant KAN

Plazmatické metody pro úpravu povrchů

Plazmatické metody pro úpravu povrchů Plazmatické metody pro úpravu povrchů Aleš Kolouch Technická Univerzita v Liberci Studentská 2 461 17 Liberec 1 Obsah 1. Plazma 2. Plazmové stříkání 3. Plazmové leptání 4. PVD 5. PECVD 6. Druhy reaktorů

Více

KAN ( ) Nanostruktury na bázi uhlíku a polymerů pro využití v bioelektronice a medicíně

KAN ( ) Nanostruktury na bázi uhlíku a polymerů pro využití v bioelektronice a medicíně Akademie věd České republiky Nanotechnologie pro společnost Ústav jaderné fyziky AV ČR Jiří Vacík KAN 400480701 (2007 2011) Nanostruktury na bázi uhlíku a polymerů pro využití v bioelektronice a medicíně

Více

galvanicky chemicky plazmatem ve vakuu Vrstvy ve vakuu MBE Vakuová fyzika 2 1 / 39

galvanicky chemicky plazmatem ve vakuu Vrstvy ve vakuu MBE Vakuová fyzika 2 1 / 39 Vytváření vrstev galvanicky chemicky plazmatem ve vakuu Vrstvy ve vakuu povlakování MBE měření tloušt ky vrstvy během depozice Vakuová fyzika 2 1 / 39 Velmi stručná historie (více na www.svc.org) 1857

Více

Anotace přednášek LŠVT 2015 Česká vakuová společnost. Téma: Plazmové technologie a procesy. Hotel Racek, Úštěk, 1 4. června 2015

Anotace přednášek LŠVT 2015 Česká vakuová společnost. Téma: Plazmové technologie a procesy. Hotel Racek, Úštěk, 1 4. června 2015 Anotace přednášek LŠVT 2015 Česká vakuová společnost Téma: Plazmové technologie a procesy Hotel Racek, Úštěk, 1 4. června 2015 1) Úvod do plasmochemie Lenka Zajíčková, Ústav fyzikální elektroniky, PřF

Více

Vzdělávání výzkumných pracovníků v Regionálním centru pokročilých technologií a materiálů reg. č.: CZ.1.07/2.3.00/09.0042

Vzdělávání výzkumných pracovníků v Regionálním centru pokročilých technologií a materiálů reg. č.: CZ.1.07/2.3.00/09.0042 Vzdělávání výzkumných pracovníků v Regionálním centru pokročilých technologií a materiálů reg. č.: CZ.1.07/2.3.00/09.0042 Tento projekt je spolufinancován Evropským sociálním fondem a státním rozpočtem

Více

NANOSTRUKTURY NA BÁZI UHLÍKU A POLYMERU PRO VYUŽITÍ V BIOELEKTRONICE A V MEDICÍNE

NANOSTRUKTURY NA BÁZI UHLÍKU A POLYMERU PRO VYUŽITÍ V BIOELEKTRONICE A V MEDICÍNE Nanotechnologie pro společnost, KAN400480701 NANOSTRUKTURY NA BÁZI UHLÍKU A POLYMERU PRO VYUŽITÍ V BIOELEKTRONICE A V MEDICÍNE Řež, březen 2007 Graduates with B.S. in Chemical Engineering ( universal engineers

Více

Plazmová depozice tenkých vrstev oxidu zinečnatého

Plazmová depozice tenkých vrstev oxidu zinečnatého Plazmová depozice tenkých vrstev oxidu zinečnatého Bariérový pochodňový výboj za atmosférického tlaku Štěpán Kment Doc. Dr. Ing. Petr Klusoň Mgr. Zdeněk Hubička Ph.D. Obsah prezentace Úvod do problematiky

Více

Nanotechnologie a Nanomateriály na PřF UJEP Pavla Čapková

Nanotechnologie a Nanomateriály na PřF UJEP Pavla Čapková Přírodovědecká fakulta UJEP Ústí n.l. a Ústecké materiálové centrum na PřF UJEP http://sci.ujep.cz/faculty-of-science.html Nanotechnologie a Nanomateriály na PřF UJEP Pavla Čapková Kontakt: Doc. RNDr.

Více

Vytváření tenkých speciálních vrstev metodou plazmochemické depozice z plynné fáze

Vytváření tenkých speciálních vrstev metodou plazmochemické depozice z plynné fáze Vytváření tenkých speciálních vrstev metodou plazmochemické depozice z plynné fáze Teoretické základy: Plazmochemická depozice z plynné fáze metoda PECVD Rozvoj plazmochemických metod vytváření tenkých

Více

PRINCIPY ZAŘÍZENÍ PRO FYZIKÁLNÍ TECHNOLOGIE (FSI-TPZ-A)

PRINCIPY ZAŘÍZENÍ PRO FYZIKÁLNÍ TECHNOLOGIE (FSI-TPZ-A) PRINCIPY ZAŘÍZENÍ PRO FYZIKÁLNÍ TECHNOLOGIE (FSI-TPZ-A) GARANT PŘEDMĚTU: Prof. RNDr. Tomáš Šikola, CSc. (ÚFI) VYUČUJÍCÍ PŘEDMĚTU: Prof. RNDr. Tomáš Šikola, CSc., Ing. Stanislav Voborný, Ph.D. (ÚFI) JAZYK

Více

Metody depozice povlaků - CVD

Metody depozice povlaků - CVD Procesy CVD, PA CVD, PE CVD Chemická metoda depozice vrstev CVD využívá pro depozici směs chemicky reaktivních plynů (např. CH 4, C 2 H 2, apod.) zahřátou na poměrně vysokou teplotu 900 1100 C. Reakční

Více

Přehled metod depozice a povrchových

Přehled metod depozice a povrchových Kapitola 5 Přehled metod depozice a povrchových úprav Tabulka 5.1: První část přehledu technologií pro depozici tenkých vrstev. Klasifikované podle použitého procesu (napařování, MBE, máčení, CVD (chemical

Více

Uhlíkové struktury vázající ionty těžkých kovů

Uhlíkové struktury vázající ionty těžkých kovů Uhlíkové struktury vázající ionty těžkých kovů 7. června/june 2013 9:30 h 17:30 h Laboratoř metalomiky a nanotechnologií, Mendelova univerzita v Brně a Středoevropský technologický institut Budova D, Zemědělská

Více

Vakuové metody přípravy tenkých vrstev

Vakuové metody přípravy tenkých vrstev Vakuové metody přípravy tenkých vrstev Metody vytváření tenkých vrstev Vakuové metody dnes nejužívanější CVD Chemical Vapour Deposition (PE CVD Plasma Enhanced CVD nebo PA CVD Plasma Assisted CVD) PVD

Více

Iradiace tenké vrstvy ionty

Iradiace tenké vrstvy ionty Iradiace tenké vrstvy ionty Ve většině technologických aplikací dochází k depozici tenké vrstvy za nízké teploty > jsme v zóně I nebo T > vrstvá má sloupcovou strukturu, je porézní a hrubá. Ukazuje se,

Více

Plazmové metody Materiály a technologie přípravy M. Čada

Plazmové metody Materiály a technologie přípravy M. Čada Plazmové metody Existuje mnoho druhů výbojů v plynech. Ionizovaný plyn = elektrony + ionty + neutrály Depozice tenkých vrstev za pomocí plazmatu je jednou z nejpoužívanějších metod. Pomocí plazmatu lze

Více

Vybrané technologie povrchových úprav. Metody vytváření tenkých vrstev Doc. Ing. Karel Daďourek 2008

Vybrané technologie povrchových úprav. Metody vytváření tenkých vrstev Doc. Ing. Karel Daďourek 2008 Vybrané technologie povrchových úprav Metody vytváření tenkých vrstev Doc. Ing. Karel Daďourek 2008 Metody vytváření tenkých vrstev Vakuové metody dnes nejužívanější CVD Chemical vapour deposition PE CVD

Více

Využití plazmových metod ve strojírenství. Metody depozice povlaků a tenkých vrstev

Využití plazmových metod ve strojírenství. Metody depozice povlaků a tenkých vrstev Využití plazmových metod ve strojírenství Metody depozice povlaků a tenkých vrstev Metody depozice povlaků Využití plazmatu pro depozice (nanášení) povlaků a tenkých vrstev je moderní a stále častěji aplikovaná

Více

Základy obsluhy plazmatických reaktorů, seznámení s laboratorní technikou

Základy obsluhy plazmatických reaktorů, seznámení s laboratorní technikou Úloha č. 1 Základy obsluhy plazmatických reaktorů, seznámení s laboratorní technikou Úkoly měření: 1. Zopakujte si základní pojmy z oblasti fyziky plazmatu a plazmochemie. Využijte přednáškové texty a

Více

Tenké vrstvy pro lékařství 1. Laserové vrstvy ( metody přípravy vrstev, laser, princip metody pulzní laserové depozice PLD, růst vrstev, )

Tenké vrstvy pro lékařství 1. Laserové vrstvy ( metody přípravy vrstev, laser, princip metody pulzní laserové depozice PLD, růst vrstev, ) Tenké vrstvy pro lékařství 1. Laserové vrstvy ( metody přípravy vrstev, laser, princip metody pulzní laserové depozice PLD, růst vrstev, ) 2. Vybrané vrstvy a aplikace - gradientní vrstvy, nanokrystalické

Více

DOUTNAVÝ VÝBOJ. Další technologie využívající doutnavý výboj

DOUTNAVÝ VÝBOJ. Další technologie využívající doutnavý výboj DOUTNAVÝ VÝBOJ Další technologie využívající doutnavý výboj Plazma doutnavého výboje je využíváno v technologiích depozice povlaků nebo modifikace povrchů. Jedná se zejména o : - depozici povlaků magnetronovým

Více

NANOSTRUKTURY NA BÁZI UHLÍKU A POLYMERU PRO VYUŽITÍ V BIOELEKTRONICE A V MEDICÍNE

NANOSTRUKTURY NA BÁZI UHLÍKU A POLYMERU PRO VYUŽITÍ V BIOELEKTRONICE A V MEDICÍNE Nanotechnologie pro společnost, KAN400480701 NANOSTUKTUY NA BÁZI UHLÍKU A POLYMEU PO VYUŽITÍ V BIOELEKTONICE A V MEDICÍNE ÚJF Řež, leden 2009 Temata řešená v rámci projektu na VŠCHT A4 Nanostruktury vytvořené

Více

ODŮVODNĚNÍ VEŘEJNÉ ZAKÁZKY

ODŮVODNĚNÍ VEŘEJNÉ ZAKÁZKY ODŮVODNĚNÍ VEŘEJNÉ ZAKÁZKY s názvem PULSNÍ LASEROVÁ DEPOZICE CEITEC MU vyhotovené podle 156 zákona č. 137/2006 Sb., o veřejných zakázkách, v platném znění (dále jen Zákon o VZ) 1. ODŮVODNĚNÍ ÚČELNOSTI

Více

Experimentální laboratoře (beamlines) ve Středoevropské synchrotronové laboratoři (CESLAB)

Experimentální laboratoře (beamlines) ve Středoevropské synchrotronové laboratoři (CESLAB) www.synchrotron.cz www.ceslab.cz www.ceslab.eu Experimentální laboratoře (beamlines) ve Středoevropské synchrotronové laboratoři (CESLAB) Petr Mikulík Ústav fyziky kondenzovaných látek Masarykova univerzita

Více

Nabídkový list spolupráce 2014

Nabídkový list spolupráce 2014 Nabídkový list spolupráce 2014 Fyzikální ústav AV ČR v Praze Centrum pro inovace a transfer technologií www.citt.cz 2014 Kontaktní osoba prof. Jan Řídký, DrSc. e-mail: ridky@fzu.cz citt@fzu.cz tel: 266

Více

Nahlédnutí pod pokličku vývoje SHM: Magnetronové naprašování. Počítačová simulace procesu

Nahlédnutí pod pokličku vývoje SHM: Magnetronové naprašování. Počítačová simulace procesu Nahlédnutí pod pokličku vývoje SHM: Magnetronové naprašování Počítačová simulace procesu Magnetronové naprašování princip metody vývoj technologie Magnetronové naprašování princip metody Zdroj: Jan Valter,

Více

V001 Dokončení a kalibrace experimentálních zařízení v laboratoři urychlovače Tandetron

V001 Dokončení a kalibrace experimentálních zařízení v laboratoři urychlovače Tandetron V001 Dokončení a kalibrace experimentálních zařízení v laboratoři urychlovače Tandetron Údaje o provozu urychlovačů v ÚJF AV ČR ( hodiny 2009/hodiny 2008) Urychlovač Celkový počet hodin Analýzy Implantace

Více

VYSOKÉ UČENÍ TECHNICKÉ V BRNĚ Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií Ústav mikroelektroniky

VYSOKÉ UČENÍ TECHNICKÉ V BRNĚ Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií Ústav mikroelektroniky VYSOKÉ UČENÍ TECHNICKÉ V BRNĚ Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií Ústav mikroelektroniky Ing. Ondřej Hégr CHARAKTERIZACE NANOSTRUKTUR DEPONOVANÝCH VYSOKOFREKVENČNÍM MAGNETRONOVÝM NAPRAŠOVÁNÍM

Více

Adresa místa konání: Na Slovance 2, 182 21 Praha 8 Cukrovarnická 10, 162 53 Praha 6

Adresa místa konání: Na Slovance 2, 182 21 Praha 8 Cukrovarnická 10, 162 53 Praha 6 Dny otevřených dveří 2010 Název ústavu: Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. Adresa místa konání: Na Slovance 2, 182 21 Praha 8 Cukrovarnická 10, 162 53 Praha 6 Datum a doba otevření: 4. 11. 9 až 16 hod. pro

Více

REAKTIVNÍ MAGNETRONOVÉ NAPRAŠOV. Jan VALTER HVM Plasma s.r.o. www.hvm.cz

REAKTIVNÍ MAGNETRONOVÉ NAPRAŠOV. Jan VALTER HVM Plasma s.r.o. www.hvm.cz REAKTIVNÍ MAGNETRONOVÉ NAPRAŠOV OVÁNÍ Jan VALTER SCHEMA REAKTIVNÍHO NAPRAŠOV OVÁNÍ zdroj výboje katoda odprašovaný terč plasma inertní napouštění plynů reaktivní zdroj předpětí p o v l a k o v a n é s

Více

Oddělení fyziky vrstev a povrchů makromolekulárních struktur

Oddělení fyziky vrstev a povrchů makromolekulárních struktur Oddělení fyziky vrstev a povrchů makromolekulárních struktur Témata diplomových prací 2014/2015 Studium změn elektrické vodivosti emeraldinových solí vystavených pokojovým a mírně zvýšeným teplotám klíčová

Více

Využití plazmochemické redukce pro konzervaci archeologických nálezů

Využití plazmochemické redukce pro konzervaci archeologických nálezů Využití plazmochemické redukce pro konzervaci archeologických nálezů Zuzana Rašková Technické muzeum v Brně, Purkyňova 105, 612 00 Brno, raskova@technicalmuseum.cz 24.7.2006 1 Nječastější kovové sbírkové

Více

Plazma v technologiích

Plazma v technologiích Plazma v technologiích Mezi moderními strojírenskými technologiemi se stále častěji prosazují metody využívající různé formy plazmatu. Plazma je plynné prostředí skládající se z poměrně volných částic,

Více

Jiří Oswald. Fyzikální ústav AV ČR v.v.i.

Jiří Oswald. Fyzikální ústav AV ČR v.v.i. Jiří Oswald Fyzikální ústav AV ČR v.v.i. I. Úvod Polovodiče Zákládní pojmy Kvantově-rozměrový jev II. Luminiscence Si nanokrystalů III. Luminiscence polovodičových nanostruktur A III B V IV. Aplikace Pásová

Více

Zobrazování s využitím prostorového modulátoru světla

Zobrazování s využitím prostorového modulátoru světla Zobrazování s využitím prostorového modulátoru světla Technický seminář Centra digitální optiky vedoucí balíčku (PB4): prof. RNDr. Radim Chmelík, Ph.D. Řešitelské organizace: Pracovní balíček Zobrazování

Více

Co je litografie? - technologický proces sloužící pro vytváření jemných struktur (obzvláště mikrostruktur a nanostruktur)

Co je litografie? - technologický proces sloužící pro vytváření jemných struktur (obzvláště mikrostruktur a nanostruktur) Co je litografie? - technologický proces sloužící pro vytváření jemných struktur (obzvláště mikrostruktur a nanostruktur) -přenesení dané struktury na povrch strukturovaného substrátu Princip - interakce

Více

T E CH N I C K Á D O K U M E N T A C E

T E CH N I C K Á D O K U M E N T A C E Statutární město Ostrava městský obvod Slezská Ostrava úřad městského obvodu T E CH N I C K Á D O K U M E N T A C E Oprava volných bytů 34A, 36A, 38A, 10C a 19C v domě Hladnovská 757/119a, Ostrava- Muglinov

Více

PROJEKT CENTRUM PRO INOVACE V OBORU

PROJEKT CENTRUM PRO INOVACE V OBORU PROJEKT CENTRUM PRO INOVACE V OBORU NANOMATERIÁLŮ A NANOTECHNOLOGIÍ CESTA KE ZVÝŠENÍ KVALITY VZDĚLÁVÁNÍ VYSOKOŠKOLSKÝCH A POSTGRADUÁLNÍCH STUDENTŮ Ústav fyzikální chemie J. Heyrovského AV ČR, v.v.i. Ing.

Více

Depozice uhlíkových nanotrubek metodou PECVD a jejich analýza

Depozice uhlíkových nanotrubek metodou PECVD a jejich analýza Depozice uhlíkových nanotrubek metodou PECVD a jejich analýza Jiřina Matějková UPT Brno AV ČR Ondřej Jašek- KFE Přírodovědecká fakulta MU Brno, jasek@physics.muni.cz Marek Eliáš, Lenka Zajíčková, Vít Kudrle,

Více

DODATEČNÉ INFORMACE Č. 2

DODATEČNÉ INFORMACE Č. 2 DODATEČNÉ INFORMACE Č. 2 V Praze dne 21. března 2014 k veřejné zakázce malého rozsahu na dodávky s názvem: Dodávka a montáž laboratorního nábytku a vybavení k akci Rekonstrukce laboratoře pro organickou

Více

Pavel Matějka

Pavel Matějka Pavel Matějka Pavel.Matejka@vscht.cz Pavel.Matejka@gmail.com www.vscht.cz/anl/matejka Strukturní a povrchová analýza Analýza struktury (pevných látek) a analýza povrchu, resp. fázového rozhraní pevných

Více

Tenká vrstva - aplikace

Tenká vrstva - aplikace Poznámka: tyto materiály slouží pouze pro opakování STT žáků SPŠ Na Třebešíně, Praha 10; s platností do r. 2016 v návaznosti na platnost norem. Zákaz šíření a modifikace těchto materiálů. Děkuji Ing. D.

Více

Typy interakcí. Obsah přednášky

Typy interakcí. Obsah přednášky Co je to inteligentní a progresivní materiál - Jaderné analytické metody-využití iontových svazků v materiálové analýze Anna Macková Ústav jaderné fyziky AV ČR, Řež 250 68 Obsah přednášky fyzikální princip

Více

Využití fotonických služeb e-infrastruktury pro přenos ultrastabilních optických frekvencí

Využití fotonických služeb e-infrastruktury pro přenos ultrastabilních optických frekvencí Využití fotonických služeb e-infrastruktury pro přenos ultrastabilních optických frekvencí Ondřej Číp, Martin Čížek, Lenka Pravdová, Jan Hrabina, Václav Hucl a Šimon Řeřucha (ÚPT AV ČR) Josef Vojtěch a

Více

Metody charakterizace

Metody charakterizace Metody y strukturní analýzy Metody charakterizace nanomateriálů I Význam strukturní analýzy pro studium vlastností materiálů Experimentáln lní metody využívan vané v materiálov lovém m inženýrstv enýrství:

Více

Laserové technologie

Laserové technologie OTEVŘENÁ SÍŤ PARTNERSTVÍ NA BÁZI APLIKOVANÉ FYZIKY CZ.1.07/2.4.00/17.0014 Laserové technologie Hana Chmelíčková Společná laboratoř optiky UP a FZÚ AVČR, 17. listopadu 50a, 772 07 OLOMOUC, ČR Laboratoř

Více

INTERAKCE IONTŮ S POVRCHY II.

INTERAKCE IONTŮ S POVRCHY II. Úvod do fyziky tenkých vrstev a povrchů INTERAKCE IONTŮ S POVRCHY II. Metody IBA (Ion Beam Analysis): pružný rozptyl nabitých částic (RBS), detekce odražených atomů (ERDA), metoda PIXE, Spektroskopie rozptýlených

Více

Materiálový výzkum na ústavu anorganické chemie. Ondřej Jankovský

Materiálový výzkum na ústavu anorganické chemie. Ondřej Jankovský Materiálový výzkum na ústavu anorganické chemie Ondřej Jankovský ÚSTAV ANORGANICKÉ CHEMIE Koordinační chemie Materiály pro fotoniku Oxidové materiály Polovodiče a nanomateriály Teoretická chemie Vedoucí

Více

DIG. Digestoř laboratorní. 1200/1500/1800/2100 x 930 x 2500 mm. Rozměry: šířka x hloubka x výška. Popis: DKN

DIG. Digestoř laboratorní. 1200/1500/1800/2100 x 930 x 2500 mm. Rozměry: šířka x hloubka x výška. Popis: DKN Název standardu Digestoř laboratorní Číslo standardu DIG Rozměry: šířka x hloubka x výška 1200/1500/1800/2100 x 930 x 2500 mm Popis: DKN Vnitřní rozměry pracovního prostoru: šířka 1070/1370/1670/1970,

Více

Plynové lasery pro průmyslové využití

Plynové lasery pro průmyslové využití Laserové technologie v praxi I. Přednáška č.3 Plynové lasery pro průmyslové využití Hana Chmelíčková, SLO UP a FZÚ AVČR Olomouc, 2011 Využití plynových laserů v průmyslových aplikacích Atomární - He-Ne

Více

Fotonické sítě jako médium pro distribuci stabilních signálů z optických normálů frekvence a času

Fotonické sítě jako médium pro distribuci stabilních signálů z optických normálů frekvence a času Fotonické sítě jako médium pro distribuci stabilních signálů z optických normálů frekvence a času Ondřej Číp, Šimon Řeřucha, Radek Šmíd, Martin Čížek, Břetislav Mikel (ÚPT AV ČR) Josef Vojtěch a Vladimír

Více

FYZIKA VE FIRMĚ HVM PLASMA

FYZIKA VE FIRMĚ HVM PLASMA FYZIKA VE FIRMĚ HVM PLASMA Jiří Vyskočil HVM Plasma spol.s r.o. Na Hutmance 2, 158 00 Praha 5 OBSAH HVM PLASMA spol. s r.o. zaměření a historie firmy hlavní činnost a produkty POVRCHOVÉ TECHNOLOGIE metody

Více

: REVITALIZACE PROSTOR ÚSTAVU 423, OBJ.B AREÁL MENDELU, ZEMĚDĚLSKÁ 1, BRNO 613 00

: REVITALIZACE PROSTOR ÚSTAVU 423, OBJ.B AREÁL MENDELU, ZEMĚDĚLSKÁ 1, BRNO 613 00 STAVBA : REVITALIZACE PROSTOR ÚSTAVU 423, OBJ.B AREÁL MENDELU, ZEMĚDĚLSKÁ 1, BRNO 613 00 D.1.4 SILNOPROUDÁ ELEKTROTECHNIKA 1. TECHNICKÁ ZPRÁVA Místo stavby: Zemědělská 1, Brno 613 00 Investor: Mendelova

Více

Měření a automatizace

Měření a automatizace Měření a automatizace Číslicové měřící přístroje - princip činnosti - metody převodu napětí na číslo - chyby číslicových měřících přístrojů Základní pojmy v automatizaci - řízení, ovládání, regulace -

Více

V rámci rekonstrukce bytového jádra nedojde ke změně dispozičního řešení bytové jednotky a nebude zasahováno do nosných konstrukcí objektu.

V rámci rekonstrukce bytového jádra nedojde ke změně dispozičního řešení bytové jednotky a nebude zasahováno do nosných konstrukcí objektu. PRŮVODNÍ A SOURNNÁ TECHNICKÁ ZPRÁVA IDENTIFIKAČNÍ ÚDAJE: Název akce: rekonstrukce bytového jádra Adresa stavby: Machkova 1644, Praha 4 Opatov, 7.np, byt č.52 Stavebník: KrIstýna Šneidarová 1.1.ÚVOD Obsahem

Více

TENKOVRSTVÁ TECHNOLOGIE HYDROGENOVANÉHO KŘEMÍKU PRO FOTOVOLTAICKÉ APLIKACE. oddělení tenkých vrstev F Y Z I K Á L N Í Ú S T A V A V Č R P R A H A

TENKOVRSTVÁ TECHNOLOGIE HYDROGENOVANÉHO KŘEMÍKU PRO FOTOVOLTAICKÉ APLIKACE. oddělení tenkých vrstev F Y Z I K Á L N Í Ú S T A V A V Č R P R A H A TENKOVRSTVÁ TECHNOLOGIE HYDROGENOVANÉHO KŘEMÍKU PRO FOTOVOLTAICKÉ APLIKACE J I Ř Í S T U C H L Í K oddělení tenkých vrstev F Y Z I K Á L N Í Ú S T A V A V Č R P R A H A Oddělení tenkých vrstev FZÚ O B

Více

1. Řešitelský kolektiv: VŠCHT Praha: Prof. Dr. Ing. Josef Krýsa Ing. Jiří Zita, PhD Ing. Martin Zlámal

1. Řešitelský kolektiv: VŠCHT Praha: Prof. Dr. Ing. Josef Krýsa Ing. Jiří Zita, PhD Ing. Martin Zlámal Příloha - Závěrečná zpráva - Centralizovaný projekt č. C40: Laboratoř pro přípravu a testování samočisticích vlastností tenkých nanočásticových vrstev Program na podporu vzájemné spolupráce vysokých škol

Více

Instalace. Instalace

Instalace. Instalace Instalace Instalace Zplynovací kotle na dřevo ATMOS musí být zapojeny s LADDOMATEM 22 nebo termoregulačním ventilem pro docílení minimální teploty vratné vody do kotle 65 C. Výstupní teplota kotle musí

Více

Zápis z 38. jednání Rady ÚJF AV ČR, v. v. i. dne

Zápis z 38. jednání Rady ÚJF AV ČR, v. v. i. dne Zápis z 38. jednání Rady ÚJF AV ČR, v. v. i. dne 21.3.2013 Přítomni: M. Davídková, J. Dittrich, J. Dobeš, J. Kučera, J. Kvasil, O. Lebeda, P. Lukáš, J. Mareš, V. Wagner Omluveni: J. Chýla, S. Pospíšil,

Více

TECHNICKÁ DATA. montáž: 4-6 hodin demontáž: 3-5 hodiny obsazení: 2-4 osoby

TECHNICKÁ DATA. montáž: 4-6 hodin demontáž: 3-5 hodiny obsazení: 2-4 osoby AH 001 HOSPITALITY TECHNICKÁ DATA montáž: 4-6 hodin demontáž: 3-5 hodiny obsazení: 2-4 osoby Rozměry systému výška 4,10 m, délka 15,5 m, šířka 6 m terasa dle přání - maximálně 20 m x 10 m Připojení k sítím

Více

D.1.4.7 Zařízení silnoproudé a slaboproudé elektrotechniky. Měřítko: Formát: P. kopií: Č. kopie: Archivní číslo: Revize:

D.1.4.7 Zařízení silnoproudé a slaboproudé elektrotechniky. Měřítko: Formát: P. kopií: Č. kopie: Archivní číslo: Revize: Navrhl Kontroloval Schválil Datum Status Předmět revize R. Paier R. Paier M. Semanský 12 / 214 Dokumentace pro vydání společného ÚR a SP Stavba Laboratoř HFPJ - RF Místo stavby Na Slovance 1999/2, 182

Více

Návod pro Laboratoř oboru Výroba léčiv

Návod pro Laboratoř oboru Výroba léčiv Návod pro Laboratoř oboru Výroba léčiv Studium biomateriálů laserovou rastrovací mikroskopií (SBLRM) Vedoucí práce: doc. Ing. Jakub Siegel, Ph.D. 09/2014 Úkoly: 1. Prostudujte základní informace o přístrojích

Více

13. Spektroskopie základní pojmy

13. Spektroskopie základní pojmy základní pojmy Spektroskopicky významné OPTICKÉ JEVY absorpce absorpční spektrometrie emise emisní spektrometrie rozptyl rozptylové metody Evropský sociální fond Praha & EU: Investujeme do vaší budoucnosti

Více

Základní charakteristika výzkumné činnosti Ústavu fyzikální chemie

Základní charakteristika výzkumné činnosti Ústavu fyzikální chemie Základní charakteristika výzkumné činnosti Ústavu fyzikální chemie Základním předmětem výzkumu prováděného ústavem je chemická termodynamika a její aplikace pro popis vybraných vlastností chemických systémů

Více

Vysoké frekvence a mikrovlny

Vysoké frekvence a mikrovlny Vysoké frekvence a mikrovlny Osnova Úvod Maxwellovy rovnice Typy mikrovlnného vedení Použití ve fyzice plazmatu Úvod Mikrovlny jsou elektromagnetické vlny o vlnové délce větší než 1mm a menší než 1m, což

Více

STAVEBNÍ ÚPRAVA OBJEKTU S PRODEJNOU POTRAVIN, parc. č ŽADATEL: OÚ Voznice Voznice Dobříš ZPRACOVATEL DOKUMENTACE :

STAVEBNÍ ÚPRAVA OBJEKTU S PRODEJNOU POTRAVIN, parc. č ŽADATEL: OÚ Voznice Voznice Dobříš ZPRACOVATEL DOKUMENTACE : ŽADATEL: OÚ Voznice Voznice 7 ZPRACOVATEL DOKUMENTACE : Ing. Ondřej Červenka Voznice 64 STAVEBNÍ ÚPRAVA OBJEKTU S PRODEJNOU POTRAVIN, parc. č. 1043 DOKUMENTACE DLE PŘÍL. 1 VYHL. 499/2006 Sb. D.1.4.b VYTÁPĚNÍ

Více

V Rmax 3500 V T = 125 o C I. no protons

V Rmax 3500 V T = 125 o C I. no protons Příprava, modifikace a charakterizace materiálů energetickým zářením ČVUT Praha, fakulta elektrotechnická, Praha 6 Řešitelský tým katedra mikroelektroniky FEL, ČVUT v Praze Jan Vobecký garant, člen Rady

Více

Modulace a šum signálu

Modulace a šum signálu Modulace a šum signálu PATRIK KANIA a ŠTĚPÁN URBAN Nejlepší laboratoř molekulové spektroskopie vysokého rozlišení Ústav analytické chemie, VŠCHT Praha kaniap@vscht.cz a urbans@vscht.cz http://www.vscht.cz/anl/lmsvr

Více

Návrh stínění a témata k řešení

Návrh stínění a témata k řešení Výzkumné laserové centrum ELI Beamlines Návrh stínění a témata k řešení Veronika Olšovcová, Mike Griffiths, Richard Haley, Lewis McFarlene, Bedřich Rus a ELI team Plánované pilíře ELI Site to be determined

Více

Adresa místa konání: Na Slovance 2, Praha 8 Cukrovarnická 10, Praha 6

Adresa místa konání: Na Slovance 2, Praha 8 Cukrovarnická 10, Praha 6 Dny otevřených dveří 2009 Název ústavu: Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. Adresa místa konání: Na Slovance 2, 182 21 Praha 8 Cukrovarnická 10, 162 53 Praha 6 Datum a doba otevření: 5. 11. 9 až 16 hod. pro

Více

Elektronová Mikroskopie SEM

Elektronová Mikroskopie SEM Elektronová Mikroskopie SEM 26. listopadu 2012 Historie elektronové mikroskopie První TEM Ernst Ruska (1931) Nobelova cena za fyziku 1986 Historie elektronové mikroskopie První SEM Manfred von Ardenne

Více

Sledování procesu kompostování metodou EIS Projekt - Nová technologie kompostování, projekt č. CZ /0.0/0.0/15_019/004646

Sledování procesu kompostování metodou EIS Projekt - Nová technologie kompostování, projekt č. CZ /0.0/0.0/15_019/004646 Sledování procesu kompostování metodou EIS Projekt - Nová technologie kompostování, projekt č. CZ.01.1.02/0.0/0.0/15_019/004646 Za tým řešitelů doc. Ing. Jana Pařílková, CSc. 2 Kompostování Kompostování

Více

Výzkum slitin titanu - od letadel po implantáty

Výzkum slitin titanu - od letadel po implantáty Výzkum slitin titanu - od letadel po implantáty josef.strasky@gmail.com Titan Saturn a TITAN sonda Pioneer, 26. srpen 1976 Titan Titan Titan Unikátní vlastnosti titanu + nejvyšší poměr mezi pevností a

Více

Studentská 1402/2 461 17 Liberec 1 tel.: +420 485 353 006 cxi.tul.cz. Technologická zařízení

Studentská 1402/2 461 17 Liberec 1 tel.: +420 485 353 006 cxi.tul.cz. Technologická zařízení Technologická zařízení Oddělení prototypových technologií a procesů 3D tiskárna Objet Connex 500 Systém od firmy Objet je určen pro výrobu rozměrných a přesných modelů. Maximální rozměry modelů: 490 x

Více

Základní typy článků:

Základní typy článků: Základní typy článků: Články z krystalického Si c on ta c t a ntire fle c tio n c o a tin g Tenkovrstvé články N -ty p e P -ty p e Materiály a technologie pro fotovoltaické články Nové materiály Gratzel,

Více

Nanokrystalické tenké filmy oxidu železitého pro solární štěpení vody

Nanokrystalické tenké filmy oxidu železitého pro solární štěpení vody Nanokrystalické tenké filmy oxidu železitého pro solární štěpení vody J. Frydrych, L. Machala, M. Mašláň, J. Pechoušek, M. Heřmánek, I. Medřík, R. Procházka, D. Jančík, R. Zbořil, J. Tuček, J. Filip a

Více

Zdroje optického záření

Zdroje optického záření Metody optické spektroskopie v biofyzice Zdroje optického záření / 1 Zdroje optického záření tepelné výbojky polovodičové lasery synchrotronové záření Obvykle se charakterizují zářivostí (zářivý výkon

Více

Univerzita Tomáše Bati ve Zlíně Fakulta technologická. Ing. Ondřej Hudeček Ing. Tomáš Sedláček, PhD.

Univerzita Tomáše Bati ve Zlíně Fakulta technologická. Ing. Ondřej Hudeček Ing. Tomáš Sedláček, PhD. Univerzita Tomáše Bati ve Zlíně Fakulta technologická Ing. Ondřej Hudeček Ing. Tomáš Sedláček, PhD. 1 Obsah Úvod do problematiky Dostupná technologická zařízení Pracující v podtlaku Pracující při atmosférických

Více

CENTRUM PRO INOVACE V OBORU

CENTRUM PRO INOVACE V OBORU CENTRUM PRO INOVACE V OBORU NANOMATERIÁLŮ A NANOTECHNOLOGIÍ Ústav fyzikální chemie J. Heyrovského AV ČR, v.v.i. Projekt Centrum pro inovace v oboru nanomateriálů a nanotechnologií s číslem CZ 2.16/3.1.00/21089

Více

Laboratoř pro přípravu a charakterizaci polovodičových struktur na bázi nitridů LABONIT, registrační číslo projektu CZ.2.16/3.1.

Laboratoř pro přípravu a charakterizaci polovodičových struktur na bázi nitridů LABONIT, registrační číslo projektu CZ.2.16/3.1. ODŮVODNĚNÍ VEŘEJNÉ ZAKÁZKY v souladu s 156 odst. 1 zákona č. 137/2006 Sb., o veřejných zakázkách, ve znění pozdějších předpisů (dále jen zákon ), a vyhlášky č. 232/2012 Sb. (dále jen vyhláška ) Název veřejné

Více

Lasery v mikroelektrotechnice. Soviš Jan Aplikovaná fyzika

Lasery v mikroelektrotechnice. Soviš Jan Aplikovaná fyzika Lasery v mikroelektrotechnice Soviš Jan Aplikovaná fyzika Obsah Úvod Laserové: žíhání rýhování (orýsování) dolaďování depozice tenkých vrstev dopování příměsí Úvod Vysoká hustota výkonu laseru změna struktury

Více

Centrum výzkumu a využití obnovitelných zdrojů energie (CVVOZE) Regionální výzkumné centrum

Centrum výzkumu a využití obnovitelných zdrojů energie (CVVOZE) Regionální výzkumné centrum Centrum výzkumu a využití obnovitelných zdrojů energie (CVVOZE) Regionální výzkumné centrum CVVOZE - cíl Vytvořit nové a zdokonalit stávající podmínky pro špičkový základní a hlavně aplikovaný výzkum v

Více

SPOLUPRÁCE WESTINGHOUSE S ČVUT A FZÚ AV ČR

SPOLUPRÁCE WESTINGHOUSE S ČVUT A FZÚ AV ČR SPOLUPRÁCE WESTINGHOUSE S ČVUT A FZÚ AV ČR NA PROJEKTU OCHRANY POVRCHU ZIRKONIOVÝCH SLITIN KOMPOZITNÍMI POLYKRYSTALICKÝMI DIAMANTOVÝMI POVLAKY (2014 2016) Michal Šimoník Customer Account Engineer Květen

Více

T-BOX OBLAST INSTALACE. TABULKA PRO VÝBĚR CENTRÁLNÍ JEDNOTKY T-Box PŘÍNOSY A VLASTNOSTI OBYTNÉ PROSTORY. IP stupeň ochrany

T-BOX OBLAST INSTALACE. TABULKA PRO VÝBĚR CENTRÁLNÍ JEDNOTKY T-Box PŘÍNOSY A VLASTNOSTI OBYTNÉ PROSTORY. IP stupeň ochrany OBYTNÉ PROSTORY T-BOX Centrální jednotka T-Box byla konstruována pro byty v patrových budovách a pro všechny situace, kde je kladen důraz na estetiku instalace. Z tohoto důvodu jsou všechna přípojení,

Více

2 ano 2432 1340 1180 670 280 330 900. 2 ne 2432 1340 1180 670 280 320 600. 4 ano 3030 1940 1780 970 280 395 1000. 4 ne 3030 1940 1780 970 280 380 660

2 ano 2432 1340 1180 670 280 330 900. 2 ne 2432 1340 1180 670 280 320 600. 4 ano 3030 1940 1780 970 280 395 1000. 4 ne 3030 1940 1780 970 280 380 660 Izolátory ŘADA CDC F Komplexnost v čistém vzduchu Pevné podtlakové izolátory s EC GMP třída A laminárním prouděním vzduchu, ergonomicky navržené pro bezpečnou aseptickou manipulaci s cytotoxiky a jinými

Více

METODY CHARAKTERIZACE POLOVODIVÝCH TERMOELEKTRICKÝCH MATERIÁLŮ

METODY CHARAKTERIZACE POLOVODIVÝCH TERMOELEKTRICKÝCH MATERIÁLŮ METODY CHARAKTERIZACE POLOVODIVÝCH TERMOELEKTRICKÝCH MATERIÁLŮ J. KAŠPAROVÁ, Č. DRAŠAR Fakulta chemicko - technologická, Univerzita Pardubice, Studentská 573, 532 10 Pardubice, CZ, e-mail:jana.kasparova@upce.cz

Více

Tenké vrstvy GaN dopované přechodnými kovy

Tenké vrstvy GaN dopované přechodnými kovy Tenké vrstvy GaN dopované přechodnými kovy ZDENĚK SOFER 1) JAN LUXA 1) DANIEL BOUŠA 1) VLASTIMIL MAZÁNEK 1) MIROSLAV MARYŠKO 2) DAVID SEDMIDUBSKY 1) 1) Ústav anorganické chemie, VŠCHT Praha, Technická

Více

Techniky prvkové povrchové analýzy elemental analysis

Techniky prvkové povrchové analýzy elemental analysis Techniky prvkové povrchové analýzy elemental analysis (Foto)elektronová spektroskopie (pro chemickou analýzu) ESCA, XPS X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) Any technique in which the sample is bombarded

Více

Diamantu podobné uhlíkové vrstvy pro pokrytí kloubních náhrad

Diamantu podobné uhlíkové vrstvy pro pokrytí kloubních náhrad České vysoké učení technické v Praze Fakulta biomedicínského inženýrství Diamantu podobné uhlíkové vrstvy pro pokrytí kloubních náhrad Ing. Petr Písařík petr.pisarik@fbmi.cvut.cz Kladno Listopad 2010 Cíl

Více

Centrum urychlovačů a jaderných analytických metod (CANAM)

Centrum urychlovačů a jaderných analytických metod (CANAM) Separát z publikace Aplikační laboratoře Akademie věd České republiky, vydala AV ČR, 2018 Centrum urychlovačů a jaderných analytických metod (CANAM) Posláním velké infrastruktury CANAM je využití svazků

Více

OTEVÍRÁME CENTRUM PRO INOVACE V OBORU

OTEVÍRÁME CENTRUM PRO INOVACE V OBORU OTEVÍRÁME CENTRUM PRO INOVACE V OBORU NANOMATERIÁLŮ A NANOTECHNOLOGIÍ Ústav fyzikální chemie J. Heyrovského AV ČR, v.v.i. Projekt Centrum pro inovace v oboru nanomateriálů a nanotechnologií s číslem CZ

Více

Seznam řešených projektů včetně informací o délce trvání projektu, objemu a poskytovateli finančních prostředků

Seznam řešených projektů včetně informací o délce trvání projektu, objemu a poskytovateli finančních prostředků Seznam řešených projektů včetně informací o délce trvání projektu, objemu a poskytovateli finančních prostředků Podíl na řešení celkem: 52 grantových projektů V roli hlavního e/e za UP/spoluautora návrhu

Více

Dílčí cíle projektu a jejich plnění v roce 2006 (ÚJF AV ČR - laboratoř Tandetronu)

Dílčí cíle projektu a jejich plnění v roce 2006 (ÚJF AV ČR - laboratoř Tandetronu) Dílčí cíle projektu a jejich plnění v roce 2006 (ÚJF AV ČR - laboratoř Tandetronu) V001 Dokončení a kalibrace experimentálních zařízení v laboratoři urychlovače Tandetron 2006 dokončení instalace implantační

Více

Blue-light LED, modrá

Blue-light LED, modrá Blue-light LED, modrá je dobrá Jan Soubusta Společná laboratoř optiky UP a FZÚ AVČR Obsah přednášky Nobelova cena Laureáti za fyziku 2014 Historický přehled Co je to LED? Výhody LED? Nobelova cena za fyziku

Více

ZADAVATEL: Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. Sídlem: Na Slovance 2, Praha 8 doc. Jan Řídký, DrSc., ředitel IČ:

ZADAVATEL: Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. Sídlem: Na Slovance 2, Praha 8 doc. Jan Řídký, DrSc., ředitel IČ: ZADAVATEL: Fyzikální ústav AV ČR, v. v. i. Sídlem: Na Slovance 2, 182 21 Praha 8 Jednající: doc. Jan Řídký, DrSc., ředitel IČ: 68378271 VEŘEJNÁ ZAKÁZKA: Multifunkční fotoelektronový spektrometr s rychlým

Více

Obecný popis rodinného domu EDC

Obecný popis rodinného domu EDC Obecný popis rodinného domu EDC Popis domu KLASIK EKONOMY HOLODUM Projektová dokumentace pro st.povolení/realizační Projektová dokumnetace skutečného provedení Vyřízení stavebního povolení/ohlášení stavby

Více

Nové NIKON centrum excelence pro super-rezoluční mikroskopii v Ústavu molekulární genetiky Akademie věd ČR

Nové NIKON centrum excelence pro super-rezoluční mikroskopii v Ústavu molekulární genetiky Akademie věd ČR Nové NIKON centrum excelence pro super-rezoluční mikroskopii v Ústavu molekulární genetiky Akademie věd ČR Společnost NIKON ve spolupráci s Ústavem molekulární genetiky AV ČR zahájila v úterý 21. ledna

Více

TECHNOLOGICKÉ PROCESY PŘI VÝROBĚ POLOVODIČOVÝCH PRVKŮ III.

TECHNOLOGICKÉ PROCESY PŘI VÝROBĚ POLOVODIČOVÝCH PRVKŮ III. TECHNOLOGICKÉ PROCESY PŘI VÝROBĚ POLOVODIČOVÝCH PRVKŮ III. NANÁŠENÍ VRSTEV V mikroelektronice se nanáší tzv. tlusté a tenké vrstvy. a) Tlusté vrstvy: Používají se v hybridních integrovaných obvodech. Nanáší

Více

ZÁPADOČESKÁ UNIVERZITA V PLZNI FAKULTA ELEKTROTECHNICKÁ

ZÁPADOČESKÁ UNIVERZITA V PLZNI FAKULTA ELEKTROTECHNICKÁ ZÁPADOČESKÁ UNIVERZITA V PLZNI FAKULTA ELEKTROTECHNICKÁ Katedra technologií a měření DIPLOMOVÁ PRÁCE Optické vlastnosti dielektrických tenkých vrstev Bc. Martin Malán 214 Abstrakt Předkládaná diplomová

Více