NÍZKOTEPLOTNÍ PLAZMOVÁ DEPOZICE TENKÝCH VRSTEV
|
|
- Jaroslava Bednářová
- před 5 lety
- Počet zobrazení:
Transkript
1 NÍZKOTEPLOTNÍ PLAZMOVÁ DEPOZICE TENKÝCH VRSTEV Zdeněk Hubička Fyzikální ústav AV ČR v.v.i. Praha 1 Úvod Dosud bylo vynaloženo mnoho úsilí na vývoj nízkoteplotních plazmových systémů vhodných pro nanášení tenkých vrstev či vícevrstvých struktur. Pro tento účel se používají dva základní přístupy, které využívají nízkoteplotní plazma. První postup zvaný PVD (Physical Vapor Deposition) uplatňuje jako zdroje atomů nebo molekul pro depoziční proces pevný terč. Terč je na atomy nebo molekuly rozkládán fyzikální interakcí s plazmatem a to převážně iontovým bombardováním. Mezi dnes nejpoužívanější a nejrozšířenější nástroje pro PVD depozici tenkých vrstev patří systémy s planárním magnetronovým terčem [1,2]. Pro buzení výboje se používá stejnosměrného buzení plazmatu nebo vysokofrekvenčního na frekvenci MHz [3]. V současné době je často využíváno pulzní buzení plazmových PVD systémů [4-7]. Druhý postup zvaný PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) používá jako zdroj částic pro depoziční proces fragmenty získané rozkladem vhodných chemických prekurzorů. Chemické prekurzory jsou přiváděny většinou ve formě par bjenebo plynu do omu plazmatu, kde jsou rozloženy jeho působením (homogenní reakce). Dále na povrchu substrátu (heterogenní reakce) se z těchto fragmentů vytvoří pevná fáze vrstvy. Pro PECVD depozici vrstev dosud bylo vytvořeno mnoho variant reaktorů. Nyní se často pro tyto účely využívá plazma buzené na vysokých frekvencích buď kapacitní nebo induktivní vazbou [3,8, 9]. Tyto systémy většinou používají frekvence MHz, MHz, ale používají se i vyšší mezi 30 MHz a 300 MHz. Dále se používá mikrovlnné buzení pracující v pásmu frekvencí 915 a 2450 MHz. 2 Nízkoteplotní plazma Nízkoteplotní plazma jako přibližně kvazineutrální směs elektronů, iontů a neutrálních částic, které se používá pro PVD a PECVD depozici tenkých vrstev, je v silné termodynamické nerovnováze. Pro plazmochemické procesy je rozhodující elektronová distribuční funkce elektronů, protože na ní závisí procesy excitace, ionizace, disociace atd. Díky termodynamické nerovnováze často není možné elektronovou distribuční funkci považovat za Maxwellovskou a nelze tak elektronový plyn charakterizovat elektronovou teplotou Te vyplývající z Maxwellovského rozdělení. Pro popis plazmocheckých procesů je potom nutné stanovit celý průběh elektronové distribuční funkce fd(e). Pokud fd(e) známe, můžeme určit střední kinetickou energii <E> elektronů integrací podle vztahu: (1) E = fd ( E) EdE kde pro fd(e) platí normovací podmínka: (2) 1 = f D ( E) de Zavádí se pak někdy pojem efektivní teploty elektronů podle vztahu: (3) 2 E T eff = 3 k kde E kinetická energie elektronů a k je Boltzmanova konstanta. Pro zobrazení charakteru distribuční funkce elektronů se používá často funkce EEPF fp(e). Vztah mezi funkcí fd(e) a fp(e) je: 1 2 (4) f ( E) = E f ( E) P Ačkoliv je v plazmatu silná termodynamická nerovnováha může být někdy distribuční funkce elektronů Maxwellovská což je ovlivněno kinetikou srážkových procesů v plazmatu [3]. Pro Maxwellovskou fp(e) potom platí: 2 (5) 2 e f ( E) = ( kt) e P π V tomto případě je log fp(e) lineární funkce energie. e Příklady funkce fp(e) určené experimentálně pomocí Langmuirovské sondy v různých typech plazmatu [10] jsou na obr. 1. Je vidět, že distribuční funkce je Maxwellovská v případě b).v ostatních případech a),d),e) tomu tak není. Počáteční odchylka od přímky v případě b) je dána chybou měření v oblasti velmi nízkých energií elektronů, kde je přesnost měřící metody Langmuirovskou sondou velmi malá. Pro typické nízkoteplotní plazma používané pro depozice vrstev je efektivní elektronová teplota v intervalu Teff K, teplota iontů a neutrálů Ti,n K. Elektronová a iontová koncentrace je typicky v rozsahu ne,i cm -3. Rozsah tlaků pracovních plynů může být v širokém intervalu p Pa. 3 D E kt Škola růstu krystalů
2 Obr. 1. Příklady experimentálně určené EEPF fp(e) pro různé druhy plazmatu [10]. 3 Depozice tenkých vrstev metodami PVD Nejrozšířenější metodou PVD depozice tenkých vrstev jsou různé druhy nízkotlakého magnetronového naprašování [1,2]. Schématické uspořádání základní verze stejnosměrného planárního magnetronu je na obr. 2. Systém je umístěn ve vakuu a je kontinuálně čerpán. Jako pracovní plyn se většinou používá argon, případně navíc nějaký další reaktivní plyn. V případě připojení stejnosměrného zdroje na katodu je v prostoru mezi katodou a anodou zapálen stejnosměrný doutnavý výboj za přítomnosti magnetického pole kruhové symetrie (obr.2). Elektrony rotují kolem magnetických siločar, čímž se prodlužuje jejich dráha. Z tohoto důvodu je stupeň ionizace plazmatu před terčem vysoký a magnetron lze provozovat i za velmi nízkých tlaků pracovního plynu p 0.1 Pa. Díky kruhové symetrii magnetického pole jsou směry ExB driftu nabitých částic uzavřené kružnice (obr. 2) a tak je zásadně eliminován únik nabitých částic z prostoru výboje. Argonové ionty jsou urychlovány katodovým spádem a díky tomuto bombardování terč rozprašují. Z výše uvedených důvodů je rozprašovací rychlost atomů z terče vysoká. Obr. 2. Schematické uspořádání stejnosměrného magnetronového naprašovacího systému. Magnetron je možné budit místo stejnosměrným zdrojem též vysokofrekvenčním (RF) zdrojem, obr. 3. V tomto případě se jedná o vysokofrekvenční (RF) kapacitní výboj s přítomností magnetického pole, kdy 28 Škola růstu krystalů 2008
3 jedna elektroda je rozprašovaný terč a druhá elektroda je uzemněný reaktor. Stejnosměrný spád napětí v hodnotě UDC V se vytvoří na vrstvě prostorového náboje u povrchu terče díky rozdílu velikosti ploch obou elektrod [3]. Potenciál terče je vůči potenciálu plazmatu vždy záporný. Stejnosměrné napětí UDC urychluje ionty dopadající na terč, což stejnosměrném magnetronu. Velkou výhodou vysokofrekvenčního magnetronu je možnost použití dielektrického terče. Vysokofrekvenční výkon je pak navázán do plazmatu přes kapacitu terče. Obvykle se používají vysokofrekvenční (RF) zdroje s frekvencí MHz. umožní jeho rozprašování podobně jako ve Obr. 3. Schematické uspořádání stejnosměrného RF magnetronového naprašovacího systému. Obr. 4. Schematické uspořádání DC pulzního magnetronového naprašovacího systému. Škola růstu krystalů
4 Pro PVD depozici oxidových tenkých vrstev je velmi časté použití stejnosměrného magnetronu v podmínkách reaktivního naprašování. V tomto případě je terč zhotoven z vodivého nebo polovodivého materiálu např. kovu a jako pracovní plyn je použit argon a kyslík. Tímto způsobem je připravováno mnoho typů oxidů např. ZnO, kdy je použit jako terč čistý zinek, TiO2 s titanovým terčem, In2O3 s terčem india, SiO2 s terčem Si, Al2O3 z Al terčem atd [11,2]. Zmíněné reaktivní naprašování je možné provozovat ve dvou rozdílných režimech. První režim se nazývá metalický kdy je přidáno do výboje pouze malé množství kyslíku tak, aby se terč nestihl pokrýt oxidovou vrstvou. V tomto případě se z terče odprašují atomy čistého materiálu terče (kovu), které dopadají na substrát, kde rychle oxidují díky přítomnosti kyslíkového plazmatu. Jelikož se používají většinou nízké tlaky pracovních plynů ve výboji, pravděpodobnost oxidace rozprášených atomů (kovu) v objemu plazmatu je malá. V metalickém režimu se dosahuje vysokých depozičních rychlostí, ale někdy dochází k výskytu kyslíkových vakancí v deponované vrstvě díky malému množství kyslíku v plazmatu. Druhý režim se nazývá oxidový, ve kterém je použito větší množství kyslíku v objemu plazmatu. Terč se proto pokryje vrstvou oxidu a ten je teprve z terče odprašován. Tzn. pokud je použit například titanový terč, ten se pokryje vrstvou TiOx a z terče je odprašováno přímo TiOx, který se usazuje na substrátu a vytváří vrstvu TiO2. Tento režim většinou vykazuje nižší dosaženou depoziční rychlost. Ta závisí na rychlosti odprašování oxidu z terče, která bývá většinou nižší než pro čistý kovový terč. Na druhou stranu nižší depoziční rychlost v oxidovém režimu umožní depozici oxidové vrstvy s vyšší kvalitou a menší hustotou kyslíkových vakancí. Hlavní problém tohoto režimu je pokrytí terče oxidem, který je většinou elektricky nevodivý. To způsobuje, že oxidované části terče se nabíjejí dopadem kladných iontů kladně oproti potenciálu katody. Tento rozdíl potenciálů způsobí zápal malých obloukových mikrovýbojů, které generují nestability nebo uhasnutí magnetronového výboje. Obr. 5. SEM Mikrofotografie lomu vrstev TiO2 deponovaných a) DC magnetronem b) DC pulzním magnetronem [4]. Z důvodů eliminace výše zmíněných mikrovýbojů v oxidovém režimu je výhodné použití pro depozici oxidů vysokofrekvenčního magnetronu. Dále je možné ve vysokofrekvenčním magnetronu použít elektricky nevodivé terče vyrobené přímo z oxidu stejného složení jako cílová vrstva. Oxidové terče se často vyrábí ve formě keramik. Takto se připravují např. složité oxidy Pb(ZrxTi1-x)O3 [12], BaxSr1-xTiO3 [13] atd. Nevýhodou vysokofrekvenčního magnetronu je složité použití velkoplošných terčů, komplikovaná výroba keramických terčů a někdy problém s udržením stechiometrie vrstvy. Také technická realizace vysokofrekvenčních magnetronů je náročnější než stejnosměrných. Moderním přístupem pro depozici oxidových vrstev reaktivním odprašováním elektricky vodivých (kovových) terčů je použití pulzního buzení magnetronového výboje [4,5,6,7] viz obr. 4. V tomto případě je vznik nežádoucích mikrovýbojů oxidací terče značně eliminován. Důvodem je vybíjení oxidovaného terče tokem elektronů v okamžiku, kdy je terč připojen na kladný potenciál vůči anodě. Výboj v magnetronu je tedy mnohem stabilnější. Dále bylo např. zjištěno, že pulzní magnetrony jsou schopny deponovat vrstvy s vyšší hustotou materiálu a menší hrubostí povrchu [4]. Na obr. 5 jsou vyobrazeny pro srovnání TiO2 vrstvy deponované pulzním a stejnosměrným magnetronem. Z těchto důvodů je použití pulzních magnetronů pro depozici oxidových vrstev značně rozšířeno [14,15]. V běžných stejnosměrných, pulzních a vysokofrekvenčních magnetronech je stupeň ionizace rozprášených částic z terče 1-10%, což znamená, že většina atomů přispívajících k růstu vrstvy jsou neutrální a většina iontů bombardující substrát jsou ionty pracovního plynu. Z důvodu zvýšení stupně 30 Škola růstu krystalů 2008
5 ionizace rozprášených částic se používají pulzní magnetrony s krátkou dobou aktivní části pracovního cyklu a dlouhou pauzou. V aktivní části cyklu je výbojový proud velký tak, že je možné dosáhnout proudových hustot větších než jm>1a/cm 2, ale časově střední hodnota absorbovaného výkonu a výbojového proudu je obdobná jako ve stejnosměrném magnetronu. Tyto systémy se nazývají HIPIMS (high power impulse magnetron sputtering [16,17]. Na obr. 6 je technické řešení generace velkých okamžitých výbojových proudů postupným nabíjením velkého kapacitoru a jeho rychlým vybíjením. V HIPIMS výbojích se dosahuje koncentrace elektronů až ne m -3 a stupeň ionizace rozprášených částic 50% až 90%. HIPIMS mají nižší depoziční rychlost než stejnosměrné magnetrony se stejným středním absorbovaným výkonem. Deponované vrstvy mají většinou vyšší hustotu deponovaného materiálu, vrstvy jsou méně porézní a mají tak vyšší index lomu [18]. Na obr. 7 je příklad depozice TiO2 vrstev pomocí HIPMS bez externího ohřevu substrátu při depozici, což znamená, že substrát ohřívalo pouze plazma na teplotu maximálně C. TiO2 vznikal v různých fázích buď rutilu nebo anatasu případně směsí obou v závislosti na tlaku pracovního plynu ve výboji a poměrném množství kyslíku v pracovním plynu [19]. Na obr. 8. jsou pro tyto TiO2 a TiOx vrstvy z obr. 7 difrakční maxima potvrzující přítomnost jednotlivých fází [19]. Obr. 6. Obvodové řešení HIPIMS s nabíjecím obvodem [18]. 4 Depozice tenkých vrstev za atmosférického tlaku metodou PECVD V současné době je velmi žádaná depozice tenkých vrstev za atmosférického tlaku. Důvodem je nižší cena technologického procesu, protože depozice za atmosférického tlaku nevyžadují nákladné vakuové čerpací systémy a reaktory. Z toho důvodu byla vyvinuta řada nízkoteplotních plazmových systémů pracujících za atmosférického tlaku a je používána pro depozici tenkých vrstev. Pro depozici oxidů byly vyvinuty různé plazmové systémy s proudícím kanálem [20,21,22]. Zde bude popsán systém s proudícími kanály, kdy plazma bylo generováno vysokofrekvenčním bariérovým výbojem [22]. Zařízení bylo aplikováno na nízkoteplotní depozici krystalických transparentních vodivých vrstev ZnO [23]. Na obr. 9 je vidět schéma atmosférického bariérového vysokofrekvenčního výboje (RFBT) v konfiguraci s jedním plazmovým kanálem. Do křemenné trubice je přiveden pracovní plyn s páry vhodných organometalických prekurzorů. Pro ZnO depozici byly použity páry Zn-acetylacetonátu. Okolo křemenné trubky je kovová prstencová elektroda připojena na vysoké RF napětí dodávané výkonovým RF generátorem. Toto napětí generuje plazma přes kapacitní křemennou bariéru, které díky proudícímu pracovnímu plynu vytvoří v prostoru plazmový kanál, který dopadá na substrát. Toto plazma rozkládá páry prekurzorů a z těchto fragmentů se vytvoří ZnO vrstva na povrchu substrátu. Aby bylo možné udržet chladný substrát pod teplotou 100 o C, je nutné výkon z generátoru pulzně modulovat s frekvencí 200 Hz s relativně krátkou aktivní dobou pulzu ve srovnání s částí modulačního cyklu, kdy je výboj neaktivní. Obr. 7. XRD obrazce deponovaných TiOx vrstev pomocí HIPIMS bez ohřevu substrátu pro různé tlaky ve výboji a složení pracovního plynu [19]. Škola růstu krystalů
6 Obr. 8. XRD obrazce deponovaných TiOx vrstev pomocí HIPIMS bez ohřevu substrátu pro různé tlaky ve výboji a složení pracovního plynu [19]. Obr. 10. Schéma RF barrier torch výboje (RFBT) s více plazmovými kanály. Obr. 11. Fotografie RF barrier torch výboje (RFBT) s více plazmovými kanály. Obr. 9. Schéma RF barrier torch výboje (RFBT) s jedním plazmovým kanálem [22]. Obr. 12. XRD difrakční obrazce a AFM ZnO vrstvy deponované RFBT za nízké teploty substrátu [23]. 32 Škola růstu krystalů 2008
7 Na obr. 10 je vidět uspořádání RFBT výboje s více plazmovými kanály. Na obr. 11 je potom fotografie systému s více plazmovými kanály. V tomto uspořádání byly deponovány ZnO vrstvy s hexagonální krystalickou fází, jak je vidět na obr. 12, kde jsou zobrazeny difraktogramy této vrstvy. Ty byly pořízeny v uspořádání Bragg-Brentano a proto bylo možné určit i texturu ZnO vrstvy. Jak je vidět z difraktogramu, ZnO vrstva má přednostní orientaci s rovinou (001) rovnoběžně se substrátem tj. osou c základní buňky kolmo k povrchu substrátu. Z vyobrazených AFM vyplynula střední hrubost povrchu 18 nm. Závěr Depozice vrstev pomocí nízkoteplotního plazmatu je značně rozšířená metoda. Metoda PVD depozice vrstev se realizuje nejčastěji pomocí magnetronového naprašovaní. Magnetronové naprašování má výhodu vysoké depoziční rychlosti a zároveň vysoké kvality deponované vrstvy. Metody atmosférického PECVD jsou často používány pro depozici vrstev z důvodu nízkých nákladů. Ve vhodném uspořádání atmosférického plazmového systému je možné takto deponovat kvalitní krystalické oxidy jako ZnO, TiO2 atd. Tato práce vznikla v rámci řešení projektu 1M06002 MŠMT ČR a projektu KAN AV ČR. Literatura [1] J.S. Chapin, Res. Develop. 25 (1974) [2] P.J. Clarke, J. Vac. Sci. Techn. 14 (1977) [3] M.A. Liberman, A.J. Lichtenberg, Principles of Plasma Discharges and Materials Processing, Wiley, New York [4] P.J. Kelly, C.F. Beevers, P.S. Henderson, R.D. Arnell, J.W. Bradley, H. Backer; Surface and Coatings Technology. [5]S. Schiller, K. Goedicke, J. Reschke, V. Kirchhoff, S. Schneider, F. Milde, Surf. Coat. Technol. 61 (1993) 331. [6] P.J. Kelly, O.A. Abu-Zeid, R.D. Arnell, J. Tong, Surf. Coat. Technol. 86 (1996) 28. [7] R.A. Scholl, Surf. Coat. Technol. 98 (1998) 823. [8] G.G. Lister, J. Phys. D: Appl. Phys. 25(1992) [9] Hopwood J; Plasma Sources Sci. Technol. 1 (1992) (2003) [10] P. Virostko, et al, Contributions to Plasma Physics, 46, (2006) [11] M. Birkholz, B. Selle, F. Fenske, and W. Fuhs, Phys. Rev. B 68, (2003) [12] Dong Joo Kim, Tae Song Kim, Jeon Kook Lee, and Hyung Jin Jung; J. Mater. Res., 13 (1998) [13] Woo Young Park, Kun Ho Ahn, and Cheol Seong Hwanga; Appl. Phys Lett. 83 (2003) [14] J. Šícha, D. Heřman, J. Musil, Z. Strýhal, J. Pavlík; Nanoscale Res Lett (2007) 2: [15] Hyungduk Ko, Weon-Pil Tai, Ki-Chul Kim, Sang- Hyeob Kim, Su-Jeong Suh, Young-Sung Kim; J. Crystal Growth 277 (2005) [16] V. Kouznetzov, K. Macak, J. M. Schnider, U. Helmersson, and I. Petrov, Surf. Coat. Technol. 122, (1999) 290. [17] K. Maca k, V. Kouznetzov, J. M. Schnider, U. Helmersson, and I. Petrov, J. Vac. Sci. Technol. A18, (2000) [18] U. Helmersson et al., Thin Solid Films 513 (2006) [19] V. Straňák, M. Quaas, H. Wulf, Z. Hubička, S. Wrehde, M. Tichý, R. Hippler, J. Phys D: Appl. Phys. 41 (2008) [20] Schutze A, Jeong J Y, Babayan S E, Park J, Selwyn G S and Hicks R F 1998 IEEE Trans. Plasma Sci [21] S.E. Babayan, Jeong J Y, Schutze A, Tu V J, Moravej M, Selwyn G S and Hicks R F 2001 Plasma Sources Sci Technol [22] Z. Hubička, M. Čada, M. Šícha, A. Churpita, P. Pokorný, L. Soukup and L. Jastrabík: Barrier-torch discharge plasma source for surface treatment technology at atmospheric pressure, Plasma Sources Science and Technology 11 (2002) 195. [23] M. Chichina, Hubicka Z, Churpita E, Tichy M, Measurement of the parameters of atmosphericpressure barrier-torch discharge Plasma Processes and Polymers 2 (2005) Škola růstu krystalů
Využití plazmových metod ve strojírenství. Metody depozice povlaků a tenkých vrstev
Využití plazmových metod ve strojírenství Metody depozice povlaků a tenkých vrstev Metody depozice povlaků Využití plazmatu pro depozice (nanášení) povlaků a tenkých vrstev je moderní a stále častěji aplikovaná
VícePlazmové metody Materiály a technologie přípravy M. Čada
Plazmové metody Existuje mnoho druhů výbojů v plynech. Ionizovaný plyn = elektrony + ionty + neutrály Depozice tenkých vrstev za pomocí plazmatu je jednou z nejpoužívanějších metod. Pomocí plazmatu lze
VíceDOUTNAVÝ VÝBOJ. Další technologie využívající doutnavý výboj
DOUTNAVÝ VÝBOJ Další technologie využívající doutnavý výboj Plazma doutnavého výboje je využíváno v technologiích depozice povlaků nebo modifikace povrchů. Jedná se zejména o : - depozici povlaků magnetronovým
VícePřehled metod depozice a povrchových
Kapitola 5 Přehled metod depozice a povrchových úprav Tabulka 5.1: První část přehledu technologií pro depozici tenkých vrstev. Klasifikované podle použitého procesu (napařování, MBE, máčení, CVD (chemical
VícePlazmová depozice tenkých vrstev oxidu zinečnatého
Plazmová depozice tenkých vrstev oxidu zinečnatého Bariérový pochodňový výboj za atmosférického tlaku Štěpán Kment Doc. Dr. Ing. Petr Klusoň Mgr. Zdeněk Hubička Ph.D. Obsah prezentace Úvod do problematiky
VíceDOUTNAVÝ VÝBOJ. Magnetronové naprašování
DOUTNAVÝ VÝBOJ Magnetronové naprašování Efektivním způsobem jak získat částice vhodné k růstu povlaku je nahrazení teploty používané u odpařování ekvivalentem energie dodané dopadem těžkéčástice přenosem
VíceVakuové metody přípravy tenkých vrstev
Vakuové metody přípravy tenkých vrstev Metody vytváření tenkých vrstev Vakuové metody dnes nejužívanější CVD Chemical Vapour Deposition (PE CVD Plasma Enhanced CVD nebo PA CVD Plasma Assisted CVD) PVD
VícePlazmatické metody pro úpravu povrchů
Plazmatické metody pro úpravu povrchů Aleš Kolouch Technická Univerzita v Liberci Studentská 2 461 17 Liberec 1 Obsah 1. Plazma 2. Plazmové stříkání 3. Plazmové leptání 4. PVD 5. PECVD 6. Druhy reaktorů
VíceREAKTIVNÍ MAGNETRONOVÉ NAPRAŠOV. Jan VALTER HVM Plasma s.r.o. www.hvm.cz
REAKTIVNÍ MAGNETRONOVÉ NAPRAŠOV OVÁNÍ Jan VALTER SCHEMA REAKTIVNÍHO NAPRAŠOV OVÁNÍ zdroj výboje katoda odprašovaný terč plasma inertní napouštění plynů reaktivní zdroj předpětí p o v l a k o v a n é s
VíceVzdělávání výzkumných pracovníků v Regionálním centru pokročilých technologií a materiálů reg. č.: CZ.1.07/2.3.00/09.0042
Vzdělávání výzkumných pracovníků v Regionálním centru pokročilých technologií a materiálů reg. č.: CZ.1.07/2.3.00/09.0042 Tento projekt je spolufinancován Evropským sociálním fondem a státním rozpočtem
VícePlazma v technologiích
Plazma v technologiích Mezi moderními strojírenskými technologiemi se stále častěji prosazují metody využívající různé formy plazmatu. Plazma je plynné prostředí skládající se z poměrně volných částic,
VíceMetody depozice povlaků - CVD
Procesy CVD, PA CVD, PE CVD Chemická metoda depozice vrstev CVD využívá pro depozici směs chemicky reaktivních plynů (např. CH 4, C 2 H 2, apod.) zahřátou na poměrně vysokou teplotu 900 1100 C. Reakční
VíceDOUTNAVÝ VÝBOJ. 1. Vlastnosti doutnavého výboje 2. Aplikace v oboru plazmové nitridace
DOUTNAVÝ VÝBOJ 1. Vlastnosti doutnavého výboje 2. Aplikace v oboru plazmové nitridace Doutnavý výboj Připomeneme si voltampérovou charakteristiku výboje v plynech : Doutnavý výboj Připomeneme si, jaké
VíceVybrané technologie povrchových úprav. Metody vytváření tenkých vrstev Doc. Ing. Karel Daďourek 2008
Vybrané technologie povrchových úprav Metody vytváření tenkých vrstev Doc. Ing. Karel Daďourek 2008 Metody vytváření tenkých vrstev Vakuové metody dnes nejužívanější CVD Chemical vapour deposition PE CVD
VíceVytržení jednotlivých atomů, molekul či jejich shluků bombardováním terče (targetu) ionty s vysokou energií (~kev)
Naprašování: Vytržení jednotlivých atomů, molekul či jejich shluků bombardováním terče (targetu) ionty s vysokou energií (~kev) Po nárazu iont předává hybnost částicím terče, dojde k vytržení Depozice
VíceFYZIKA VE FIRMĚ HVM PLASMA
FYZIKA VE FIRMĚ HVM PLASMA Jiří Vyskočil HVM Plasma spol.s r.o. Na Hutmance 2, 158 00 Praha 5 OBSAH HVM PLASMA spol. s r.o. zaměření a historie firmy hlavní činnost a produkty POVRCHOVÉ TECHNOLOGIE metody
VíceZákladní experiment fyziky plazmatu
Základní experiment fyziky plazmatu D. Vašíček 1, R. Skoupý 2, J. Šupík 3, M. Kubič 4 1 Gymnázium Velké Meziříčí, david.vasicek@centrum.cz 2 Gymnázium Ostrava-Hrabůvka příspěvková organizace, jansupik@gmail.com
VíceVytváření tenkých speciálních vrstev metodou plazmochemické depozice z plynné fáze
Vytváření tenkých speciálních vrstev metodou plazmochemické depozice z plynné fáze Teoretické základy: Plazmochemická depozice z plynné fáze metoda PECVD Rozvoj plazmochemických metod vytváření tenkých
VícePočítačový model plazmatu. Vojtěch Hrubý listopad 2007
Počítačový model plazmatu Vojtěch Hrubý listopad 2007 Situace Zajímá nás, co se děje v okolí kovové sondy ponořené do plazmatu. Na válcovou sondu přivedeme napětí U Očekáváme, že se okolo sondy vytvoří
Vícegalvanicky chemicky plazmatem ve vakuu Vrstvy ve vakuu MBE Vakuová fyzika 2 1 / 39
Vytváření vrstev galvanicky chemicky plazmatem ve vakuu Vrstvy ve vakuu povlakování MBE měření tloušt ky vrstvy během depozice Vakuová fyzika 2 1 / 39 Velmi stručná historie (více na www.svc.org) 1857
VíceAnotace přednášek LŠVT 2015 Česká vakuová společnost. Téma: Plazmové technologie a procesy. Hotel Racek, Úštěk, 1 4. června 2015
Anotace přednášek LŠVT 2015 Česká vakuová společnost Téma: Plazmové technologie a procesy Hotel Racek, Úštěk, 1 4. června 2015 1) Úvod do plasmochemie Lenka Zajíčková, Ústav fyzikální elektroniky, PřF
VíceIonizační manometry. Při ionizaci plynu o koncentraci n nejsou ionizovány všechny molekuly, ale jenom část z nich n i = γn ; γ < 1.
Ionizační manometry Princip: ionizace molekul a měření počtu nabitých částic Rozdělení podle způsobu ionizace: Manometry se žhavenou katodou Manometry se studenou katodou Manometry s radioaktivním zářičem
VíceTECHNOLOGICKÉ PROCESY PŘI VÝROBĚ POLOVODIČOVÝCH PRVKŮ III.
TECHNOLOGICKÉ PROCESY PŘI VÝROBĚ POLOVODIČOVÝCH PRVKŮ III. NANÁŠENÍ VRSTEV V mikroelektronice se nanáší tzv. tlusté a tenké vrstvy. a) Tlusté vrstvy: Používají se v hybridních integrovaných obvodech. Nanáší
VíceFyzikální metody nanášení tenkých vrstev
Fyzikální metody nanášení tenkých vrstev Vakuové napařování Příprava tenkých vrstev kovů některých dielektrik polovodičů je možné vytvořit i epitaxní vrstvy (orientované vrstvy na krystalické podložce)
VícePřednáška 4. Úvod do fyziky plazmatu : základní charakteristiky plazmatu, plazma v elektrickém vf plazma. Doutnavý výboj : oblasti výboje
Přednáška 4 Úvod do fyziky plazmatu : základní charakteristiky plazmatu, plazma v elektrickém vf plazma. Doutnavý výboj : oblasti výboje Jak nahradit ohřev při vypařování Co třeba bombardovat ve vakuu
VícePlazma. magnetosféra komety. zbytky po výbuchu supernovy. formování hvězdy. slunce
magnetosféra komety zbytky po výbuchu supernovy formování hvězdy slunce blesk polární záře sluneční vítr - plazma je označována jako čtvrté skupenství hmoty - plazma je plyn s významným množstvím iontů
VíceLaboratorní návod pro práci s naprašovačkou Denton DESK V HP TSC
Laboratorní návod pro práci s naprašovačkou Denton DESK V HP TSC 2011 Ústav fyziky a měřicí techniky VŠCHT Praha 1 Technologie naprašování kovů K depozicím kovů bude v rámci této práce využito naprašování,
VícePrincip naprašování. Rozdíly proti napařování: 1. metoda získávání par 2. nutnost použití pracovního plynu 3. ionizace par a prac. plynu.
Přednáška 6 Naprašování: princip metody, magnetrony, ss naprašování, pulzní naprašování, rf naprašování naprašovací rychlost, naprašování kovů, slitin a sloučenin. Princip naprašování Převedení pevné látky
VíceMASARYKOVA UNIVERZITA
MASARYKOVA UNIVERZITA Přírodovědecká fakulta Ústav fyzikální elektroniky BAKALÁŘSKÁ PRÁCE Plazmochemická depozice organosilikonových tenkých vrstev Václav Pekař Vedoucí bakalářské práce: Mgr. Lenka Zajíčková,
VíceDepozice tenkých vrstev I.
Depozice tenkých vrstev I. Naprašování Mgr. Tereza Schmidtová 15. dubna 2010 Aplikace Klasifikace Obecný přehled aplikací použití pro optické vlastnosti - laserová optika, zrcadla, reflexní a anti-reflexní
VícePlazmové svařování a dělení materiálu. Jaromír Moravec
Plazmové svařování a dělení materiálu Jaromír Moravec 1 Definice plazmatu Definice plazmatu je následující: Plazma je kvazineutrální soubor částic s volnými nosiči nábojů, který vykazuje kolektivní chování.
VícePřednáška 8. Chemické metody a fyzikálně-chemické metody : princip CVD, metody dekompozice, PE CVD
Přednáška 8 Chemické metody a fyzikálně-chemické metody : princip CVD, metody dekompozice, PE CVD CVD Chemical Vapor Deposition Je chemický proces používaný k vytváření tenkých vrstev. Substrát je vystaven
VíceZÁPADOČESKÁ UNIVERZITA V PLZNI FAKULTA ELEKTROTECHNICKÁ
ZÁPADOČESKÁ UNIVERZITA V PLZNI FAKULTA ELEKTROTECHNICKÁ Katedra technologií a měření DIPLOMOVÁ PRÁCE Optické vlastnosti dielektrických tenkých vrstev Bc. Martin Malán 214 Abstrakt Předkládaná diplomová
VíceVojtěch Hrubý: Esej pro předmět Seminář EVF
Vojtěch Hrubý: Esej pro předmět Seminář EVF Plazma Pod pojmem plazma většinou myslíme plynné prostředí, které se skládá z neutrálních částic, iontů a elektronů. Poměr množství neutrálních a nabitých částic
VíceCEPLANT Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
CEPLANT Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy Operační program Výzkum a Vývoj pro Inovace prioritní osa 2.1 Regionální VaV centra Reg.č. CZ.1.05/2.1.00/03.0086
VíceAnomální doutnavý výboj
Anomální doutnavý výboj Výboje v plynech ve vakuu Základní procesy ve výboji Odprašování dopadající kladné ionty vyrážejí z katody částice, tím dochází k úbytku hmoty katody a zmenšování rozměrů. Odprašování
VíceUniverzita Karlova v Praze. Matematicko-fyzikální fakulta DISERTAČNÍ PRÁCE. Jan Klusoň. Impulsní plazmatické systémy
Univerzita Karlova v Praze Matematicko-fyzikální fakulta DISERTAČNÍ PRÁCE Jan Klusoň Impulsní plazmatické systémy Katedra fyziky povrchů a plazmatu Vedoucí disertační práce: doc. Mgr. Pavel Kudrna, Dr.
VícePlazmové metody. Elektrické výboje v plynech
Plazmové metody Elektrické výboje v plynech Plazmové metody aplikované v technice velkou většinou používají jako zdroje plazmatu elektrické výboje v plynech. Výboje rozdělujeme podle doby trvání na - ustálené
VíceIradiace tenké vrstvy ionty
Iradiace tenké vrstvy ionty Ve většině technologických aplikací dochází k depozici tenké vrstvy za nízké teploty > jsme v zóně I nebo T > vrstvá má sloupcovou strukturu, je porézní a hrubá. Ukazuje se,
VíceTenká vrstva - aplikace
Poznámka: tyto materiály slouží pouze pro opakování STT žáků SPŠ Na Třebešíně, Praha 10; s platností do r. 2016 v návaznosti na platnost norem. Zákaz šíření a modifikace těchto materiálů. Děkuji Ing. D.
VíceSTEJNOSMĚRNÝ PROUD Nesamostatný výboj TENTO PROJEKT JE SPOLUFINANCOVÁN EVROPSKÝM SOCIÁLNÍM FONDEM A STÁTNÍM ROZPOČTEM ČESKÉ REPUBLIKY.
STEJNOSMĚRNÝ PROUD Nesamostatný výboj TENTO PROJEKT JE SPOLUFINANCOVÁN EVROPSKÝM SOCIÁLNÍM FONDEM A STÁTNÍM ROZPOČTEM ČESKÉ REPUBLIKY. Plyny jsou tvořeny elektricky neutrálními molekulami. Proto jsou za
Vícevodič u něho dochází k transportu el. nabitých částic, který je nevratný, dochází ke vzniku proudu a disipaci energie
Chování polymerů v elektrickém a magnetickém poli vodič u něho dochází k transportu el. nabitých částic, který je nevratný, dochází ke vzniku proudu a disipaci energie dielektrikum, izolant, nevodič v
VíceFyzikální metody přípravy tenkých vrstev. Martin Kormunda
Fyzikální metody přípravy tenkých vrstev Co je to za techniky? Procesy vyváření tenkých vrstev fyzikálními metodami využívají procesy probíhající za nízkého tlaku k dosažení efektivního transportu částic
VíceSTEJNOSMĚRNÝ PROUD Samostatný výboj TENTO PROJEKT JE SPOLUFINANCOVÁN EVROPSKÝM SOCIÁLNÍM FONDEM A STÁTNÍM ROZPOČTEM ČESKÉ REPUBLIKY.
STEJNOSMĚRNÝ PROUD Samostatný výboj TENTO PROJEKT JE SPOLUFINANCOVÁN EVROPSKÝM SOCIÁLNÍM FONDEM A STÁTNÍM ROZPOČTEM ČESKÉ REPUBLIKY. Plyny jsou tvořeny elektricky neutrálními molekulami. Proto jsou za
VíceLasery v mikroelektrotechnice. Soviš Jan Aplikovaná fyzika
Lasery v mikroelektrotechnice Soviš Jan Aplikovaná fyzika Obsah Úvod Laserové: žíhání rýhování (orýsování) dolaďování depozice tenkých vrstev dopování příměsí Úvod Vysoká hustota výkonu laseru změna struktury
VíceChemické metody plynná fáze
Chemické metody plynná fáze Chemické reakce prekurzorů lze aktivovat i UV zářením PHCVD. Foton aktivuje molekuly nebo atomy, které pak vytvářejí volné radikály nesoucí hodně energie > ty pak rozbijí velké
VíceZákladní typy článků:
Základní typy článků: Články z krystalického Si c on ta c t a ntire fle c tio n c o a tin g Tenkovrstvé články N -ty p e P -ty p e Materiály a technologie pro fotovoltaické články Nové materiály Gratzel,
VíceZáklady obsluhy plazmatických reaktorů, seznámení s laboratorní technikou
Úloha č. 1 Základy obsluhy plazmatických reaktorů, seznámení s laboratorní technikou Úkoly měření: 1. Zopakujte si základní pojmy z oblasti fyziky plazmatu a plazmochemie. Využijte přednáškové texty a
VíceÚvod do fyziky plazmatu
Úvod do fyziky plazmatu Lenka Zajíčková, Ústav fyz. elektroniky Doporučená literatura: J. A. Bittencourt, Fundamentals of Plasma Physics, 2003 (3. vydání) ISBN 85-900100-3-1 Navazující a související přednášky:
VíceANALÝZA POVLAKOVANÝCH POVRCHŮ ŘEZNÝCH NÁSTROJŮ
Středoškolská technika 2019 Setkání a prezentace prací středoškolských studentů na ČVUT ANALÝZA POVLAKOVANÝCH POVRCHŮ ŘEZNÝCH NÁSTROJŮ Jakub Chlaň, Matouš Hyk, Lukáš Procházka Střední škola elektrotechniky
VíceÚvod do fyziky plazmatu
Úvod do fyziky plazmatu Plazma Velmi často se o plazmatu mluví jako o čtvrtém skupenství hmoty Název plazma pro ionizovaný plyn poprvé použil Irwing Langmuir (1881 1957) v roce 1928, protože mu chováním
VíceRentgenová spektrální analýza Elektromagnetické záření s vlnovou délkou 10-2 až 10 nm
Rtg. záření: Rentgenová spektrální analýza Elektromagnetické záření s vlnovou délkou 10-2 až 10 nm Vznik rtg. záření: 1. Rtg. záření se spojitým spektrem vzniká při prudkém zabrzdění urychlených elektronů.
VíceTheory Česky (Czech Republic)
Q3-1 Velký hadronový urychlovač (10 bodů) Než se do toho pustíte, přečtěte si prosím obecné pokyny v oddělené obálce. V této úloze se budeme bavit o fyzice částicového urychlovače LHC (Large Hadron Collider
VíceTechnologie a vlastnosti tenkých vrstev, tenkovrstvé senzory
Vysoká škola chemicko-technologická v Praze Technologie a vlastnosti tenkých vrstev, tenkovrstvé senzory Technologie CVD, PVD, PECVD, MOVPE, MBE, coating technologie (spin-, spray-, dip-) Ondřej Ekrt Vymezení
VíceTenké vrstvy pro lékařství 1. Laserové vrstvy ( metody přípravy vrstev, laser, princip metody pulzní laserové depozice PLD, růst vrstev, )
Tenké vrstvy pro lékařství 1. Laserové vrstvy ( metody přípravy vrstev, laser, princip metody pulzní laserové depozice PLD, růst vrstev, ) 2. Vybrané vrstvy a aplikace - gradientní vrstvy, nanokrystalické
VíceIONTOVÉ ZDROJE. Účel. Požadavky. Elektronové zdroje. Iontové zdroje. Princip:
Účel IONTOVÉ ZDROJE vyrobit svazek částic vytvarovat ho a dopravit do urychlovací komory předurychlit ho (10 kev) Požadavky intenzita svazku malá emitance svazku trvanlivost zdroje stabilita zdroje minimální
VíceÚvod do laserové techniky KFE FJFI ČVUT Praha Michal Němec, 2014. Plynové lasery. Plynové lasery většinou pracují v kontinuálním režimu.
Aktivní prostředí v plynné fázi. Plynové lasery Inverze populace hladin je vytvářena mezi energetickými hladinami některé ze složek plynu - atomy, ionty nebo molekuly atomární, iontové, molekulární lasery.
VíceGD OES a GD MS v praktických aplikacích
GD OES a GD MS v praktických aplikacích Princip povrchových analýz Interakce materiálu s prvotním činidlem Prvotní činidlo prodělá změnu nebo vybudí reakci materiálu Detekce signálu vybuzeného materiálem
VícePlazmové depozice povlaků. Plazmový nástřik Plasma Spraying
Plazmové depozice povlaků Plazmový nástřik Plasma Spraying Plazmový nástřik patří do kategorie žárových nástřiků. Žárový nástřik je částicový proces vytváření povlaků o tloušťce obvykle větší než 50 µm,
VíceNaprašování nanokompozitních vrstev Ti-Si-O-N a jejich vlastnosti
Západočeská univerzita v Plzni Fakulta aplikovaných věd Katedra fyziky Naprašování nanokompozitních vrstev Ti-Si-O-N a jejich vlastnosti Bakalářská práce Plzeň 2012 Michal Zítek Prohlášení Prohlašuji,
VíceTenké vrstvy. metody přípravy. hodnocení vlastností
Tenké vrstvy metody přípravy hodnocení vlastností 1 / 39 Depozice tenkých vrstev Depozice vrstev se provádí jako finální operace na hotovém již tepelně zpracovaném substrátu. Pro dobré adhezní vlastnosti
VíceCentrum základního výzkumu LC 06041. Příprava, modifikace a charakterizace materiálů energetickým zářením. Jaroslav Pavlík, KF PřF UJEP, Ústí n. L.
Centrum základního výzkumu LC 06041 Příprava, modifikace a charakterizace materiálů energetickým zářením Jaroslav Pavlík, KF PřF UJEP, Ústí n. L. Řešitelský tým: Doc. RNDr. S. Novák, CSc. Prof. RNDr. R.
VíceFotoelektronová spektroskopie Instrumentace. Katedra materiálů TU Liberec
Fotoelektronová spektroskopie Instrumentace RNDr. Věra V Vodičkov ková,, PhD. Katedra materiálů TU Liberec Obecné schéma metody Dopad rtg záření emitovaného ze zdroje na vzorek průnik fotonů několik µm
VíceJ = S A.T 2. exp(-eφ / kt)
Vakuové součástky typy a využití Obrazovky: - osciloskopické - televizní + monitory Elektronky: - vysokofrekvenční (do 1 GHz, 1MW) - mikrovlnné elektronky ( až do 20 GHz, 10 MW) - akustické zesilovače
VícePetr Zikán. Studentský seminář, Březen 2011
Sondová měření v plazmatu Petr Zikán Studentský seminář, Březen 2011 Přehled prezentace 1 Child-Langmuirův zákon Přehled prezentace 1 Child-Langmuirův zákon 2 Sheath a pre-sheath Přehled prezentace 1 Child-Langmuirův
VíceZÁPADOČESKÁ UNIVERZITA V PLZNI FAKULTA ELEKTROTECHNICKÁ
ZÁPADOČESKÁ UNIVERZITA V PLZNI FAKULTA ELEKTROTECHNICKÁ Katedra elektroenergetiky a ekologie DIPLOMOVÁ PRÁCE Příprava tenkých vrstev oxidu měďného pro fotovoltaické aplikace Marcel Meliš Plzeň 2015 2 3
VíceÚvod do koroze. (kapitola, která bude společná všem korozním laboratorním pracím a kterou studenti musí znát bez ohledu na to, jakou práci dělají)
Úvod do koroze (kapitola, která bude společná všem korozním laboratorním pracím a kterou studenti musí znát bez ohledu na to, jakou práci dělají) Koroze je proces degradace kovu nebo slitiny kovů působením
VíceVysoké frekvence a mikrovlny
Vysoké frekvence a mikrovlny Osnova Úvod Maxwellovy rovnice Typy mikrovlnného vedení Použití ve fyzice plazmatu Úvod Mikrovlny jsou elektromagnetické vlny o vlnové délce větší než 1mm a menší než 1m, což
VíceAnalýza emisních čar ve výboji v napařovacím stroji
Analýza emisních čar ve výboji v napařovacím stroji Pavel Oupický, Centrum pro optoelektroniku Viktor Sember, Oddělení vysokoteplotního plazmatu Ústav fyziky plazmatu AV ČR, v.v.i. Abstrakt V článku v
VíceVEDENÍ ELEKTRICKÉHO PROUDU V PLYNU, SAMOSTATNÝ A NESAMOSTATNÝ VÝBOJ
Škola: Autor: DUM: Vzdělávací obor: Tematický okruh: Téma: Masarykovo gymnázium Vsetín Mgr. Jitka Novosadová MGV_F_SS_2S2_D19_Z_ELMAG_Vedeni_elektrickeho_proudu_v_ plynech_samostatny_a_nesamostatny_vyboj_pl
VíceHmotnostní spektrometrie
Hmotnostní spektrometrie Princip: 1. Ze vzorku jsou tvořeny ionty na úrovni molekul, nebo jejich zlomků (fragmentů), nebo až volných atomů dodáváním energie, např. uvolnění atomů ze vzorku nebo přímo rozštěpení
VíceZdroje optického záření
Metody optické spektroskopie v biofyzice Zdroje optického záření / 1 Zdroje optického záření tepelné výbojky polovodičové lasery synchrotronové záření Obvykle se charakterizují zářivostí (zářivý výkon
VíceStanovení fotoindukovaných vlastností (rozklad modelové látky Acid Orange 7)
Stanovení fotoindukovaných vlastností (rozklad modelové látky Acid Orange 7) Oxid titaničitý TiO 2 Titan je sedmým nejrozšířenějším kovem v zemské kůře. V malém množství je obsažen ve většině minerálů
VíceOpakování: shrnutí základních poznatků o struktuře atomu
11. Polovodiče Polovodiče jsou krystalické nebo amorfní látky, jejichž elektrická vodivost leží mezi elektrickou vodivostí kovů a izolantů a závisí na teplotě nebo dopadajícím optickém záření. Elektrické
VíceStudium kladného sloupce doutnavého výboje pomocí elektrostatických sond: jednoduchá sonda
1 Úvod Studium kladného sloupce doutnavého výboje pomocí elektrostatických sond: jednoduchá sonda V této úloze se zaměříme na měření parametrů kladného sloupce doutnavého výboje, proto je vhodné se na
VíceVEDENÍ ELEKTRICKÉHO PROUDU V LÁTKÁCH
VEDENÍ ELEKTRICKÉHO PROUDU V LÁTKÁCH Jan Hruška TV-FYZ Ahoj, tak jsme tady znovu a pokusíme se Vám vysvětlit problematiku vedení elektrického proudu v látkách. Co je to vlastně elektrický proud? Na to
VícePŘIPRAVENÉ METODOU MAGNETRONOVÉHO NAPRAŠOV
TRANSPARENTNÍ FOTOAKTIVNÍ VRSTVY TiO 2 PŘIPRAVENÉ METODOU MAGNETRONOVÉHO NAPRAŠOV OVÁNÍ ZA NÍZKÝCH N TEPLOT Ing. Petr Zeman, Ph.D. habilitační přednáška Tato prezentace je spolufinancována Evropským sociálním
VícePlazmatická úprava povrchu materiálů ve školní laboratoři
Plazmatická úprava povrchu materiálů ve školní laboratoři LUKÁŠ PAWERA, PETR SLÁDEK PDF MU Brno Nové technologie jsou mnohdy obtížně dostupné pro studenty ve školních podmínkách. Často nákladné doprovodné
VíceCHARAKTERIZACE DIELEKTRICKÝCH BARIÉROVÝCH VÝBOJŮ ZA ATMOSFÉRICKÉHO TLAKU
VYSOKÉ UČENÍ TECHNICKÉ V BRNĚ BRNO UNIVERSITY OF TECHNOLOGY FAKULTA ELEKTROTECHNIKY A KOMUNIKAČNÍCH TECHNOLOGIÍ ÚSTAV TELEKOMUNIKACÍ FACULTY OF ELECTRICAL ENGINEERING AND COMMUNICATION DEPARTMENT OF TELECOMMUNICATIONS
VíceTENKÉ VRSTVY. 1. Modifikací povrchu materiálu (teplem, okysličením, laserem,.. 2. Depozicí (nanášením)
TENKÉ VRSTVY Lze připravit : 1. Modifikací povrchu materiálu (teplem, okysličením, laserem,.. 2. Depozicí (nanášením) Metody fyzikální (Physical Vapor Deposition PVD) Metody chemické (Chemical Vapor Deposition-
VíceATOMOVÁ SPEKTROMETRIE
ATOMOVÁ SPEKTROMETRIE doc. Ing. David MILDE, Ph.D. tel.: 585634443 E-mail: david.milde@upol.cz (c) -017 Doporučená literatura Černohorský T., Jandera P.: Atomová spektrometrie. Univerzita Pardubice 1997.
VíceGas Discharges. Overview of Different Types. 14. listopadu 2011
Gas Discharges Overview of Different Types Jan Voráč ÚFE 14. listopadu 2011 Obrázky použité v této prezentaci jsou nestoudně ukradeny z internetu, z archivů pracovníků ÚFE MU, ze skript Základy fyziky
VícePřednáška 3. Napařování : princip, rovnovážný tlak par, rychlost vypařování.
Přednáška 3 Napařování : princip, rovnovážný tlak par, rychlost vypařování. Realizace vypařovadel, směrovost vypařování, vypařování sloučenin a slitin, Vypařování elektronovým svazkem a MBE Napařování
VíceZÁPADOČESKÁ UNIVERZITA V PLZNI. Fakulta aplikovaných věd. Katedra fyziky DIPLOMOVÁ PRÁCE
ZÁPADOČESKÁ UNIVERZITA V PLZNI Fakulta aplikovaných věd Katedra fyziky DIPLOMOVÁ PRÁCE Plzeň 2014 David Kolenatý Fakulta aplikovaných věd Katedra fyziky Reaktivní vysokovýkonová pulzní magnetronová depozice
VíceCentrum základního výzkumu LC Příprava, modifikace a charakterizace materiálů energetickým zářením. Jaroslav Pavlík, KF PřF UJEP, Ústí n. L.
Centrum základního výzkumu LC 06041 Příprava, modifikace a charakterizace materiálů energetickým zářením Jaroslav Pavlík, KF PřF UJEP, Ústí n. L. Řešitelský tým: Doc. RNDr. S. Novák, CSc. Prof. RNDr. R.
VíceVliv energie částic na vlastnosti vrstev Me-B-C-(N) připravených reaktivní magnetronovou depozicí
ZÁPADOČESKÁ UNIVERZITA V PLZNI FAKULTA APLIKOVANÝCH VĚD KATEDRA FYZIKY Vliv energie částic na vlastnosti vrstev Me-B-C-(N) připravených reaktivní magnetronovou depozicí Plzeň 2014 Veronika Šímová Prohlášení
VíceMonika Fialová VAKUOVÁ FYZIKA II. ZÍSKÁVÁNÍ NÍZKÝCH TLAKŮ
Monika Fialová VAKUOVÁ FYZIKA II. ZÍSKÁVÁNÍ NÍZKÝCH TLAKŮ CHARAKTERISTIKY VÝVĚV vývěva = zařízení snižující tlak plynu v uzavřeném objemu parametry: mezní tlak čerpací rychlost pracovní tlak výstupní tlak
VíceFyzikální metody depozice KFY / P223
Fyzikální metody depozice KFY / P223 Obsah Vymezení pojmu tenkých vrstev, význam TV ve vědě a technice, přehled metod vytváření TV Růst tenkých vrstev: módy a fáze růstu TV, vliv parametrů procesu. Napařování
Víceelektrické filtry Jiří Petržela filtry založené na jiných fyzikálních principech
Jiří Petržela filtry založené na jiných fyzikálních principech piezoelektrický jev při mechanickém namáhání krystalu ve správném směru na něm vzniká elektrické napětí po přiložení elektrického napětí se
VíceMěření vakua. Vacuum Technology J.Šandera, FEEC, TU Brno 1
Měření vakua Je třeba měřit vakuum ve velkém rozsahu (10-10 až 10 5 Pa) Používají se mechanické a elektrické principy Co požadujeme po vakuometrech: - absolutní měření a nezávislost údaje na druhu plynu
VícePRINCIPY ZAŘÍZENÍ PRO FYZIKÁLNÍ TECHNOLOGIE (FSI-TPZ-A)
PRINCIPY ZAŘÍZENÍ PRO FYZIKÁLNÍ TECHNOLOGIE (FSI-TPZ-A) GARANT PŘEDMĚTU: Prof. RNDr. Tomáš Šikola, CSc. (ÚFI) VYUČUJÍCÍ PŘEDMĚTU: Prof. RNDr. Tomáš Šikola, CSc., Ing. Stanislav Voborný, Ph.D. (ÚFI) JAZYK
VíceTECHNOLOGICKÉ PROCESY PŘI VÝROBĚ POLOVODIČOVÝCH PRVKŮ II.
TECHNOLOGICKÉ PROCESY PŘI VÝROBĚ POLOVODIČOVÝCH PRVKŮ II. 1. OXIDACE KŘEMÍKU Oxid křemíku SiO2 se během technologického procesu užívá k vytváření: a) Maskovacích vrstev b) Izolačních vrstev (izolují prvky
VíceElektrostatické pole. Vznik a zobrazení elektrostatického pole
Elektrostatické pole Vznik a zobrazení elektrostatického pole Elektrostatické pole vzniká kolem nepohyblivých těles, které mají elektrický náboj. Tento náboj mohl vzniknout například přivedením elektrického
VíceELEKTROLÝZA. Autor: Mgr. Stanislava Bubíková. Datum (období) tvorby: 13. 3. 2012. Ročník: osmý
Autor: Mgr. Stanislava Bubíková ELEKTROLÝZA Datum (období) tvorby: 13. 3. 2012 Ročník: osmý Vzdělávací oblast: Člověk a příroda / Chemie / Chemické reakce 1 Anotace: Žáci se seznámí s elektrolýzou. V rámci
VíceATOMOVÁ SPEKTROMETRIE
ATOMOVÁ SPEKTROMETRIE Atomová spektrometrie valenčních e - 1. OES (AES). AAS 3. AFS 1 Atomová spektra čárová spektra Tok záření P - množství zářivé energie (Q E ) přenesené od zdroje za jednotku času.
VíceVYSOKÉ UČENÍ TECHNICKÉ V BRNĚ
VYSOKÉ UČENÍ TECHNICKÉ V BRNĚ BRNO UNIVERSITY OF TECHNOLOGY FAKULTA ELEKTROTECHNIKY A KOMUNIKAČNÍCH TECHNOLOGIÍ FACULTY OF ELECTRICAL ENGINEERING AND COMMUNICATION ÚSTAV ELEKTROTECHNOLOGIE DEPARTMENT OF
VícePlynové lasery pro průmyslové využití
Laserové technologie v praxi I. Přednáška č.3 Plynové lasery pro průmyslové využití Hana Chmelíčková, SLO UP a FZÚ AVČR Olomouc, 2011 Využití plynových laserů v průmyslových aplikacích Atomární - He-Ne
VíceTVORBA MOTIVŮ TENKOVRSTVÝMI METODAMI
VYSOKÉ UČENÍ TECHNICKÉ V BRNĚ BRNO UNIVERSITY OF TECHNOLOGY FAKULTA ELEKTROTECHNIKY A KOMUNIKAČNÍCH TECHNOLOGIÍ ÚSTAV ELEKTROTECHNOLOGIE FACULTY OF ELECTRICAL ENGINEERING AND COMMUNICATION DEPARTMENT OF
VíceNauka o materiálu. Přednáška č.2 Poruchy krystalické mřížky
Nauka o materiálu Přednáška č.2 Poruchy krystalické mřížky Opakování z minula Materiál Degradační procesy Vnitřní stavba atomy, vazby Krystalické, amorfní, semikrystalické Vlastnosti materiálů chemické,
VíceObloukový výboj. 1. Depozice povlaků NNO 2. Atmosférické výboje 3. Plazmové svařování a dělení materiálu
Obloukový výboj 1. Depozice povlaků NNO 2. Atmosférické výboje 3. Plazmové svařování a dělení materiálu Obloukový výboj Pro technologické účely lze využít i tu část V-A charakteristiky výboje, která se
Více