Zpráva o činnosti centra LC06041 za r. 2006

Rozměr: px
Začít zobrazení ze stránky:

Download "Zpráva o činnosti centra LC06041 za r. 2006"

Transkript

1 Zpráva o činnosti centra LC06041 za r Zpráva je pro přehlednost koncipována jako přehled činností týkajících se jednotlivých plánovaných etap V001 -V013 a je doplněna seznamem publikací, které se vztahují přímo či nepřímo k činnosti jednotlivých řešitelských pracovišť v r Rovněž jsou uvedeny některé další okolnosti týkající se práce centra. V001 Dokončení a kalibrace experimentálních zařízení v laboratoři urychlovače Tandetron. Rozvoj metodiky a nových postupů pro modifikaci a charakterizaci materiálů bylo jednou z hlavních činností laboratoře urychlovače Tandetron (ÚJF) v r V průběhu r byly získány zkušenosti s provozem nového urychlovače v různých režimech. Bylo instalováno a úspěšně vyzkoušeno zařízení pro iontové implantace, jediné svého druhu v ČR, na kterém lze provádět implantace různých iontů s energiemi od 400 kev do několika MeV. Jednotlivé komponenty byly zakoupeny v zahraničí nebo vyrobeny českými firmami. Zařízení, na kterém byly již provedeny první implantace, je nezbytné zejména pro řešení dílčích cílů V004, Dále bylo zkonstruováno a vyrobeno zařízení pro analýzy a hloubkové profilování lehkých prvků metodou ERDA-TOF (Elastic Recoil Detection Analysis + Time of Flight). Na zařízení byla v rámci diplomové práce provedena první měření a ověřeny jeho parametry. Bylo rovněž zprovozněno zařízení pro metodu RBS-channeling dodané firmou NEC (USA), které umožňuje zkoumání struktury monokrystalických materiálů (včetně určování poloh atomů příměsí, koncentrací, typu a hloubkových profilů defektů). Zařízení současně umožňuje provádět standardní měření metodami RBS a ERDA. Plánované práce na urychlovači Tandetron byly značně zpomaleny vážnou poruchou urychlovače a jeho nucenou odstávkou po dobu 2 měsíců. V provozu byly oba urychlovače a průběhu r.2006 odpracovaly přibližně 700 (3MV Van de Graaff) a 500 (Tandetron 4130MC) hod. Značné úsilí bylo v ÚJF věnováno vývoji zařízení pro deposici tenkých vrstev. Bylo zkonstruováno a uvedeno do provozu zařízení pro deposici vrstev odprašováním ionty Ar s energiemi do desítek kev z iontového zdroje typu duoplasmatron. Zařízení umožňuje vytvářet velmi kvalitní kovové vrstvy na různých substrátech. V rámci provozních zkoušek byly již deponovány vrstvy různých kovů na sklo a křemík a jejich kvalita byla zkoumána metodami RBS a AFM. Byla rovněž rekonstruována a uvedena do provozu starší aparatura pro vakuové napařování Univex 300. Dále byla zadána výroba zařízení pro deposici tenkých vrstev a povlaků metodami MBE (Molecular Beam Epitaxy) a magnetronovým naprašováním. Klíčové komponenty těchto zařízení byly zakoupeny u renomovaných zahraničních firem. Obě tato zařízení budou uvedena do provozu v r Výše uvedené deposiční metody jsou klíčové pro řešení dílčích cílů V004, 005, 006. V r se bude pokračovat v budování laboratoře urychlovače Tandetron a budou prováděny rutinní analýzy materiálů v rámci plnění jednotlivých výzkumných etap centra. Bude dokončeno nové zařízení pro analýzy metodami PIXE, PIGE a dokončena druhá etapa stavby zařízení ERDA-TOF. Nejvýznamnější bude stavba iontové mikrosondy, která bude dokončena v r Iontové implantace se budou provádět v souladu s plány centra. Významné budou i práce na testování posičně citlivých detektorů. V002 Polohově citlivá spektrometrie těžkých nabitých částic. V r se pracovníci ÚTEF věnovali problematice energeticky a polohově citlivé detekce těžkých nabitých částic. Byly vyvinuty a otestovány dvě metody měření energie částice pixelovým detektorem. Obě metody byly použity jednak pro radiografii pomocí těžkých nabitých částic (dosažená přesnost měření tloušťky biologicky ekvivalentních materiálů byla na úrovni desítek nanometrů) jednak pro studium rozpadu jader 252 Cf (koincidenční zapojení dvou detektorů Medipix). Plánované práce na svazku těžkých iontů z urychlovače Tandetron 1

2 (ÚJF) nebyly provedeny pro nepředvídanou dvouměsíční odstávku urychlovače. Byly zahájeny práce na konstrukci zařízení pro ozařování pixelových detektorů na iontovém svazku urychlovače Tandetron. Bližší informace o aktivitách ÚTEF ČVUT v rámci centra jsou uvedeny v příloze Zpráva ÚTEF V r se bude pokračovat v řešení této problematiky zejména s využitím širokého spektra těžkých iontů z urychlovače Tandetron (ÚJF). V003 Zobrazování za použití ionizujícího záření. V roce 2006 se kolektiv ÚTEF věnoval jednak problematice radiografického zobrazování s využitím rentgenového a neutronového záření, jednak studiu možností použití pixelových detektorů pro prostorově a energeticky citlivou detekci těžkých nabitých částic. V oblasti rentgenové transmisní radiografie byla činnost orientována zejména na využití pixelových detektorů Medipix2 pro zobrazování měkkých tkání. Proběhly testy na vzorcích termitů a myší. Měření byla provedena i na živých vzorcích. Zvláštní pozornost byla věnována zpracování a interpretaci naměřených dat. Všechny tyto aktivity prokázaly, že pixelové detektory dokáží v transmisní radiografii měkkých tkání poskytnout maximálně kontrastní zobrazení při minimální dávce záření. Pro dosažení ještě vyšší kvality radiografických obrázků byla v roce 2006 navržena a vybudována nová experimentální aparatura pro rentgenovskou radiografii a tomografii s velmi vysokým rozlišením (stovky nanometrů). Aparatura bude plně uvedena do provozu a otestována na začátku roku Pozornost byla věnována také slibné radiografické technice fázově citlivého zobrazování umožňující vizualizaci změn indexu lomu v objemu zkoumaného vzorku. Tato metoda se jeví jako mimořádně perspektivní obzvláště pro zobrazování měkkých tkání, které se pomocí absorpce zobrazují jen velice obtížně. Předpokládá se že metoda umožní podstatné snížení dávky absorbované vzorkem. Bylo demonstrováno, že díky spektrometrickým vlastnostem pixelových detektorů Medipix2, lze v radiografických obrazcích odlišit efekty absorpční od efektů fázových. V oblasti neutronové transmisní radiografie probíhaly práce na vývoji nových polovodičových senzorů s využitím moderních 3D technologií. Byly navrženy a vyrobeny struktury maximalizující detekční účinnost pomalých neutronů. Testovány byly jejich elektrické i detekční vlastnosti (spolupráce ÚTEF a ÚJF). Bližší informace o aktivitách ÚTEF ČVUT v rámci centra jsou uvedeny v příloze Zpráva ÚTEF V r se bude pokračovat v řešení této problematiky zejména s využitím svazku termálních neutronů v ÚJF a nového zdroje rtg. záření, který byl v ÚTEF instalován počátkem r V004 Charakterizace a modifikace tenkých vrstev iontovými svazky. Jaderné analytické metody RBS, ERDA a PIXE na urychlovačích v ÚJF byly použity pro studium struktury a složení širokého spektra technologicky zajímavých materiálů. Tyto práce navázaly na předchozí dlouhodobé spolupráce s externími partnery. Jednalo se zejména o a) analýzy velmi tvrdých a odolných vrstev na bázi B-C-N-Si. RBS a ERDA analýzy vyžadují v tomto případě několikanásobné měření při použití protonů a alfa částic při více energiích a jejich velmi sofistikované zpracování (spolupráce se Západočeskou univerzitou v Plzni). b) přípravu systémů chalkogenidové sklo stříbro a sledování fotoindukované difůze stříbra v těchto systémech (spolupráce s Univerzitou Pardubice) c) studium struktury a složení organosilikonových a diamantu podobných uhlíkových vrstev (spolupráce s Přírodovědeckou fakultou Masarykovy univerzity v Brně). 2

3 d) studium polovodičů AIIIN dopovaných prvky vzácných zemin pro aplikace ve fotonice (spolupráce s VŠCHT a FEL). e) Analýzy materiálů perspektivních pro fotoniku. Metody RBS, ERDA a PIXE byly použity pro komplexní studium množství trivalentního erbia, což je významný prvek pro přípravu planárních laserových vlnovodů. Vzorky s inkorporovaným erbiem byly připravovány metodou protonové výměny ve speciálně připravených skleněných substrátech s obsahem Li 2 O. Hloubkové profily byly s velkou přesností stanovovány metodou RBS a integrální množství metodou PIXE. (spolupráce s VŠCHT) Získané unikátní výsledky přispívají k optimalizaci použitých deposičních technik a pochopení procesů probíhajících ve studovaných systémech. Získané výsledky byly průběžně publikovány formou konferenčních příspěvků a článků v odborných časopisech (viz. seznam publikací dále). V r a v následujících letech budou tyto práce pokračovat i s využitím nových analytických technik dostupných na urychlovači Tandetron (viz. výše etapa V001). V005 Studium interakce kovů s nanodiamanty a fullerény a příprava a modifikace jejich kompozitů. V průběhu roku 2006 byl připraven a uveden do činnosti vakuový deposiční systém Univex 300 společnosti Leybold. Tento systém byl inovován (výměna vakuové části) a doplněn elektronovým dělem, temperovaným držákem terčíků (substrátů) a sadou Knudsenových evaporačních buněk tak, aby bylo možné připravovat tenké vrstvy fullerénů a binárních hybridních kompozitů. Experimentální testy potvrdily, že upravený vakuový systém Univex 300 umožňuje vytvářet kvalitní tenké vrstvy C60 (i s možností jejich epitaxního růstu na vhodných monokrystalických substrátech) a rovněž tenké vrstvy kompozitů na bázi C60 a kovů s nižším bodem tání. Pro evaporaci kovů s vyšším bodem tání (např. tranzitní kovy) a jejich použití v hybridních systémech, bude nutné Univex 300 dále významně upravit, a to nákupem výkonnějšího elektronového děla a zlepšením vakua (např. použitím sublimační Ti pumpy). Pro stanovené cíle bylo nutné dále zvládnout i přípravu tenkých vrstev (fulleritů resp. hybridních kompozitů) s mikro- resp. nano-strukturovanou povrchovou morfologií. Toho bylo dosaženo jednak depozicemi molekul C60 přes vhodnou představenou mřížku (mikrostruktura povrchu vrstvy byla určena strukturou systému otvorů v mřížce) a jednak sofistikovanou volbou kinetiky depozice, umožňující syntetizovat samoorganizované struktury. Vzhledem k tomu, že nelze vždy zaručit přípravu kompozitů s definovanou samoorganizovanou strukturou, byl učiněn pokus vytvořit mikro- a nano-struktury ozářením připravené hybridní vrstvy laserem (FZÚ AV ČR). Ukázalo se, že laserový svazek má velký vliv na změnu povrchové morfologie. Laserový impuls dodává systému dostatek energie pro celopovrchovou restrukturalizaci povrchu, případně pro lokální fázové separace. Vhodná clona umístěná nad povrchem umožňuje vytvoření systém tzv. LIPSS (Laser Induced Periodic Surface Structure), tj. vytvoření samoorganizovaných periodických struktur. K publikaci jsou připraveny první výsledky. V roce 2007 bude aktivita soustředěna na další rozvoj depozičních systémů (duoplasmatron, Univex 300, MBE), na jejich využití pro přípravu kvalitních kompozitů na bázi allotropů uhlíku a jejich modifikaci energetickými svazky resp. termálním žíháním. V006 Studium chemické struktury a vlastností modifikovaných polymerů po expozici vysokoenergetickými svazky. Na systému pro iontovou implantaci na urychlovači Tandetron (ÚJF) byly provedeny první pokusné implantace iontů Si, Cu a Ag do syntetických polymerů PE a PEEK při různých energiích iontů dávkami od cm -2. Povrchová vrstva polymerů byla modifikována do hloubky 2-3µm. Struktura modifikované vrstvy se v současné době studuje metodou dopace solemi Li (originální metoda vyvinutá v ÚJF) a metodou FTIR (VŠCHT). Tyto práce jsou 3

4 významné i pro plnění etap V010 a V011. Metodami RBS a ERDA byly studovány hloubkové koncentrační profily vodíku a kyslíku na vzorcích syntetických polymerů (PS, PE, PET, PTFE) modifikovaných Ar plasmou. Vzorky byly připraveny na VŠCHT. Bylo zjištěno, že během modifikace a následné manipulace se vzorky dochází k oxidaci povrchové vrstvy do hloubky desítek nanometrů. Získané výsledky byly konfrontovány s údaji o povrchové morfologii a polaritě vzorků získanými na VŠCHT. Následující významné problémy byly řešeny převážně na pracovišti VŠCHT ve spolupráci s ÚJF a Fysiologickým ústavem AV ČR. Jednalo se především o studium a) Depozice uhlíkových vrstev. Byla studována příprava uhlíkových vrstvev na PTFE použitím metody CVD z acetylenu, která byla iniciována UV-excimerovou lampou. Povrchové vlastnosti a chemická struktura deponované vrstvy byla charakterizována AFM, SEM, RBS, Ramanovou spektroskopií, ERDA, XPS a dalšími metodami. Nanesené uhlíkové vrstvy lze charakterizovat jako hydrogenovaný amorfní uhlík (a-c:h), který obsahuje oxidované struktury a konjugované dvojné vazby. Cytokompatibilita C-vrstev byla studována jako adheze a proliferace lidských embrionálních endotelových buněk (HUVEC). V porovnání s PTFE CVD deponovaná uhlíková vrstva dramaticky zvyšuje adhezi a proliferaci HUVEC buněk. Byly provedeny i první experimenty s depozicí uhlíkových vrstev na povrch PE a PET naprašováním z uhlíkového targetu a napařováním vrstev z uhlíkového vlákna. Na těchto vrstvách byla studována jejich tloušťka (profilometrie a SEM) a povrchová morfologie (AFM). Byly provedeny první orientační pokusy in vitro, které studovaly adhezi a proliferaci buněk hladkého svalstva. b) Modifikace polymerů v plasmě. Byl studován vliv modifikace povrchu polymerů (PE, PET, PTFE) v plasmatickém výboji na jejich povrchovou smáčivost v závislosti na době od expozice (tj. době stárnutí). Vzorky byly charakterizovány pomocí AFM, XPS, FTIR, UV-VIS, RBS, goniometrie a gravimetrie. Vlivem plasmatického výboje kontaktní úhel prudce klesá, tj. smáčivost roste. Narůst kontaktního úhlu pozorovaný při stárnutí vzorků je způsoben poklesem koncentrace polarních skupin v povrchové vrstvě. To souvisí se spontánní reorganizací polymerních segmentů v povrchové monovrstě modifikovaného polymeru, který se projeví i poklesem povrchové drsnosti R a. Měření AFM ukázala výrazný narůst drsnosti po modifikaci v plasmě, který je výrazný především u PTFE. Díky ablaci se na povrchu modifikovaného PE objevují uspořádání polymerních řetězců do tvaru lamel. c) Depozice nanovrstev Au na polymerní substráty (HDPE, PET, PTFE) modifikované v plasmě. Na polyethylen (HDPE) modifikovaný v plasmě byla naprášena vrstva Au tlustá 50 nm. U vzorků byly sledovány změny povrchové morfologie metodou AFM a kontaktního úhlu (goniometricky). Mechanické vlastnosti vrstev (tvrdost, elastický modul, vrypové zkoušky) byly studovány na nanoindentoru. Vrstvy Au deponované na modifikovaný PE byly charakterizovány X-ray difrakcí. Zvýšená drsnost pozorovaná u polymeru po modifikaci plazmou se snižuje po depozici vrstvy Au. Díky síťování řetězců po exposici v plasmě se zvyšuje mikrotvrdost PE, ale tvrdost i elasticita povrchu po následné depozici Au klesá. Vrypové zkoušky ukázaly, že u nemodifikovaného PE s vrstvou Au se objevuje zejména elastická deformace vrstvy; u vzorků PE modifikovaných v plasmě a poté pokrytých Au je patrná významná plastická deformace i mechanické poškození Au vrstvy. Depozice Au na PET byla studována v závislosti na teplotě substrátu. Při teplotě depozice nad teplotou skelného přechodu (T g ) u nemodifikovaného PET vykazuje povrch vyšší drsnost než po depozici při teplotách pod T g. Výrazný narůst povrchové drsnosti po modifikaci v plasmě zjištěný metodu AFM predevším u PTFE se dále zvýraznil po depozici Au vrstvy. 4

5 Výsledky uvedených prací byly publikovány formou konferenčních příspěvků a časopiseckých článků (viz seznam uvedený níže) V r se bude pokračovat v dosavadním výzkumu v následujících hlavních směrech: a) na povrch polymerních substrátů, které budou exponovány v plasmě kvůli vyšší adhezi, budou deponovány nanovrstvy uhlíku, tyto vrstvy budou naprašovány, napařovány a nanášeny metodou CVD z acetylenu, uhlíkové vrstvy budou charakterizovány dostupnými analytickými metodami, b) bude studována modifikace polymerů v plasmě při různé zbytkové atmosféře v reaktoru, která ovlivňuje rychlost stárnutí modifikovaných polymerů, bude kvantifikována ablace povrchu polymerů, bude studována možnost roubování exponovaných řetězců např. aminokyselinami popř. kovovými nanočásticemi, c) na površích modifikovaných v plasmě i deponovaných uhlíkovými vrstvami bude studována adheze, proliferace a diferenciace především buněk hladkého svalstva, studium modifikace povrchu polymerů (PET, PE, PTFE) v plasmě zejména s ohledem na degradační produkty a ablaci při expozici, d) studium povrchových a fyzikálně-chemických vlastností degradovaných polymerních filmů, e) studium naprašování a napařování kovových nanovrstev (Au, Ag, Pd, Pt) na pristine a modifikované polymerní substráty, f) studium adheze kovových nanovrstev na polymerním substrátu. V007 Lokální řízení doby života křemíkových polovodičových diod radiačními metodami. V průběhu roku 2006 byly navrženy křemíkové výkonové diody P + -P-N-N + s průrazným napětím 3.5kV o průměru 38 a 16mm vhodné pro ozařovací experiment na urychlovači Tandetron. Diody byly vyrobeny ve společnosti Polovodiče a. s., Praha. Dále byla realizována, odzkoušena a konstrukčně modifikována speciální sada unašečů vzorků tak, aby bylo zabráněno nežádoucí kontaminaci při jejich transportu a přitom bylo umožněno efektivní ozařování statisticky významné sady vzorků. Zároveň byly navrženy a počítačovou simulací ( device simulator ATLAS společnosti Silvaco a DESSIS společnosti Synopsys) ověřeny vhodné parametry (energie, dávka) pro ozařování vysokoenergetickými protony tak, aby došlo k potřebnému zlepšení dynamických parametrů ozářených diod při současném zajištění co nejmenší degradace statických parametrů. Celý experiment byl naplánován tak, aby bylo možné ověřit elektrické parametry ozářených diod v podmínkách odpovídajících reálné aplikaci. Proto byl zároveň navržen vhodný postup pro ozáření zakončení p-n přechodu, žíhací teplota pro stabilizaci poruch apod. S ohledem na několikaměsíční výpadek urychlovače Tandetron byly první ozařovací experimenty provedeny až v lednu V roce 2007 budou tyto experimenty pokračovat na diodách s modifikovanými dotačními profily podle výsledků prvního ozařovacího experimentu. V008 Studium nízkoteplotní difúze paladia v křemíku stimulované radiačními poruchami. Studium této metody proběhlo v roce 2006 podle původního plánu. Experimenty byly provedeny na vzorcích křemíkových výkonových diod P + PNN + (zhotovených v Polovodiče a. s., Praha) a byly rozděleny na dvě části: - studium difúze paladia z naprášené tenké vrstvy paladia (50 nm) bez sintrování a s následným sintrováním po dobu 60 min. při teplotách 450 a 700 o C a - studium difúze paladia z implantované vrstvy paladia (energie 9.5MeV, dávka 1x10 13 cm -3 ). Vzorky s paladiem byly ozářeny alfa částicemi o energii 10MeV a dávce 1x10 12 cm -2 a poté žíhány v teplotním rozsahu 450 až 800 o C. Vzorky byly charakterizovány metodami DLTS, C-V, OCVD, forward I-V (25 a 125 o C), reverse I-V (30 o C), resistive switching reverse 5

6 recovery (25 a 125 o C). Výsledkem je stanovení teplotního rozsahu žíhací teploty, která zajišťuje optimální elektrické parametry jako je svodový proud, úbytek napětí v propustném směru, doba, náboj a rychlost závěrného zotavení, velikost náboje dynamického lavinového jevu a hodnota průrazného napětí při závěrném zotavení. Bylo zjištěno, že difúze z naprášené vrstvy paladia (nekonečný zdroj) vede na kompenzaci dotačního profilu mělkých příměsí. To má za následek snížení rozsahu dynamického lavinového jevu oproti diodám standardně ozařovaných protony a alfa částicemi. Výsledkem je zvýšení odolnosti těchto diod v náročných podmínkách rychlého závěrného zotavení při vysokých napájecích napětích a vypínaných proudech. Experimenty dále ukázaly, že u vzorků s implantovaným paladiem je implantovaná dávka 1x10 13 cm -3 nízká pro snížení doby života nadbytečných nositelů náboje (tj. pro výrazné zlepšení elektrických parametrů) srovnatelné s metodou využívající naprášené vrstvy paladia. Předmětem dalšího výzkumu je proto modifikace experimentu s cílem nalezení optimálních podmínek pro co největší difúzi paladia z implantované vrstvy. S ohledem na řadu shodných elektronických vlastností hlubokých úrovní paladia a platiny v křemíku bylo provedeno porovnání nízkoteplotní difúze platiny a paladia na vzorcích křemíkových diod. Výsledkem je porovnání jak elektronické struktury, tak i výsledných elektrických parametrů modifikovaných polovodičových diod. V roce 2007 bude výzkum pokračovat studiem vlivu žíhání po implantaci paladia na účinnost difúze a lokální řízení doby života. Proběhnou experimenty na diodách o větším průměru (homogenita výsledných parametrů) a pro vyšší průrazná napětí. V009 Studium radiačních poruch v polovodičích. V průběhu roku 2006 byl proveden návrh testovacích struktur a provedena jejich výroba ve společnosti ON-Semiconductor v Rožnově pod Radhoštěm. Navržené testovací struktury jsou tvořeny diodami P-i-N s mělkým (implantovaným) přechodem P + N, nízkým závěrným proudem a vhodnou plochou pro měření metodou DLTS. Diody byly připraveny na substrátech <111> CZ 8Ω cm. <111> FZ 60Ω cm a <111> FZ 100 Ω cm, což umožní posouzení vlivu dotace substrátu a příměsí substrátu na lokální zanášení poruch. Byla provedena základní charakterizace realizovaných testovacích struktur (závěrné proudy, DLTS) a bylo zjištěno, že realizované diody nekladou žádná omezení výzkumu radiačních poruch. V současné době probíhá návrh ozařovacích experimentů, které proběhnou počátkem roku 2007 na urychlovači Tandetron. V010 Plazmové modifikace struktur polymer - kov. Pro analýzu XPS byl na pracovišti KF UJEP zkompletován a úspěšně vyzkoušen analytický systém XPS založený na hemisférickém analyzátoru PHOIBOS 100 od firmy SPECS a zdroji X-ray záření XR-50 od téže firmy. V rámci řešení VC byl v roce 2006 navržena, zkonstruována a vyrobena UHV vakuová komora umožňující modifikace a přenos zkoumaných vzorků bez přerušení vakua do analytické komory analyzátoru XPS. UHV komora byla firmou Vakuum Praha s.r.o dodána s lokálním čerpacím systémem (turbomolekulární a iontová vývěva doplněná čerpací jednotkou na bázi nevypařovatelných getrů), oddělovacím deskovým UHV ventilem, manipulátorem a systémem pro měření tlaků. Po doplněním iontovým dělem v roce 2007 bude v této komoře možné dále provádět i modifikace zkoumaných vzorků svazkem energetických iontů (25 ev až 5 kev) a další in-situ úpravy vzorků v rámci prováděných analýz. V oblasti experimentálního studia procesu interakce plazmatu s povrchy tenkých vrstev kovů byla pozornost také zaměřena na rozvoj a zdokonalení komplexní diagnostiky plazmatu. 6

7 Dále byla studována interakce povrchů kovů s nízkoteplotním plazmatem kyslíku nebo směsi kyslíku s argonem a to jak experimentálně, tak i metodami počítačového modelování. Metodika depozice tenkých vrstev kovů (Sn) a oxidů kovů (SnO 2 ), s velikostí zrn spadající do oblasti nanočástic, za podmínek použití našeho experimentálního systému byla ověřena na rozsáhlé řadě experimentů přípravy tenkých vrstev Sn a SnO 2 metodou DC a RF magnetronového rozprašování Sn v plazmatu Ar, či metodou reaktivního DC magnetronového rozprašování Sn v plazmatu O 2, nebo směsi O 2 + Ar. Tyto ověřovací experimenty prokázaly vliv parametrů depozice, jako příkon zdroje magnetronu, poměr směsi argonu s kyslíkem pracovního plynu pro buzení plazmatu, typ použitého výboje při magnetronovém naprašování (DC nebo RF) a typ terče (Sn nebo SnO 2 ), na velikost zrn tenkých vrstev SnO 2. Byly tak připraveny tenké vrstvy SnO 2 s velikostí zrn řádově 10 nm. V roce 2006 pokračoval výzkum metalizovaných polymerů, které mají široké použití v optice a elektronice. Vrstvy kovů (Ag, Au) byly deponovány diodovým naprašováním ve spolupráci s VŠCHT na polymerní substráty. Byl zkoumán vliv různých podmínek ozáření v plasmatu (Ar, Ar+O2) na morfologii povrchu metalizovaných polymerů (PET, LDPE a HDPE), na množství povrchového kovu popř. vliv na mobilitu kovových částic v polymerní matrici při zvýšené teplotě substrátu. Plasmatické modifikace byly prováděny ve spolupráci s UJEP Ústí nad Labem. Modifikované vzorky byly zkoumány metodami AFM (UJEP), RBS a ERDA (ÚJF), XPS (VŠCHT) a TEM (ÚMCH). Morfologie povrchu se výrazně mění s výkonem plasmatu a typem iontů v plasmatu. Významný vliv na mobilitu a velikost kovových částic na rozhraní polymer/kov má především teplota substrátu při plasmatické úpravě a typ použitého polymeru. Kov po plasmatické modifikaci vykazuje vytváření nanočástic, které se mohou zabudovávat do polymeru, XPS prokázala vazby kovových atomů na polymerní řetězce. Transmisní elektronové mikroskopie (TEM) prokázala existenci kovových nano-klastrů v polymerní matrici, jejich množství však bylo velmi malé. Byly určeny difúzní koeficienty pro jednotlivé kombinace kovu a polymeru, hloubkové profily kovů v polymerech byly vyhodnocovány s ohledem na vysokou drsnost povrchu. Parametry drsnosti určené metodou AFM byly zahrnuty do vyhodnocení spekter hloubkových profilů ze spekter RBS s využitím softwaru SIMNRA. V r a v následujících letech se bude pokračovat v dosavadním výzkumu vlivu plasmatického výboje na strukturu polymerů a systémů polymer- kov. Pozornost bude věnována studiu procesů na rozhraní kov-polymer a rozvoji metod pro komplexní a přesnější chrakterizaci připravených systémů. Tyto práce mají úzkou návaznost na práce prováděné v rámci etapy V006. V011 Studium vlivu dopadu iontů plazmatu na povrch kovů nebo metalizovaných polymerů a charakterizace prostorového rozložení nanočástic kovu v polymerní matrici metodami počítačové fyziky. V oblasti studia vlivu dopadu iontů plazmatu na povrch kovů nebo metalizovaných polymerů bylo pokračováno v Monte Carlo simulacích dynamických změn procesů složení povrchu a podpovrchových vrstev kovu, který je vystaven působení iontů s relativně širokým rozsahem energií (ekvivalent RF zdroje plazmatu). Za tímto účelem byla provedena úprava standardního softwarového balíku TRYDYN pro interakce iontů s definovaným energetickým rozdělením. Cílem bylo pomocí aplikace metod počítačové fyziky studovat rekonstrukci třírozměrných struktur nanočástic difundovaných v polymerní matrici pomocí 2D řezů či projekcí, kdy analytické metody rekonstrukce třírozměrných struktur nevedou k cíli. K tomu lze využít postupy klasických morfologických metod, postupy z oblasti stereologie, fraktální analýzy, teorie perkolace, fourierovské optiky a její nejnovější modifikace waveletové analýzy, neuronových sítí, fuzzy logiky a evolučního modelování. 7

8 V r byly provedeny základní práce v oblasti vývoje a testování vhodných morfologických metod pro vyhodnocování vlastností jak 2D, tak 3D struktur nanočástic kovů difundovaných v polymerní matrici. Byla testována nová metoda tzv. metoda tlustých řezů pro studium prostorového rozdělení objektů v 3D kompozitních strukturách. Ukázalo se, že metoda je dobře použitelná pro tloušťky řezů do dvojnásobku průměru v případě kulových nanočástic. Projekce tlustého řezu se dá dále analyzovat pomocí známých metod. Při zkoumání elektrických vlastností kompozitních struktur byly dále rozpracovány metody počítačových simulací pro řešení elektrického transportu v těchto komplexních systémech. Byly simulovány proudy protékající strukturou a rozložení potenciálu, které se vytvoří. Byla ukázána silná závislost elektrických vlastností na uspořádání struktury. Při zkoumání těchto struktur z hlediska teorie perkolace je vhodné zavést nový objekt tunelovací nebo fuzzy klastr. Byla dále testována citlivost různých morfologických metod jako je Radiální distribuční funkce, Rozdělení nejbližších sousedů i-tého řádu, Kovariance, Voronoiho tesselace, Metoda Quadrat Counts a rychlá Fourierova transformace na malé odchylky v uspořádání systémů i na rozdělení velikosti objektů v komplexních strukturách. Výsledky byly publikovány v impaktovaných časopisech a prezentovány na mezinárodních konferencích formou posteru nebo orálních prezentací, příp. zvané přednášky. V roce 2006 byla provedena rozsáhlá rešerše za účelem zhodnocení současného stavu modelování vlivu drsnosti na tvar spektra zpětně odražených iontů měřených metodou RBS. Tento přehled má umožnit implementaci parametrů drsnosti do vyhodnocení hloubkových profilů kovů v polymerech ze spekter RBS. Byly odvozeny vztahy pro souvislost parametrů drsnosti stanovaných experimentálně metodou AFM a implementovaných v rámci softwaru SIMNRA pro první kvalitativní odhad vlivu drsnosti (velikost a rozdělení objektů kovových klastrů na povrchu polymeru) na tvar spektra RBS. Původní zadání této etapy bylo velmi ambiciózní a termín jejího ukončení v r.2006 nebyl zcela reálný. Problematika je nicméně velmi aktuální a v jejím řešení se bude pokračovat v r.2007 a pravděpodobně i v dalších letech. V012 Syntéza a charakterizace materiálů na bázi nanočástic kovů a jejich oxidů. V prvním roce řešení grantu byla na ÚACH AV ČR nalezena technika pro přípravu zlatých krystalů o velikosti v rozmezí od 10 µm do 80 µm. Povrch krystalů byl charakterizován řadou metod (AFM, XPS, IR), ze kterých vyplívá, že připravené zlaté krystaly představují vhodný substrát pro studium uspořádaných vrstev nanočástic na rovných zlatých plochách. Poměrně zajímavá se jeví chemie povrchu těchto krystalů. Jako součást plánovaného zkoumání byla provedena chemická modifikace povrchu těchto krystalů pomocí 1,12-(HS) 2-1,12-C 2 B 10 H 10 a následně modifikace povrchu pomocí koloidních zlatých nanočástic. Tímto postupem byly připraveny monovrstvy zlatých částic na povrchu Au krystalů, což představuje kombinaci dvou obecných cílů, přípravu vhodného substrátu a samovolné uspořádáni monovrstvy Au nanočástic na rovné ploše. V r.2007 bude tento výzkum pokračovat dle plánu. V013 Struktury pro optoelektroniku (fotoniku) na bázi LN, LT. Nukleární analytické metody (RBS, ERDA, PIXE, NRM a NDP) v ÚJF byly využívány pro studium vztahů mezi chemickým složením (obsahem, hloubkovým koncentračním profilem, atd.) a dalšími (optickými, vlnovodnými apod.) vlastnostmi materiálů a tenkých vrstev pro využití pro fotonické aktivní i pasivní struktury (spolupráce VŠCHT a ÚJF). Práce byly zaměřeny zejména na: a) Pokračování dosavadního studia perspektivních optických materiálů na bázi tantaličnan lithného (LT) a niobičnanu lithného (LN). 8

9 LT má pro využití ve fotonických strukturách ještě lepší vlastnosti než dnes již běžně používaný LN, především protože jeho práh optického poškození je až o dva řády vyšší v porovnání s LN. Nevýhodou je jeho nízká Curieova teplota, která je vážným omezením při vysokoteplotních způsobech přípravy vlnovodů. Z tohoto důvodu je protonová výměna (APE) prakticky jedinou využitelnou metodou pro přípravu vlnovodů v LT. Námi provedená studie byla zaměřena na porovnání změn probíhajících při protonové výměně (tj. výměně H + Li + ) v obou typech krystalů, především na změny obsahu vodíku a lithia. b) Studium difúze erbia do povrchové vrstvy optických skel. Byla studována dotace povrchu silikátových skel Er 3+ ionty vykazujících luminiscenci na vlnové délce 1535 nm (v blízkosti telekomunikačního okna, 1550 nm). Dotace erbia byla provedena iontovou výměnou Er 3+ (tavenina) Li +, Na + (sklo) ve speciálně navržených sklech. S pomocí metod RBS a komplementární PIXE bylo analyzováno složení připravených vzorků, zvláště obsah a rozložení erbia v tenké povrchové vrstvě skla. Bylo potvrzeno, že dotace Er 3+ iontů do skla byla úspěšná. Dále byl sledován vliv podmínek přípravy (složení skla, složení reakční taveniny, teplota a doba iontové výměny) na celkový obsah a rozložení nadifundovaného erbia ve vzorcích a také možnost úpravy rozložení erbia v povrchové vrstvě skla při žíhání vzorků. Díky informaci o složení vzorků bylo možné popsat procesy probíhající při iontové výměně, které se účastní erbium, a optimalizovat postup přípravy vzorků, aby vykazovaly maximální intenzitu luminiscence na 1535 nm. c) Studium dotace erbia do silikátových skel založená na difusi Er 3+. Tato metoda dotace silikátových skel laserově aktivními ionty byla experimentálně ověřována s použitím porézních skel SIMAX a speciálně připravených koordinačních sloučenin erbia. Tyto komplexy byly navrženy tak, aby měly velké ligandy, neobsahovaly OH skupiny a byly rozložitelné již při zahřívání na nízké teploty aniž by ve sklech zůstávala nežádoucí residua. Povrch sintrovaných vzorků bude možné dále upravit mechanickým broušením a leštěním. V tomto roce byl proveden výzkum týkající se návrhu a syntéz vhodných komplexů a úpravy procesu tepelné úpravy nasáklých vzorků. d) Studium difúse Cu + do speciálních silikátových skel. Difuse mědi Cu + do silikátových skel byla studována z hlediska zvýšení indexu lomu tenké povrchové vrstvy pro přípravu pasivních optických vlnovodů i pro generaci luminiscence v modrozelené oblasti spektra. Byly řešeny dva základní problémy: (i) zachování oxidačního stavu mědi v tavenině použité pro difusi mědi ve skleněných substrátech a (ii) difuse dostatečného množství Cu(I) do povrchové vrstvy skla tak, aby došlo k dostatečnému zvýšení indexu lomu. K tomuto účelu musela být navržena a připravena nová silikátová skla s lepší propustností pro difundující částice a s vysokým obsahem sodných iontů. V r.2007 bude studována syntéza vhodných komplexů Er 3+ solí a modifikace procesu tepelné úpravy nasáklých silikátových vzorků a difúze mědi Cu + do silikátových skel s cílem zvýšit index lomu tenké povrchové vrstvy pro přípravu pasivních optických vlnovodů i pro generaci luminiscence v modrozelené oblasti spektra. Dále plánujeme implantace kovových iontů Ag, Au do skel a polymerů v rámci pokračování našeho základního výzkumu příprava granulárních vrstev a kovových nano-částic v dielektriku pro vývoj struktur s perspektivním použitím v optice a elektronice. Předpokládáme rovněž přípravu optických vrstev pro laserovou optiku implantací laserově aktivních iontů vzácných zemin (Er, Yb atd.) do skel a monokrystalických materiálů LiNbO3 a LiTaO3. Struktury budou připraveny iontovou implantací v laboratoři Tandetronu a následně zkoumány hloubkové profily a distribuce implantovaných iontů metodami RBS, RBS-kanálování. Metody ERDA a TOF-ERDA budou použity pro určení složení implantované matrice a zkoumání případné změny složení substrátu způsobené degradací implantovaného materiálu (platí hlavně pro polymery). Měření elektrických a optických vlastností bude prováděno ve spolupráci s VŠCHT. 9

10 Další okolnosti Postgraduální studenti /diplomanti ÚJF Na projektu pracovali dva studenti, kteří dokončili své diplomové práce P. Malinský - Studium procesů v progresivních materiálech iontovými svazky, J. Bočan - Konstrukce a kalibrace systému ERDA- TOF) ÚTEF Na řešení projektu se podíleli v rámci svých diplomových prací dva studenti magisterského studia (Michal Platkevič a Pavel Stejskal) a čtyři postgraduální studenti (Josef Uher, Tomáš Holý, Zdeněk Vykydal a Jiří Dammer). ÚACH Na práci centra se podílel student Přírodovědecké fakulty UK, Václav Tyrpekl, který v r.2006 obhájil diplomovou práci bakalářského studia. Dále pokračuje v rámci centra v magisterském studiu. ÚTEF Na řešení projektu se v ÚTEF podíleli v rámci svých diplomových prací dva studenti magisterského studia (Michal Platkevič a Pavel Stejskal) a čtyři postgraduální studenti (Josef Uher, Tomáš Holý, Zdeněk Vykydal a Jiří Dammer). Obhajoby disertačních prací ÚACH AV ČR Tomáš Baše, obhajoba: únor 07; školitel: Ing. Otomar Kříž, CSc Carboranethiol-modified surfaces of gold colloids and films FEL ČVUT Volodymir Komarickij, školitel doc. Pavel Hazdra, CSc "Radiation defects for axial lifetime control in silicon" VŠCHT ing. Olga Kubová, školitel prof. V.Svorčík, DrSc, "Interakce buněk s uhlíkovými vrstvami na polymerních substrátech", práce dokončena v r. 2006, obhajoba Semináře Centra ÚJF AV ČR Řež , Vladimír Hnatowicz, Ústav jaderné fyziky AV ČR, Řež Iontové implantace na Tandetronu , Primož Pelicon, Jozef Stefan Institute (JSI), Ljublana Zkušenosti z provozu Tandetronu v JSI , Vasily Lavrentiev, Advanced Science Research Center, JAERI Ion-Solid Interactions , Pavel Yu. Apel, Flerov Laboratory of Nuclear Reactions, JINR, Dubna Applications of Heavy Ion Beams at the Flerov Laboratory JINR 10

11 , Sin-iti Kitazawa,Japan Atomic Energy Agency, Tokai Growth of Alloy Nanotubes and Related Studies , Ullrich Kreissig, Forschungszentrum Rossendorf Heavy Ion ERDA at the 5 MV Tandem Accelerator in Rossendorf , AlexanerYa.Vul, Ioffe Physico-Technical Institute, St.Petersburg Detonation Nanodiamonds. Structure, Phase Transitions and Applications , Michel Delgue, RIBER s.a., Paris RIBER and MBE Systems ÚTEF ČVUT Pravidelné každotýdenní semináře o problematice řešené v ÚTEF WWW stránka centra je umístěna na adrese: omega.ujf.cas.cz/vdg/lc06041 Publikace za r Vzhledem k tomu, že práce na projektu Centra započaly až v průběhu roku 2006, bylo pracovníky Centra publikováno pouze omezené množství konferenčních příspěvků a časopiseckých publikací vztahujících se bezprostředně k činnosti Centra s příslušnou citací (označeny červeně). Protože ale práce Centra vesměs navazují na dřívější činnosti členů Centra uvádíme i ostatní významnější publikace. Uvedeny jsou rovněž publikace přijaté k tisku. Práce v časopisech (opublikované) J. Vacík, V.Havránek, J. Šubrt, S. Bakardjieva, H. Naramoto,K. Narumi, Synthesis and microstructure characterization of the Ni/C60 composite materials, Acta Physica Slovaca, Roč. 56, č. 2 (2006), s J. Vobecký, P. Hazdra, Low-Temperature Radiation Controlled Diffusion of Palladium and Platinum in Silicon for Advanced Lifetime Control, Nuclear Instruments and Methods in Physics Research B Roč. 253 (2006) s P. Hazdra, V. Komarnitskyy, Thermal Donor Formation in Silicon Enhanced by High-Energy Helium Irradiation, Nuclear Instruments and Methods in Physics Research B Roč. 253 (2006) s V.Kotál, V.Švorčík, P.Slepička, P.Saidl, O.Bláhová, P.Šutta, V.Hnatowicz, Gold coating of PET modified by Ar plasma, Plasma Process. Polym. 4 (2007) s J. Jakůbek, C. Granja, J. Dammer, R. Hanus, T. Holý, S. Pospíšil, R. Tykva, J. Uher, Z. Vykydal: Phase contrast enhanced high resolution X-ray imaging and tomography of soft tissue, contribution to the 1st European Conference on Molecular Imaging Technology, Marseille, 9-12 May A special issue of Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section A 571 (2007) A. Macková, V. Švorčík, Z. Strýhal, J. Pavlík, RBS and AFM study of Ag and Au diffusion into PET foils influenced by plasma treatment, Surface and Interface Analysis, Roč. 38, č. 4 (2006), s J. Švorčík, K. Kolářová, P. Slepička, A. Macková, M. Novotná, V. Hnatowicz, Modification of surface properties of high and low density polyethylene by Ar plasma discharge. Polymer Degradation and Stability, Roč. 91, č. 6 (2006), s

12 V. Švorčík, P. Slepička, B. Dvořánková, A. Macková, V. Hnatowicz, Structural, chemical and biological properties of carbon layers sputtered on polyethyleneterephtalate, Journal of Materials Science - Materials in Medicine, Roč. 17, č. 3 (2006), s V. Prajzler, I. Hüttel, V. Jeřábek, E. Alves, Ch. Buchal, J. Špirková, J. Oswald, V. Peřina, H. Boldyryeva, Implantation of Er3+/Yb3+ Ions into GaN, WSEAS TRANSACTIONS on ELECTONICS, Issue 4, Volume 3, April 2006, pages L. Salavcova, J. Spirkova, F. Ondracek, A. Mackova, J. Vacik, U. Kreissig, F. Eichhorn, R. Groetzschel, Study of anomalous behaviour of LiTaO 3 during the annealed proton exchange process of optical waveguide s formation comparison with LiNbO 3, Optical Mater. Corrected Proof (available online 29 March 2006). J. Spirkova, P. Tresnakova, H. Malichova, M. Mika, Cu + containing waveguiding layers in novel silicate glasses substrates, J. Mater. Sci. Mater. El., Springer DOI /S L. Salavcova, A. Mackova, J. Oswald, B. Svecova, S. Janakova, J. Spirkova, M. Mika, Erbium doping into silicate glasses to form luminescent optical layers for photonics applications, J. Phys. Chem. Sol. reference: PCS-D H. Boldyryeva, S. Honda, A. Macková, T. Mates, A. Fejfar, J. Kočka, Characterization of hydrogen contained in passivated poly-si and microcrysstalline-si by ERDA technique, Surface and Interface Analysis, Roč. 38, č. 4 (2006), s A. Macková, V. Švorčík, Z. Strýhal, J. Pavlík, RBS and AFM study of Ag and Au diffusion into PET foils influenced by plasma treatment, Surface and Interface Analysis, Roč. 38, č. 4 (2006), s M. Hrubý, J. Kučka, A. Macková, M. Babič, J. Kozempel, K. Ulbrich, O. Lebeda, Hydrolyticky degradovatelné termoresponsivní polymery pro lékařské Aplikace, Chemické listy, Roč. 100, č. 11 (2006), s J. Matějíček, V. Weinzettl, E. Dufková, V. Piffl, V. Peřina, Plasma Sprayed Tungsten-based Coatings and their Usage in Edge Plasma Region of Tokamaks. Acta Technica CSAV, Roč. 51, č. 2 (2006), s J. Vacík, V. Hnatowicz, U. Koster, J. Červená, V. Havránek, G. Pasold, G, Diffusion of 6Li in Ta and W, Nuclear Instruments and Methods in Physical Research, B. Roč. 249, 1-2, (2006), s J. Jakůbek, G. Mettivier, M. C. Montesi, S. Pospíšil, P. Russo, J. Vacík, CdTe hybrid pixel detector for imaging with thermal neutrons, Nuclear Instruments and Methods in Physics Research. A. Roč. 563, č. 1 (2006), s A. Amassian, M. Svec, P. Desjardins and L. Martinu, Interface broadening due to ion mixing during thin film growth at the radio-frequency biaseded electrode in a plasma enhanced chemicalvapor deposition environment, J. Vac. Sci. Technol. A 24 (6), Nov/Dec 2006, pp A. Amassian, M. Svec, P. Desjardins and L. Martinu, Dynamics of ion bombardment-induced modifications of Si(001) at the radio-frequency-biased electrode in lowpressure oxygen plasmas: In situ spectroscopic ellipsometry and Monte Carlo study, Journal of Applied Physics, 100, (2006) R. Hrach, S. Novák, M. Švec, J. Škvor, Study of Electron Transport in Composite Films below the Percolation Threshold, Lect. Notes Comput. Sci (2006), pp R. Hrach, S. Novák, M. Švec, Correlation between Morphology and Transport Properties of Composite Films: Charge Transport in Composites, 12

13 Applied Surface Science 252 (2006), pp Práce v časopisech (přijaté k publikaci) T. Baše, Z. Bastl, M. Šlouf, N. Murafa, J. Šubrt, J. Plešek, M.G.S Londesborough, O. Kříž, Preparation and characterization of gold single crystal micro-plates. A study of gold colloidal particles assembled via 1,12-(HS) 2-1,12-C 2 B 10 H 10 on their (111) surfaces, Surface Science, přijato. C. Granja, Z. Vykydal, Y. Kopatch, J. Jakůbek, S. Pospíšil, S. A. Teleznikov: Position sensitive spectroscopy of 252 Cf fission fragments with Medipix2, submitted for publication in Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section A (2007). Robert Hanus, Jiří Dammer, Tomáš Holý, Jan Jakůbek, Stanislav Pospíšil, Richard Tykva: Soft tissue in vivo radioscopy using single X-ray photon counting device, Accepted for publication in Journal of Microscopy (2007), JMI J. Uher, C. Fröjdh, J. Jakůbek, C. Kenney, Z. Kohout, V. Linhart, S. Parker, S. Petersson, S. Pospíšil, G. Thungström: Characterization of 3D thermal neutron semiconductor detectors. Contribution to the 8 th IWORID, Pisa Abstract published in conference book of abstracts. Accepted for publication in Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section A (2007). A. Macková, V. Švorčík, P. Sajdl, Z. Strýhal, J. Pavlík, M. Šlouf, P. Malinský, RBS, XPS and TEM Study of Metal and Polymer Interface Modified by Plasma Treatment, přijato k publikaci v časopise Vacuum. Jan Jakůbek, Data processing and image reconstruction methods for pixel detectors, invited contribution to the 8 th IWORID, Pisa 2006, Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section A (2007)., přijato C. Granja, Z. Vykydal, Y. Kopatch, J. Jakůbek, S. Pospíšil, S. A. Teleznikov: Position sensitive spectroscopy of 252 Cf fission fragments with Medipix2, Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section A (2007), zasláno. V. Švorčík, J. Siegel, P. Slepička, V. Kotál, M. Špirková, Au nanolayers deposited on PET and PTFE degraded by plasma discharge, Surf. Interf. Anal., přijato. V. Švorčík, I. Huttel, P. Paláček, Polymethylmethacrylate waveguide properties modified in electrical field, Mater. Lett., přijato. J. Siegel, V. Kotál, Preparation of thin metal layers on polymers, Acta Polytechnica, přijato. O. Lyutakov, I. Huttel, V. Švorčík, Thermal stability of refractive index of PMMA layers prepared under electrical field, J. Mater. Sci. Mater. Electr., přijato. V. Kotál, V. Švorčík, P. Slepička, O. Bláhová, P. Šutta, V. Hnatowicz, Gold Coating of PET Modified by Argon Plasma, Plasma Proc. Polym., přijato. Práce uveřejněné ve sbornících konferencí L. Salavcová, J. Špirková, A. Macková, J. Oswald, M. Mika, Erbium containing thin surface layers in glass for photonics applications, International Conference on the Physics of Non-Crystalline Solids /XI/ ( : Rhodos) Book of Abstracts, 2006, s

14 L. Salavcová, A. Macková, J. Oswald, B. Švecová, J. Špirková, M. Mika, Erbium Doping into Silicate Glasses to Form Luminescent Optical Layers for Photonics application, International Conference of Solid State Chemistry /7./ ( : Pardubice) Book of abstracts, s A. Macková, V. Švorčík, P. Sajdl, Z. Strýhal, J. Pavlík, M. Šlouf, P. Malinský, RBS, XPS and TEM Study of Metal and Polymer Interface Modified by Plasma Treatment, Joint Vacuum Conference 11 ( : Praha), Book of Abstracts, Czech Vacuum Society, s J. Vobecký, P. Hazdra, Local Lifetime Control by Means of Palladium, 8 th Int. Seminar on Power Semiconductors ISPS06 Proceedings, Prague, 29 August 1 September, 2006, pp P. Hazdra, V. Komarnitskyy, Local Lifetime Control in Silicon by Hydrogen and Helium Irradiation: Introduction and Stability of Shallow Donors, 8 th Int. Seminar on Power Semiconductors ISPS06 Proceedings, Prague, 29 Aug. 1 Sept., 2006, s P. Hazdra, J. Vobecký, Local Lifetime Control in Silicon by Radiation Controlled Diffusion of Platinum, 8 th Int. Seminar on Power Semiconductors ISPS06 Proceedings, Prague, 29 Aug. 1 Sept., 2006, s V. Komarnitskyy, P. Hazdra, Helium Irradiation for Advanced Lifetime Control in Silicon: New Recombination Centers and Their Interaction Stimulated by Isochronal Annealing, 6 th Int. Conference on Advanced Semiconductor Devices and Microsystems, Bratislava, (2006) s T. Baše, Z. Bastl, M. Šlouf, N. Murafa, J. Šubrt, J. Plešek, Au colloids assembled on Au (111) single crystal surfaces via p-carborane-cc-dithiol linker, 24 th European Conference on Surface Science (ECOSS24), Paris, September 3-9, Jan Jakubek, Jiri Dammer, Carlos Granja, Tomas Holy, Stanislav Pospisil, Josef Uher: Compact System for High Resolution X-ray Transmission Radiography, In-line Phase Enhanced Imaging and Micro CT of Biological Samples, Proceedings of Nuclear Science Symposium IEEE 2006, October 2006, San Diego, USA, published on CDROM. Contribution Number N J. Uher, C. Fröjdh, J. Jakubek, C. Kenney, Z. Kohout, V. Linhart, S. Parker, S. Petersson, S. Pospíšil, G. Thungström: Highly sensitive silicon detectors of thermal neutrons, Proceedings of Nuclear Science Symposium IEEE 2006, October 2006, San Diego, USA, published on CDROM (2007). D. Vavrik, T. Holy, J. Jakubek, M. Jakubek, Z. Vykydal: Microradiographic Observation of Material Damage Evolution, Proceedings of Nuclear Science Symposium IEEE 2006, October 2006, San Diego, USA, published on CDROM. Contribution Number N J. Pavlík, Z. Strýhal, J. Matoušek, and S. Novák, Plasma Diagnostics Techniques for Monitoring of Plasma Oxidation of Thin Metal Films, 49th Annual Technical Conference Proceedings, April 22 27, 2006, Washington D.C., USA (2006), pp , ISSN J. Pavlík, Z. Stryhal, J. Matousek, T. Vagner, P. Hedbavny, Properties comparison of thin tin dioxide films prepared by plasma oxidation and by DC magnetron sputtering, EUROPHYSICS CONFERENCE ABSTRACTS, Volume 30 G, pp , ISBN X, 18th Europhysics Conference on Atomic and Molecular Physics of Ionised Gases, ESCAMPIG XVIII, July 12 16, 2006, Lecce, Italy, 14

15 J. Pavlik, Z. Stryhal, J. Matousek, T. Vagner, Structural and Surface Studies of SnO2 Thin Films Prepared by Plasma Assisted Deposition Techniques, Book of Abstracts, p.71, 11th Joint Vacuum Conference, JVC 11, September, 2006, Prague, Czech Republic, J. Pavlík, J. Matoušek, Z. Strýhal, T. Vágner, Study of SnO 2 Thin Films Prepared by Plasma Assisted Deposition Techniques, Book of Abstract, pp. 10, ] 16th Symposium on Application of Plasma Processes, SAPP XVI, Podbánské, Slovakia, January R. Hrach, V. Hrachová, S. Novák, Computional study of plasma solid interaction in low-temperature plasma: Surface processes at higher pressures, 33 rd EPS Conference on Plasma Phys. Rome, June 2006, ECA, Vol. 30I, P (2006) S. Novák, M. Švec, R. Hrach, J. Škvor, Morphology of Metal/Dielectric Composite Films, Thick Sections, 49 th SVC Technical Conference Proceedings, Washington, DC, USA (2006), pp M. Švec, R. Hrach, S. Novák, J. Škvor, Correlation between Morphology and Transport Properties of Composite Films, Proc.11th Joint Vacuum Conference, Prague 2006, pp (abstract). P. Černý, S. Novák, R. Hrach, Study of Plasma- Solid Interaction in Electronegative Gases, Book of Abstracts, 16 th Symposium on Application of Plasma Processes, SAPP XVI, Podbánské, Slovakia, January , pp , ISBN , (extended abstrakt poster) - dílčí cíl V011. P. Brůna, R. Hrach, S. Novák, Advanced Solvers of Poisson Equationin PIC-MC Method, Book of Abstracts, 16 th Symposium on Application of Plasma Processes, SAPP XVI, Podbánské, Slovakia, January , pp , ISBN , (extended abstrakt poster) - dílčí cíl V011. V. Prajzler, I. Hüttel, J. Špirková, J. Oswald, V. Peřina, H. Boldyryeva, V. Machovič, Z. Burian, V. Jeřábek, New Technologies for Passive and Active Planar Structures on Carbon Base and Organic Materials for Active Structures for Integrated Optics, CTU reports Proceedings of Workshop2006, Part A, special issue March 2006 Prague Czech Republic, Volume 10, pages V. Prajzler, I. Hüttel, E. Alves, Ch. Buchal, J. Špirková, J. Oswald, V. Peřina, H. Boldyryeva, V. Machovič, Z. Burian, Rare Earth Doped Gallium Nitride Layers, CTU reports Proceedings of Workshop2006, Part A, special issue March 2006 Prague Czech Republic, Volume 10, pages V. Prajzler, I. Hüttel, E. Alves, C. Buchal, J. Špirková, J. Oswald, V. Peřina, H. Boldyryeva, J. Zavadil, Z. Burian, Properties of Er3+ and Yb3+ Doped Gallium Nitride Layers., MIPRO 2006, 29th International Convention, Proceedings vol 1, MEET&HGS, Microelectronis, Electronics and Electronic Technologies, MAY Opatija Croatija, pp V. Prajzler, I. Hüttel, J. Špirková, V. Peřina, J. Zavadil, J. Hamáček, V. Machovič, V. Havránek, V. Jeřábek, Rare Earth Doped Gallium Nitride Layers for Photonics Applications,Book of Abstracts The5 th International Conference on Photonics, Device and Systems June 8-11, 2005 Prague Czech Republic, Volume 6180, pages F6. V. Prajzler, E. Alves, Ch. Buchal, I. Hüttel, J. Oswald, J. Špirková, H. Boldyryeva, V. Peřina, V. Jeřábek, Optical Properties of Er 3+ + Yb 3+ Doped Gallium Nitride Layers, Proceedings of SPIE Advances in Thin Films Coatings for Optical Application III., Editor Michael J. Ellison SPIE Optics\&Photonics Volume 6286, str K K

Centrum základního výzkumu LC 06041. Příprava, modifikace a charakterizace materiálů energetickým zářením. Jaroslav Pavlík, KF PřF UJEP, Ústí n. L.

Centrum základního výzkumu LC 06041. Příprava, modifikace a charakterizace materiálů energetickým zářením. Jaroslav Pavlík, KF PřF UJEP, Ústí n. L. Centrum základního výzkumu LC 06041 Příprava, modifikace a charakterizace materiálů energetickým zářením Jaroslav Pavlík, KF PřF UJEP, Ústí n. L. Řešitelský tým: Doc. RNDr. S. Novák, CSc. Prof. RNDr. R.

Více

V001 Dokončení a kalibrace experimentálních zařízení v laboratoři urychlovače Tandetron

V001 Dokončení a kalibrace experimentálních zařízení v laboratoři urychlovače Tandetron V001 Dokončení a kalibrace experimentálních zařízení v laboratoři urychlovače Tandetron Údaje o provozu urychlovačů v ÚJF AV ČR ( hodiny 2009/hodiny 2008) Urychlovač Celkový počet hodin Analýzy Implantace

Více

V Rmax 3500 V T = 125 o C I. no protons

V Rmax 3500 V T = 125 o C I. no protons Příprava, modifikace a charakterizace materiálů energetickým zářením ČVUT Praha, fakulta elektrotechnická, Praha 6 Řešitelský tým katedra mikroelektroniky FEL, ČVUT v Praze Jan Vobecký garant, člen Rady

Více

Dílčí cíle projektu a jejich plnění v roce 2007 (ÚJF AV ČR - laboratoř Tandetronu)

Dílčí cíle projektu a jejich plnění v roce 2007 (ÚJF AV ČR - laboratoř Tandetronu) Dílčí cíle projektu a jejich plnění v roce 2007 (ÚJF AV ČR - laboratoř Tandetronu) V001 Dokončení a kalibrace experimentálních zařízení v laboratoři urychlovače Tandetron V průběhu r. 2007 probíhaly práce

Více

Příprava, modifikace a charakterizace materiálů energetickým zářením

Příprava, modifikace a charakterizace materiálů energetickým zářením Příprava, modifikace a charakterizace materiálů energetickým zářením ČVUT Praha, fakulta elektrotechnická, Praha 6 Výsledky 2008 Řešitelský tým FEL - ČVUT v Praze, katedra mikroelektroniky Jan Vobecký

Více

Příprava, modifikace a charakterizace materiálů energetickým zářením

Příprava, modifikace a charakterizace materiálů energetickým zářením Příprava, modifikace a charakterizace materiálů energetickým zářením ČVUT Praha, fakulta elektrotechnická, Praha 6 Řešitelský tým FEL - ČVUT v Praze, katedra mikroelektroniky Jan Vobecký garant, člen Rady

Více

Typy interakcí. Obsah přednášky

Typy interakcí. Obsah přednášky Co je to inteligentní a progresivní materiál - Jaderné analytické metody-využití iontových svazků v materiálové analýze Anna Macková Ústav jaderné fyziky AV ČR, Řež 250 68 Obsah přednášky fyzikální princip

Více

NANOSTRUKTURY NA BÁZI UHLÍKU A POLYMERU PRO VYUŽITÍ V BIOELEKTRONICE A V MEDICÍNE

NANOSTRUKTURY NA BÁZI UHLÍKU A POLYMERU PRO VYUŽITÍ V BIOELEKTRONICE A V MEDICÍNE Nanotechnologie pro společnost, KAN400480701 NANOSTUKTUY NA BÁZI UHLÍKU A POLYMEU PO VYUŽITÍ V BIOELEKTONICE A V MEDICÍNE ÚJF Řež, leden 2009 Temata řešená v rámci projektu na VŠCHT A4 Nanostruktury vytvořené

Více

Dílčí cíle projektu a jejich plnění v roce 2006 (ÚJF AV ČR - laboratoř Tandetronu)

Dílčí cíle projektu a jejich plnění v roce 2006 (ÚJF AV ČR - laboratoř Tandetronu) Dílčí cíle projektu a jejich plnění v roce 2006 (ÚJF AV ČR - laboratoř Tandetronu) V001 Dokončení a kalibrace experimentálních zařízení v laboratoři urychlovače Tandetron 2006 dokončení instalace implantační

Více

INTERAKCE IONTŮ S POVRCHY II.

INTERAKCE IONTŮ S POVRCHY II. Úvod do fyziky tenkých vrstev a povrchů INTERAKCE IONTŮ S POVRCHY II. Metody IBA (Ion Beam Analysis): pružný rozptyl nabitých částic (RBS), detekce odražených atomů (ERDA), metoda PIXE, Spektroskopie rozptýlených

Více

Dílčí cíle projektu a jejich plnění v roce 2008 (ÚJF AV ČR - laboratoř Tandetronu)

Dílčí cíle projektu a jejich plnění v roce 2008 (ÚJF AV ČR - laboratoř Tandetronu) Dílčí cíle projektu a jejich plnění v roce 2008 (ÚJF AV ČR - laboratoř Tandetronu) V001 Dokončení a kalibrace experimentálních zařízení v laboratoři urychlovače Tandetron Bylo dokončeno testování a kalibrace

Více

Centrum základního výzkumu LC Příprava, modifikace a charakterizace materiálů energetickým zářením. Jaroslav Pavlík, KF PřF UJEP, Ústí n. L.

Centrum základního výzkumu LC Příprava, modifikace a charakterizace materiálů energetickým zářením. Jaroslav Pavlík, KF PřF UJEP, Ústí n. L. Centrum základního výzkumu LC 06041 Příprava, modifikace a charakterizace materiálů energetickým zářením Jaroslav Pavlík, KF PřF UJEP, Ústí n. L. Řešitelský tým: Doc. RNDr. S. Novák, CSc. Prof. RNDr. R.

Více

Příloha 1 - Strukturovaný odborný životopis

Příloha 1 - Strukturovaný odborný životopis Příloha 1 - Strukturovaný odborný životopis RNDr. Anna Macková, Ph.D. Ústav jaderné fyziky AV ČR, v. v. i. Narozena 9.7.1973, Most, Česká Republika Vzdělání 1991-1996 Magisterské studium matematicko fyzikální

Více

V005. Studium interakce tranzitních kovů s nanodiamanty a fullerény a příprava a modifikace jejich kompozitů. ( )

V005. Studium interakce tranzitních kovů s nanodiamanty a fullerény a příprava a modifikace jejich kompozitů. ( ) V005 Studium interakce tranzitních kovů s nanodiamanty a fullerény a příprava a modifikace jejich kompozitů. (2006-2009) J. Vacík, V. Lavrentiev, V. Bejšovec, V. Hnatowicz Hybridizace Hybridizace organických

Více

POROVNÁNÍ VLIVU DEPOSICE TENKÝCH VRSTEV A NAVAŘOVÁNÍ NA DEGRADACI ZÁKLADNÍHO MATERIÁLU

POROVNÁNÍ VLIVU DEPOSICE TENKÝCH VRSTEV A NAVAŘOVÁNÍ NA DEGRADACI ZÁKLADNÍHO MATERIÁLU POROVNÁNÍ VLIVU DEPOSICE TENKÝCH VRSTEV A NAVAŘOVÁNÍ NA DEGRADACI ZÁKLADNÍHO MATERIÁLU COMPARISON OF INFLUENCES OF DEPOSITION THIN FILMS AND WELDING ON DEGRADATION OF BASIC MATERIAL Monika Hadáčková a

Více

Nanotechnologie a Nanomateriály na PřF UJEP Pavla Čapková

Nanotechnologie a Nanomateriály na PřF UJEP Pavla Čapková Přírodovědecká fakulta UJEP Ústí n.l. a Ústecké materiálové centrum na PřF UJEP http://sci.ujep.cz/faculty-of-science.html Nanotechnologie a Nanomateriály na PřF UJEP Pavla Čapková Kontakt: Doc. RNDr.

Více

Využití iontových svazků pro analýzu materiálů

Využití iontových svazků pro analýzu materiálů Využití iontových svazků pro analýzu materiálů A. Macková, J. Bočan, P. Malinský Skupina jaderných analytických metod, Ústav jaderné fyziky AV ČR, Řež u Prahy, 250 68 Mackova@ujf.cas.cz. Úvod Počátek rozvoje

Více

Laboratoř analýz a modifikace látek iontovými svazky Ústavu jaderné fyziky AV ČR

Laboratoř analýz a modifikace látek iontovými svazky Ústavu jaderné fyziky AV ČR Laboratoř analýz a modifikace látek iontovými svazky Ústavu jaderné fyziky AV ČR 1. Kapitola ÚVOD Účelem této publikace je stručná informace o aktivitách skupiny nukleárních analytických metod v Ústavu

Více

VLIV SVAROVÉHO SPOJE NA VLASTNOSTI NANÁŠENÝCH TENKÝCH VRSTEV TIN INFLUENCE OF WELDING ON PROPERTIES DEPOSITED THIN FILMS TIN

VLIV SVAROVÉHO SPOJE NA VLASTNOSTI NANÁŠENÝCH TENKÝCH VRSTEV TIN INFLUENCE OF WELDING ON PROPERTIES DEPOSITED THIN FILMS TIN VLIV SVAROVÉHO SPOJE NA VLASTNOSTI NANÁŠENÝCH TENKÝCH VRSTEV TIN INFLUENCE OF WELDING ON PROPERTIES DEPOSITED THIN FILMS TIN Lenka Pourová a Radek Němec b Ivo Štěpánek c a) Západočeská univerzita v Plzni,

Více

Metody analýzy povrchu

Metody analýzy povrchu Metody analýzy povrchu Metody charakterizace nanomateriálů I RNDr. Věra Vodičková, PhD. Povrch pevné látky: Poslední monoatomární vrstva + absorbovaná monovrstva Ovlivňuje fyzikální vlastnosti (ukončení

Více

Techniky prvkové povrchové analýzy elemental analysis

Techniky prvkové povrchové analýzy elemental analysis Techniky prvkové povrchové analýzy elemental analysis (Foto)elektronová spektroskopie (pro chemickou analýzu) ESCA, XPS X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) Any technique in which the sample is bombarded

Více

HODNOCENÍ POVRCHOVÝCH ZMEN MECHANICKÝCH VLASTNOSTÍ PO ELEKTROCHEMICKÝCH ZKOUŠKÁCH. Klára Jacková, Ivo Štepánek

HODNOCENÍ POVRCHOVÝCH ZMEN MECHANICKÝCH VLASTNOSTÍ PO ELEKTROCHEMICKÝCH ZKOUŠKÁCH. Klára Jacková, Ivo Štepánek HODNOCENÍ POVRCHOVÝCH ZMEN MECHANICKÝCH VLASTNOSTÍ PO ELEKTROCHEMICKÝCH ZKOUŠKÁCH Klára Jacková, Ivo Štepánek Západoceská univerzita v Plzni, Univerzitní 22, 306 14 Plzen, CR, ivo.stepanek@volny.cz Abstrakt

Více

Vytržení jednotlivých atomů, molekul či jejich shluků bombardováním terče (targetu) ionty s vysokou energií (~kev)

Vytržení jednotlivých atomů, molekul či jejich shluků bombardováním terče (targetu) ionty s vysokou energií (~kev) Naprašování: Vytržení jednotlivých atomů, molekul či jejich shluků bombardováním terče (targetu) ionty s vysokou energií (~kev) Po nárazu iont předává hybnost částicím terče, dojde k vytržení Depozice

Více

Příprava polarizačního stavu světla

Příprava polarizačního stavu světla Příprava polarizačního stavu světla Konzultant: RNDr. Jakub Zázvorka (zazvorka.jakub@gmail.com) Projekt bude zaměřen na přípravu a charakterizaci polarizačního stavu světla pro spinově závislou luminiscenci

Více

FYZIKA VE FIRMĚ HVM PLASMA

FYZIKA VE FIRMĚ HVM PLASMA FYZIKA VE FIRMĚ HVM PLASMA Jiří Vyskočil HVM Plasma spol.s r.o. Na Hutmance 2, 158 00 Praha 5 OBSAH HVM PLASMA spol. s r.o. zaměření a historie firmy hlavní činnost a produkty POVRCHOVÉ TECHNOLOGIE metody

Více

Lasery v mikroelektrotechnice. Soviš Jan Aplikovaná fyzika

Lasery v mikroelektrotechnice. Soviš Jan Aplikovaná fyzika Lasery v mikroelektrotechnice Soviš Jan Aplikovaná fyzika Obsah Úvod Laserové: žíhání rýhování (orýsování) dolaďování depozice tenkých vrstev dopování příměsí Úvod Vysoká hustota výkonu laseru změna struktury

Více

Název práce: DIAGNOSTIKA KONTAKTNĚ ZATÍŽENÝCH POVRCHŮ S VYUŽITÍM VYBRANÝCH POSTUPŮ ZPRACOVÁNÍ SIGNÁLU AKUSTICKÉ EMISE

Název práce: DIAGNOSTIKA KONTAKTNĚ ZATÍŽENÝCH POVRCHŮ S VYUŽITÍM VYBRANÝCH POSTUPŮ ZPRACOVÁNÍ SIGNÁLU AKUSTICKÉ EMISE Ing. 1 /12 Název práce: DIAGNOSTIKA KONTAKTNĚ ZATÍŽENÝCH POVRCHŮ S VYUŽITÍM VYBRANÝCH POSTUPŮ ZPRACOVÁNÍ SIGNÁLU AKUSTICKÉ EMISE Školitel: doc.ing. Pavel Mazal CSc Ing. 2 /12 Obsah Úvod do problematiky

Více

Vysokoenergetická implantace iontů na Tandetronu 4130MC v ÚJF Řež

Vysokoenergetická implantace iontů na Tandetronu 4130MC v ÚJF Řež Vysokoenergetická implantace iontů na Tandetronu 4130MC v ÚJF Řež Havránek Vladimír, Hnatowicz Vladimír, Macková Anna, Novotný Jiří, Vacík Jiří, Voseček Václav Ustav jaderné fyziky AVČR, v.v.i, 250 68,

Více

Využití plazmových metod ve strojírenství. Metody depozice povlaků a tenkých vrstev

Využití plazmových metod ve strojírenství. Metody depozice povlaků a tenkých vrstev Využití plazmových metod ve strojírenství Metody depozice povlaků a tenkých vrstev Metody depozice povlaků Využití plazmatu pro depozice (nanášení) povlaků a tenkých vrstev je moderní a stále častěji aplikovaná

Více

Glass temperature history

Glass temperature history Glass Glass temperature history Crystallization and nucleation Nucleation on temperature Crystallization on temperature New Applications of Glass Anorganické nanomateriály se skelnou matricí Martin Míka

Více

Plazmová depozice tenkých vrstev oxidu zinečnatého

Plazmová depozice tenkých vrstev oxidu zinečnatého Plazmová depozice tenkých vrstev oxidu zinečnatého Bariérový pochodňový výboj za atmosférického tlaku Štěpán Kment Doc. Dr. Ing. Petr Klusoň Mgr. Zdeněk Hubička Ph.D. Obsah prezentace Úvod do problematiky

Více

COMPARISON PROPERTIES AND BEHAVIOUR OF SYSTEM WITH THIN FILMS PREPARED BY DIFFERENT TECHNOLOGIES

COMPARISON PROPERTIES AND BEHAVIOUR OF SYSTEM WITH THIN FILMS PREPARED BY DIFFERENT TECHNOLOGIES POROVNÁNÍ VLASTNOSTÍ A CHOVÁNÍ SYSTÉMŮ S TENKÝMI VRSTVAMI Z RŮZNÝCH TECHNOLOGICKÝCH PROCESŮ COMPARISON PROPERTIES AND BEHAVIOUR OF SYSTEM WITH THIN FILMS PREPARED BY DIFFERENT TECHNOLOGIES Ivo Štěpánek

Více

Nanokrystalické tenké filmy oxidu železitého pro solární štěpení vody

Nanokrystalické tenké filmy oxidu železitého pro solární štěpení vody Nanokrystalické tenké filmy oxidu železitého pro solární štěpení vody J. Frydrych, L. Machala, M. Mašláň, J. Pechoušek, M. Heřmánek, I. Medřík, R. Procházka, D. Jančík, R. Zbořil, J. Tuček, J. Filip a

Více

Co je litografie? - technologický proces sloužící pro vytváření jemných struktur (obzvláště mikrostruktur a nanostruktur)

Co je litografie? - technologický proces sloužící pro vytváření jemných struktur (obzvláště mikrostruktur a nanostruktur) Co je litografie? - technologický proces sloužící pro vytváření jemných struktur (obzvláště mikrostruktur a nanostruktur) -přenesení dané struktury na povrch strukturovaného substrátu Princip - interakce

Více

Svazek pomalých pozitronů

Svazek pomalých pozitronů Svazek pomalých pozitronů pozitrony emitované + zářičem moderované pozitrony střední hloubka průniku Příklad: 0 z P z dz 1 Mg: -1 =154 m Al: -1 = 99 m Cu: -1 = 30 m z pravděpodobnost, p že pozitron pronikne

Více

NANOSTRUKTURY NA BÁZI UHLÍKU A POLYMERU PRO VYUŽITÍ V BIOELEKTRONICE A V MEDICÍNE

NANOSTRUKTURY NA BÁZI UHLÍKU A POLYMERU PRO VYUŽITÍ V BIOELEKTRONICE A V MEDICÍNE Nanotechnologie pro společnost, KAN400480701 NANOSTRUKTURY NA BÁZI UHLÍKU A POLYMERU PRO VYUŽITÍ V BIOELEKTRONICE A V MEDICÍNE Řež, březen 2007 Graduates with B.S. in Chemical Engineering ( universal engineers

Více

Co všechno umí urychlovač TANDETRON a jak vlastně funguje?

Co všechno umí urychlovač TANDETRON a jak vlastně funguje? Co všechno umí urychlovač TANDETRON a jak vlastně funguje? AnnaMacková** 24. listopadu 2006 1 Úvod Cílem přednášky bylo představit nové unikátní zařízení, které přitáhlo i zájem médií. Myslím,žejevelmipotřebnéstudentůmukazovat,jaksevědavnašemstátěrozvíjíaje

Více

CYKLICKÁ VRYPOVÁ ZKOUŠKA PRO HODNOCENÍ VÝVOJE PORUŠENÍ A V APROXIMACI ZKOUŠKY OPOTŘEBENÍ. Markéta Podlahová, Ivo Štěpánek, Martin Hrdý

CYKLICKÁ VRYPOVÁ ZKOUŠKA PRO HODNOCENÍ VÝVOJE PORUŠENÍ A V APROXIMACI ZKOUŠKY OPOTŘEBENÍ. Markéta Podlahová, Ivo Štěpánek, Martin Hrdý CYKLICKÁ VRYPOVÁ ZKOUŠKA PRO HODNOCENÍ VÝVOJE PORUŠENÍ A V APROXIMACI ZKOUŠKY OPOTŘEBENÍ. Markéta Podlahová, Ivo Štěpánek, Martin Hrdý Západočeská univerzita v Plzni, Univerzitní 22, 306 14 Plzeň, ČR,

Více

Metody analýzy povrchu

Metody analýzy povrchu Metody analýzy povrchu Metody charakterizace nanomateriálů I RNDr. Věra Vodičková, PhD. 2 Povrch pevné látky: Poslední monoatomární vrstva + absorbovaná monovrstva Ovlivňuje fyzikální vlastnosti (ukončení

Více

COMPARISON OF SYSTEM THIN FILM SUBSTRATE WITH VERY DIFFERENT RESISTANCE DURING INDENTATION TESTS. Matyáš Novák, Ivo Štěpánek

COMPARISON OF SYSTEM THIN FILM SUBSTRATE WITH VERY DIFFERENT RESISTANCE DURING INDENTATION TESTS. Matyáš Novák, Ivo Štěpánek POROVNÁNÍ SYSTÉMŮ TENKÁ VRSTVA SUBSTRÁT S VELICE ROZDÍLNOU ODOLNOSTÍ PŘI INDENTAČNÍCH ZKOUŠKÁCH COMPARISON OF SYSTEM THIN FILM SUBSTRATE WITH VERY DIFFERENT RESISTANCE DURING INDENTATION TESTS Matyáš Novák,

Více

galvanicky chemicky plazmatem ve vakuu Vrstvy ve vakuu MBE Vakuová fyzika 2 1 / 39

galvanicky chemicky plazmatem ve vakuu Vrstvy ve vakuu MBE Vakuová fyzika 2 1 / 39 Vytváření vrstev galvanicky chemicky plazmatem ve vakuu Vrstvy ve vakuu povlakování MBE měření tloušt ky vrstvy během depozice Vakuová fyzika 2 1 / 39 Velmi stručná historie (více na www.svc.org) 1857

Více

vodič u něho dochází k transportu el. nabitých částic, který je nevratný, dochází ke vzniku proudu a disipaci energie

vodič u něho dochází k transportu el. nabitých částic, který je nevratný, dochází ke vzniku proudu a disipaci energie Chování polymerů v elektrickém a magnetickém poli vodič u něho dochází k transportu el. nabitých částic, který je nevratný, dochází ke vzniku proudu a disipaci energie dielektrikum, izolant, nevodič v

Více

Přehled metod depozice a povrchových

Přehled metod depozice a povrchových Kapitola 5 Přehled metod depozice a povrchových úprav Tabulka 5.1: První část přehledu technologií pro depozici tenkých vrstev. Klasifikované podle použitého procesu (napařování, MBE, máčení, CVD (chemical

Více

Studentské projekty FÚUK 2013/2014

Studentské projekty FÚUK 2013/2014 Studentské projekty FÚUK 2013/2014 Měření propustnosti tenké ITO desky a kalibrace osvětlení Konzultant: Mgr. Jakub Zázvorka (zazvorka.jakub@gmail.com) Tenké filmy polovodičového materiálu ITO ( oxid india

Více

13. Spektroskopie základní pojmy

13. Spektroskopie základní pojmy základní pojmy Spektroskopicky významné OPTICKÉ JEVY absorpce absorpční spektrometrie emise emisní spektrometrie rozptyl rozptylové metody Evropský sociální fond Praha & EU: Investujeme do vaší budoucnosti

Více

METODY ANALÝZY POVRCHŮ

METODY ANALÝZY POVRCHŮ METODY ANALÝZY POVRCHŮ (c) - 2017 Povrch vzorku 3 definice IUPAC: Povrch: vnější část vzorku o nedefinované hloubce (Užívaný při diskuzích o vnějších oblastech vzorku). Fyzikální povrch: nejsvrchnější

Více

Diamantu podobné uhlíkové vrstvy pro pokrytí kloubních náhrad

Diamantu podobné uhlíkové vrstvy pro pokrytí kloubních náhrad České vysoké učení technické v Praze Fakulta biomedicínského inženýrství Diamantu podobné uhlíkové vrstvy pro pokrytí kloubních náhrad Ing. Petr Písařík petr.pisarik@fbmi.cvut.cz Kladno Listopad 2010 Cíl

Více

Vakuová technika. Výroba tenkých vrstev vakuové naprašování

Vakuová technika. Výroba tenkých vrstev vakuové naprašování VYSOKÉ UČENÍ TECHNICKÉ V BRNĚ FAKULTA ELEKTROTECHNIKY A KOMUNIKAČNÍCH TECHNOLOGIÍ Vakuová technika Výroba tenkých vrstev vakuové naprašování Tomáš Kahánek ID: 106518 Datum: 17.11.2010 Výroba tenkých vrstev

Více

Materiálový výzkum na ústavu anorganické chemie. Ondřej Jankovský

Materiálový výzkum na ústavu anorganické chemie. Ondřej Jankovský Materiálový výzkum na ústavu anorganické chemie Ondřej Jankovský ÚSTAV ANORGANICKÉ CHEMIE Koordinační chemie Materiály pro fotoniku Oxidové materiály Polovodiče a nanomateriály Teoretická chemie Vedoucí

Více

3. Vlastnosti skla za normální teploty (mechanické, tepelné, optické, chemické, elektrické).

3. Vlastnosti skla za normální teploty (mechanické, tepelné, optické, chemické, elektrické). PŘEDMĚTY KE STÁTNÍM ZÁVĚREČNÝM ZKOUŠKÁM V BAKALÁŘSKÉM STUDIU SP: CHEMIE A TECHNOLOGIE MATERIÁLŮ SO: MATERIÁLOVÉ INŽENÝRSTVÍ POVINNÝ PŘEDMĚT: NAUKA O MATERIÁLECH Ing. Alena Macháčková, CSc. 1. Souvislost

Více

Tenké vrstvy pro lékařství 1. Laserové vrstvy ( metody přípravy vrstev, laser, princip metody pulzní laserové depozice PLD, růst vrstev, )

Tenké vrstvy pro lékařství 1. Laserové vrstvy ( metody přípravy vrstev, laser, princip metody pulzní laserové depozice PLD, růst vrstev, ) Tenké vrstvy pro lékařství 1. Laserové vrstvy ( metody přípravy vrstev, laser, princip metody pulzní laserové depozice PLD, růst vrstev, ) 2. Vybrané vrstvy a aplikace - gradientní vrstvy, nanokrystalické

Více

10/21/2013. K. Záruba. Chování a vlastnosti nanočástic ovlivňuje. velikost a tvar (distribuce) povrchové atomy, funkční skupiny porozita stabilita

10/21/2013. K. Záruba. Chování a vlastnosti nanočástic ovlivňuje. velikost a tvar (distribuce) povrchové atomy, funkční skupiny porozita stabilita Chování a vlastnosti nanočástic ovlivňuje velikost a tvar (distribuce) povrchové atomy, funkční skupiny porozita stabilita K. Záruba Optická mikroskopie Elektronová mikroskopie (SEM, TEM) Fotoelektronová

Více

Iradiace tenké vrstvy ionty

Iradiace tenké vrstvy ionty Iradiace tenké vrstvy ionty Ve většině technologických aplikací dochází k depozici tenké vrstvy za nízké teploty > jsme v zóně I nebo T > vrstvá má sloupcovou strukturu, je porézní a hrubá. Ukazuje se,

Více

STANOVENÍ TVARU A DISTRIBUCE VELIKOSTI ČÁSTIC MODELOVÝCH TYPŮ NANOMATERIÁLŮ. Edita BRETŠNAJDROVÁ a, Ladislav SVOBODA a Jiří ZELENKA b

STANOVENÍ TVARU A DISTRIBUCE VELIKOSTI ČÁSTIC MODELOVÝCH TYPŮ NANOMATERIÁLŮ. Edita BRETŠNAJDROVÁ a, Ladislav SVOBODA a Jiří ZELENKA b STANOVENÍ TVARU A DISTRIBUCE VELIKOSTI ČÁSTIC MODELOVÝCH TYPŮ NANOMATERIÁLŮ Edita BRETŠNAJDROVÁ a, Ladislav SVOBODA a Jiří ZELENKA b a UNIVERZITA PARDUBICE, Fakulta chemicko-technologická, Katedra anorganické

Více

VLIV ZPŮSOBŮ OHŘEVU NA TEPLOTNÍ DEGRADACI TENKÝCH OTĚRUVZDORNÝCH PVD VRSTEV ZJIŠŤOVANÝCH POMOCÍ VYBRANÝCH METOD

VLIV ZPŮSOBŮ OHŘEVU NA TEPLOTNÍ DEGRADACI TENKÝCH OTĚRUVZDORNÝCH PVD VRSTEV ZJIŠŤOVANÝCH POMOCÍ VYBRANÝCH METOD 23. 25.11.2010, Jihlava, Česká republika VLIV ZPŮSOBŮ OHŘEVU NA TEPLOTNÍ DEGRADACI TENKÝCH OTĚRUVZDORNÝCH PVD VRSTEV ZJIŠŤOVANÝCH POMOCÍ VYBRANÝCH METOD Ing.Petr Beneš Ph.D. Doc.Dr.Ing. Antonín Kříž Katedra

Více

Hodnocení korozí odolnosti systémů tenká vrstva substrát v prostředí kompresorů

Hodnocení korozí odolnosti systémů tenká vrstva substrát v prostředí kompresorů Hodnocení korozí odolnosti systémů tenká vrstva substrát v prostředí kompresorů Analysis of Corrosion Resistance of Systems Thin Films Substrate in Compressors Environment Jiří Hána, Ivo Štěpánek, Radek

Více

Vybrané technologie povrchových úprav. Metody vytváření tenkých vrstev Doc. Ing. Karel Daďourek 2008

Vybrané technologie povrchových úprav. Metody vytváření tenkých vrstev Doc. Ing. Karel Daďourek 2008 Vybrané technologie povrchových úprav Metody vytváření tenkých vrstev Doc. Ing. Karel Daďourek 2008 Metody vytváření tenkých vrstev Vakuové metody dnes nejužívanější CVD Chemical vapour deposition PE CVD

Více

CHANGING IN ACOUSTIC EMISSION SIGNAL DURING SCRATCH INDENTATION ON DIFFERENT MATERIALS AND CORRELATION WITH MORPHOLOGY OF FAILURES

CHANGING IN ACOUSTIC EMISSION SIGNAL DURING SCRATCH INDENTATION ON DIFFERENT MATERIALS AND CORRELATION WITH MORPHOLOGY OF FAILURES ZMĚNY V PRŮBĚHU SIGNÁLU AKUSTICKÉ EMISE PŘI VRYPOVÉ INDENTACI NA RŮZNÝCH MATERIÁLECH A KORELACE S MORFOLOGIÍ PORUŠENÍ Abstrakt CHANGING IN ACOUSTIC EMISSION SIGNAL DURING SCRATCH INDENTATION ON DIFFERENT

Více

Pracoviště se dlouhodbě zabývá přípravou a charakterizací biokompatibilních nanovrstev a nanokompozitních materiálů pro biomedicínské aplikace.

Pracoviště se dlouhodbě zabývá přípravou a charakterizací biokompatibilních nanovrstev a nanokompozitních materiálů pro biomedicínské aplikace. SPOLEČNÉ PRACOVIŠTĚ ČVUT FBMI a 1. LF UK, PRAHA, ALBETROV LABORATOŘ EXCIMEROVÉHO LASERU (NANO LABORATOŘ) Pracoviště se dlouhodbě zabývá přípravou a charakterizací biokompatibilních nanovrstev a nanokompozitních

Více

VYSOKÉ UČENÍ TECHNICKÉ V BRNĚ Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií Ústav mikroelektroniky

VYSOKÉ UČENÍ TECHNICKÉ V BRNĚ Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií Ústav mikroelektroniky VYSOKÉ UČENÍ TECHNICKÉ V BRNĚ Fakulta elektrotechniky a komunikačních technologií Ústav mikroelektroniky Ing. Ondřej Hégr CHARAKTERIZACE NANOSTRUKTUR DEPONOVANÝCH VYSOKOFREKVENČNÍM MAGNETRONOVÝM NAPRAŠOVÁNÍM

Více

Elektronová mikroskopie SEM, TEM, AFM

Elektronová mikroskopie SEM, TEM, AFM Elektronová mikroskopie SEM, TEM, AFM Historie 1931 E. Ruska a M. Knoll sestrojili první elektronový prozařovací mikroskop 1939 první vyrobený elektronový mikroskop firma Siemens rozlišení 10 nm 1965 první

Více

HODNOCENÍ HLOUBKOVÝCH PROFILŮ MECHANICKÉHO CHOVÁNÍ POLYMERNÍCH MATERIÁLŮ POMOCÍ NANOINDENTACE

HODNOCENÍ HLOUBKOVÝCH PROFILŮ MECHANICKÉHO CHOVÁNÍ POLYMERNÍCH MATERIÁLŮ POMOCÍ NANOINDENTACE HODNOCENÍ HLOUBKOVÝCH PROFILŮ MECHANICKÉHO CHOVÁNÍ POLYMERNÍCH MATERIÁLŮ POMOCÍ NANOINDENTACE EVALUATION OF DEPTH PROFILE OF MECHANICAL BEHAVIOUR OF POLYMER MATERIALS BY NANOINDENTATION Marek Tengler,

Více

PREPARING OF AL AND SI SURFACE LAYERS ON BEARING STEEL

PREPARING OF AL AND SI SURFACE LAYERS ON BEARING STEEL METAL 28 PŘÍPRAVA ALITOSILITOVANÝH POVRHOVÝH VRSTEV NA LOŽISKOVÉ OELI PREPARING OF AL AND SI SURFAE LAYERS ON BEARING STEEL Pavel Doležal, Ladislav Čelko, Aneta Němcová, Lenka Klakurková, mona Pospíšilová

Více

VLASTNOSTI KŘEMÍKOVANÝCH VRSTEV NA TITANU PROPERTIES OF SILICONIZED LAYERS ON TITANIUM. Magda Morťaniková Michal Novák Dalibor Vojtěch

VLASTNOSTI KŘEMÍKOVANÝCH VRSTEV NA TITANU PROPERTIES OF SILICONIZED LAYERS ON TITANIUM. Magda Morťaniková Michal Novák Dalibor Vojtěch VLASTNOSTI KŘEMÍKOVANÝCH VRSTEV NA TITANU PROPERTIES OF SILICONIZED LAYERS ON TITANIUM Magda Morťaniková Michal Novák Dalibor Vojtěch Ústav kovových materiálů a korozního inženýrství, Vysoká škola chemicko-technologická

Více

Nanomateriály v medicíně a elektronice

Nanomateriály v medicíně a elektronice V.Švorčík, Ústav inženýrství pevných látek, VŠCHT Praha vaclav.svorcik@vscht.cz Nanomateriály v medicíně a elektronice Vysoká škola chemicko-technologická v Praze Fakulta chemické technologie Ústav inženýrství

Více

Metody charakterizace

Metody charakterizace Metody y strukturní analýzy Metody charakterizace nanomateriálů I Význam strukturní analýzy pro studium vlastností materiálů Experimentáln lní metody využívan vané v materiálov lovém m inženýrstv enýrství:

Více

Úvod do spektrálních metod pro analýzu léčiv

Úvod do spektrálních metod pro analýzu léčiv Evropský sociální fond Praha & EU: Investujeme do vaší budoucnosti Úvod do spektrálních metod pro analýzu léčiv Pavel Matějka, Vadym Prokopec pavel.matejka@vscht.cz pavel.matejka@gmail.com Vadym.Prokopec@vscht.cz

Více

Vliv reakčních podmínek na syntézu N - alkylbenzamidů v přítomnosti mikrovln

Vliv reakčních podmínek na syntézu N - alkylbenzamidů v přítomnosti mikrovln UNIVERZITA HRADEC KRÁLOVÉ Přírodovědecká fakulta Katedra chemie Zpráva o řešení projektu pro využití prostředků na institucionální podporu výzkumu a vývoje Pedagogické fakulty UHK - Specifický výzkum 2010/2126

Více

LEED (Low-Energy Electron Diffraction difrakce elektronů s nízkou energií)

LEED (Low-Energy Electron Diffraction difrakce elektronů s nízkou energií) LEED (Low-Energy Electron Diffraction difrakce elektronů s nízkou energií) RHEED (Reflection High-Energy Electron Diffraction difrakce elektronů s vysokou energií na odraz) Úvod Zkoumání povrchů pevných

Více

VŠB Technical University of Ostrava, Faculty of Mechanical engineering, 17. Listopadu 15, Ostrava Poruba, Czech Republic

VŠB Technical University of Ostrava, Faculty of Mechanical engineering, 17. Listopadu 15, Ostrava Poruba, Czech Republic SIMULACE PROTLAČOVÁNÍ SLITIN Al NÁSTROJEM ECAP S UPRAVENOU GEOMETRIÍ A POROVNÁNÍ S EXPERIMENTY Abstrakt Jan Kedroň, Stanislav Rusz, Stanislav Tylšar VŠB Technical University of Ostrava, Faculty of Mechanical

Více

Plazmatické metody pro úpravu povrchů

Plazmatické metody pro úpravu povrchů Plazmatické metody pro úpravu povrchů Aleš Kolouch Technická Univerzita v Liberci Studentská 2 461 17 Liberec 1 Obsah 1. Plazma 2. Plazmové stříkání 3. Plazmové leptání 4. PVD 5. PECVD 6. Druhy reaktorů

Více

Vlastnosti tenkých DLC vrstev

Vlastnosti tenkých DLC vrstev Vlastnosti tenkých DLC vrstev Ing. Vladimír Jech ČVUT v Praze, FS, Technická 4, 16607 Praha Abstrakt Vrstvy DLC nacházejí díky svým jedinečným vlastnostem stále širší oblasti využití. Vyznačují se vysokou

Více

Oddělení fyziky vrstev a povrchů makromolekulárních struktur

Oddělení fyziky vrstev a povrchů makromolekulárních struktur Oddělení fyziky vrstev a povrchů makromolekulárních struktur Témata diplomových prací 2014/2015 Studium změn elektrické vodivosti emeraldinových solí vystavených pokojovým a mírně zvýšeným teplotám klíčová

Více

TECHNOLOGICKÉ PROCESY PŘI VÝROBĚ POLOVODIČOVÝCH PRVKŮ III.

TECHNOLOGICKÉ PROCESY PŘI VÝROBĚ POLOVODIČOVÝCH PRVKŮ III. TECHNOLOGICKÉ PROCESY PŘI VÝROBĚ POLOVODIČOVÝCH PRVKŮ III. NANÁŠENÍ VRSTEV V mikroelektronice se nanáší tzv. tlusté a tenké vrstvy. a) Tlusté vrstvy: Používají se v hybridních integrovaných obvodech. Nanáší

Více

MODELOVÁNÍ PLANÁRNÍCH ANTÉN POMOCÍ UMĚLÝCH NEURONOVÝCH SÍTÍ

MODELOVÁNÍ PLANÁRNÍCH ANTÉN POMOCÍ UMĚLÝCH NEURONOVÝCH SÍTÍ ÚSTAV RADIOELEKTRONIKY MODELOVÁNÍ PLANÁRNÍCH ANTÉN POMOCÍ UMĚLÝCH NEURONOVÝCH SÍTÍ Pojednání o disertační práci Doktorand: Ing. Zbyněk Raida Školitel: Prof. Ing. Dušan Černohorský, CSc. Brno, duben 2003

Více

Nabídkový list spolupráce 2014

Nabídkový list spolupráce 2014 Nabídkový list spolupráce 2014 Fyzikální ústav AV ČR v Praze Centrum pro inovace a transfer technologií www.citt.cz 2014 Kontaktní osoba prof. Jan Řídký, DrSc. e-mail: ridky@fzu.cz citt@fzu.cz tel: 266

Více

VLIV PŘÍPRAVY POVRCHU A NEHOMOGENIT TLOUŠŤKY VRSTEV NA CHOVÁNÍ TENKOVRSTVÝCH SYSTÉMŮ

VLIV PŘÍPRAVY POVRCHU A NEHOMOGENIT TLOUŠŤKY VRSTEV NA CHOVÁNÍ TENKOVRSTVÝCH SYSTÉMŮ VLIV PŘÍPRAVY POVRCHU A NEHOMOGENIT TLOUŠŤKY VRSTEV NA CHOVÁNÍ TENKOVRSTVÝCH SYSTÉMŮ INFLUENCE OF PREPARING SURFACE AND INHOMOGENEITY OF THICKNESS FILMS ON BEHAVIOUR THIN FILMS SYSTEMS Abstrakt Ivo ŠTĚPÁNEK

Více

FUNKČNÍ VZOREK FUNKČNÍ VZOREK ZAŘÍZENÍ HTPL-A PRO MĚŘENÍ RELATIVNÍ TOTÁLNÍ EMISIVITY POVLAKŮ

FUNKČNÍ VZOREK FUNKČNÍ VZOREK ZAŘÍZENÍ HTPL-A PRO MĚŘENÍ RELATIVNÍ TOTÁLNÍ EMISIVITY POVLAKŮ ODBOR TERMOMECHANIKA TECHNOLOGICKÝCH PROCESŮ FUNKČNÍ VZOREK FUNKČNÍ VZOREK ZAŘÍZENÍ HTPL-A PRO MĚŘENÍ RELATIVNÍ TOTÁLNÍ EMISIVITY POVLAKŮ Autor: Ing. Zdeněk Veselý, Ph.D. Doc. Ing. Milan Honner, Ph.D.

Více

K otázce pokrytí publikační aktivity českých vysokých škol v bibliografických bázích dat

K otázce pokrytí publikační aktivity českých vysokých škol v bibliografických bázích dat K otázce pokrytí publikační aktivity českých vysokých škol v bibliografických bázích dat Jaroslav Šilhánek Vysoká škola chemicko-technologická v Praze silhanek@vscht.cz Publikované rozdíly jako výchozí

Více

Zpráva o plnění výzkumného záměru v roce 2007

Zpráva o plnění výzkumného záměru v roce 2007 Zpráva o plnění výzkumného záměru v roce 2007 Číslo tématické skupiny: 444 05 0610 Zodpovědný pracovník: Doc. Ing. Karel Kadlec, CSc. Téma: 2b) Senzory a aplikace senzorů pro monitorování a řízení chemických

Více

Fotoelektronová spektroskopie Instrumentace. Katedra materiálů TU Liberec

Fotoelektronová spektroskopie Instrumentace. Katedra materiálů TU Liberec Fotoelektronová spektroskopie Instrumentace RNDr. Věra V Vodičkov ková,, PhD. Katedra materiálů TU Liberec Obecné schéma metody Dopad rtg záření emitovaného ze zdroje na vzorek průnik fotonů několik µm

Více

Optika a nanostruktury na KFE FJFI

Optika a nanostruktury na KFE FJFI Optika a nanostruktury na KFE FJFI Marek Škereň 28. 11. 2012 www: email: marek.skeren@fjfi.cvut.cz tel: 221 912 825 mob: 608 181 116 Skupina optické fyziky Fakulta jaderná a fyzikálně inženýrská České

Více

Zobrazovací systémy v transmisní radiografii a kvalita obrazu. Kateřina Boušková Nemocnice Na Františku

Zobrazovací systémy v transmisní radiografii a kvalita obrazu. Kateřina Boušková Nemocnice Na Františku Zobrazovací systémy v transmisní radiografii a kvalita obrazu Kateřina Boušková Nemocnice Na Františku Rentgenové záření Elektromagnetické záření o λ= 10-8 10-13 m V lékařství obvykle zdrojem rentgenová

Více

NOVÁ METODIKA PŘÍPRAVY 1 MM FÓLIÍ PRO TEM ANALÝZU AUSTENITICKÝCH OCELÍ OZÁŘENÝCH NEUTRONY. Kontaktní e-mail: bui@cvrez.cz

NOVÁ METODIKA PŘÍPRAVY 1 MM FÓLIÍ PRO TEM ANALÝZU AUSTENITICKÝCH OCELÍ OZÁŘENÝCH NEUTRONY. Kontaktní e-mail: bui@cvrez.cz NOVÁ METODIKA PŘÍPRAVY 1 MM FÓLIÍ PRO TEM ANALÝZU AUSTENITICKÝCH OCELÍ OZÁŘENÝCH NEUTRONY Petra Bublíková 1, Vít Rosnecký 1, Jan Michalička 1, Eliška Keilová 2, Jan Kočík 2, Miroslava Ernestová 2 1 Centrum

Více

optické vlastnosti polymerů

optické vlastnosti polymerů optické vlastnosti polymerů V.Švorčík, vaclav.svorcik@vscht.cz Definice světelného paprsku světlo se šíří ze zdroje podél přímek (paprsky) Maxwell: světlo se šířív módech (videch) = = jediná možná cesta

Více

Základní typy článků:

Základní typy článků: Základní typy článků: Články z krystalického Si c on ta c t a ntire fle c tio n c o a tin g Tenkovrstvé články N -ty p e P -ty p e Materiály a technologie pro fotovoltaické články Nové materiály Gratzel,

Více

Problematika disertační práce a současný stav řešení. Filip Hort

Problematika disertační práce a současný stav řešení. Filip Hort Problematika disertační práce a současný stav řešení školitel: doc. Ing. Pavel Mazal, CSc. 2 /18 OBSAH Téma disertační práce Zdroje AE na ložiscích Úprava zkušebního zařízení Vyhodnocování experimentálních

Více

LŠVT 2007. Mechanické vlastnosti: jak a co lze měřm. ěřit na tenkých vrstvách. Jiří Vyskočil, Andrea Mašková HVM Plasma, Praha

LŠVT 2007. Mechanické vlastnosti: jak a co lze měřm. ěřit na tenkých vrstvách. Jiří Vyskočil, Andrea Mašková HVM Plasma, Praha Mechanické vlastnosti: jak a co lze měřm ěřit na tenkých vrstvách Jiří Vyskočil, Andrea Mašková HVM Plasma, Praha Prague, May 2005 OBSAH 1 mechanické vlastnosti objemových materiálů 1 tenké vrstvy a jejich

Více

RBS (Rutherford Backscattering Spectrometry) + ERDA (Elastic Recoil Detection) PIXE (Particle Induced X-ray Emission)

RBS (Rutherford Backscattering Spectrometry) + ERDA (Elastic Recoil Detection) PIXE (Particle Induced X-ray Emission) RBS (Rutherford Backscattering Spectrometry) + ERDA (Elastic Recoil Detection) PIXE (Particle Induced X-ray Emission) V ČR lze tyto a další metody používat na AV v Řeži u Prahy odkud je také většina v

Více

Vybrané spektroskopické metody

Vybrané spektroskopické metody Vybrané spektroskopické metody a jejich porovnání s Ramanovou spektroskopií Předmět: Kapitoly o nanostrukturách (2012/2013) Autor: Bc. Michal Martinek Školitel: Ing. Ivan Gregora, CSc. Obsah přednášky

Více

Slitiny titanu pro použití (nejen) v medicíně

Slitiny titanu pro použití (nejen) v medicíně Slitiny titanu pro použití (nejen) v medicíně Josef Stráský a spol. Katedra fyziky materiálů MFF UK Obsah Vývoj slitin Ti pro použití v ortopedii Spolupráce: Beznoska s.r.o., Kladno Ultrajemnozrnné slitiny

Více

Technologie kompozitního povlakování a tribologické výsledky Zn-PTFE

Technologie kompozitního povlakování a tribologické výsledky Zn-PTFE Technologie kompozitního povlakování a tribologické výsledky Zn-PTFE Petr Drašnar, Petr Roškanin, Jan Kudláček, Viktor Kreibich 1) Miroslav Valeš, Linda Diblíková, Martina Pazderová 2) Ján Pajtai 3) 1)ČVUT

Více

SPOLUPRÁCE WESTINGHOUSE S ČVUT A FZÚ AV ČR

SPOLUPRÁCE WESTINGHOUSE S ČVUT A FZÚ AV ČR SPOLUPRÁCE WESTINGHOUSE S ČVUT A FZÚ AV ČR NA PROJEKTU OCHRANY POVRCHU ZIRKONIOVÝCH SLITIN KOMPOZITNÍMI POLYKRYSTALICKÝMI DIAMANTOVÝMI POVLAKY (2014 2016) Michal Šimoník Customer Account Engineer Květen

Více

ZMENY POVRCHOVÝCH MECHANICKÝCH VLASTNOSTÍ SYSTÉMU S TENKÝMI VRSTVAMI PO KOMBINOVANÉM NAMÁHÁNÍ. Roman Reindl, Ivo Štepánek

ZMENY POVRCHOVÝCH MECHANICKÝCH VLASTNOSTÍ SYSTÉMU S TENKÝMI VRSTVAMI PO KOMBINOVANÉM NAMÁHÁNÍ. Roman Reindl, Ivo Štepánek ZMENY POVRCHOVÝCH MECHANICKÝCH VLASTNOSTÍ SYSTÉMU S TENKÝMI VRSTVAMI PO KOMBINOVANÉM NAMÁHÁNÍ Roman Reindl, Ivo Štepánek Západoceská univerzita v Plzni, Univerzitní 22, 306 14 Plzen, CR, ivo.stepanek@volny.cz

Více

Interakce laserového impulsu s plazmatem v souvislosti s inerciální fúzí zapálenou rázovou vlnou

Interakce laserového impulsu s plazmatem v souvislosti s inerciální fúzí zapálenou rázovou vlnou Interakce laserového impulsu s plazmatem v souvislosti s inerciální fúzí zapálenou rázovou vlnou Autor práce: Petr Valenta Vedoucí práce: Ing. Ondřej Klimo, Ph.D. Konzultanti: prof. Ing. Jiří Limpouch,

Více

REAKTIVNÍ MAGNETRONOVÉ NAPRAŠOV. Jan VALTER HVM Plasma s.r.o. www.hvm.cz

REAKTIVNÍ MAGNETRONOVÉ NAPRAŠOV. Jan VALTER HVM Plasma s.r.o. www.hvm.cz REAKTIVNÍ MAGNETRONOVÉ NAPRAŠOV OVÁNÍ Jan VALTER SCHEMA REAKTIVNÍHO NAPRAŠOV OVÁNÍ zdroj výboje katoda odprašovaný terč plasma inertní napouštění plynů reaktivní zdroj předpětí p o v l a k o v a n é s

Více

F6450. Vakuová fyzika 2. Vakuová fyzika 2 1 / 32

F6450. Vakuová fyzika 2.   Vakuová fyzika 2 1 / 32 F6450 Vakuová fyzika 2 Pavel Slavíček email: ps94@sci.muni.cz Vakuová fyzika 2 1 / 32 Osnova Vázané plyny Sorpční vývěvy kryogenní zeolitové sublimační iontové getrové - vypařované, nevypařované (NEG)

Více

Polohově citlivá spektrometrie s pixelovými detektory Timepix

Polohově citlivá spektrometrie s pixelovými detektory Timepix Polohově citlivá spektrometrie s pixelovými detektory Timepix J. Jakůbek, A. Cejnarová, S. Pospíšil, J. Uher Abstrakt Polovodičový pixelový detektor Timepix je novým členem rodiny Medipix. Konstrukčně

Více

Technologie CMOS. Je to velmi malý svět. Technologie CMOS Lokální oxidace. Vytváření izolačních příkopů. Vytváření izolačních příkopů

Technologie CMOS. Je to velmi malý svět. Technologie CMOS Lokální oxidace. Vytváření izolačních příkopů. Vytváření izolačních příkopů Je to velmi malý svět Technologie CMOS Více než 2 000 000 tranzistorů v 45nm technologii může být integrováno na plochu tečky za větou. From The Oregonian, April 07, 2008 Jiří Jakovenko Struktury integrovaných

Více

1. Řešitelský kolektiv: VŠCHT Praha: Prof. Dr. Ing. Josef Krýsa Ing. Jiří Zita, PhD Ing. Martin Zlámal

1. Řešitelský kolektiv: VŠCHT Praha: Prof. Dr. Ing. Josef Krýsa Ing. Jiří Zita, PhD Ing. Martin Zlámal Příloha - Závěrečná zpráva - Centralizovaný projekt č. C40: Laboratoř pro přípravu a testování samočisticích vlastností tenkých nanočásticových vrstev Program na podporu vzájemné spolupráce vysokých škol

Více